WO2024132352A1 - Optisches system und projektionsbelichtungsanlage - Google Patents

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WO2024132352A1
WO2024132352A1 PCT/EP2023/082725 EP2023082725W WO2024132352A1 WO 2024132352 A1 WO2024132352 A1 WO 2024132352A1 EP 2023082725 W EP2023082725 W EP 2023082725W WO 2024132352 A1 WO2024132352 A1 WO 2024132352A1
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WO
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decoupling
component
bushing
optical system
fastening
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Application number
PCT/EP2023/082725
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English (en)
French (fr)
Inventor
Maximilian Schwenk
Original Assignee
Carl Zeiss Smt Gmbh
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Publication date
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Publication of WO2024132352A1 publication Critical patent/WO2024132352A1/de

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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
    • G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
    • G02B17/0668—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror having non-imaging properties
    • G02B17/0673—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror having non-imaging properties for light condensing, e.g. for use with a light emitter
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/18—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical projection, e.g. combination of mirror and condenser and objective
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
    • G02B7/192—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors with means for minimising internal mirror stresses not in use

Definitions

  • the present invention relates to an optical system and a projection exposure apparatus with such an optical system.
  • Microlithography is used to produce microstructured components, such as integrated circuits.
  • the microlithography process is carried out using a lithography system that has an illumination system and a projection system.
  • the image of a mask (reticle) illuminated by the illumination system is projected by the projection system onto a substrate, such as a silicon wafer, that is coated with a light-sensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system in order to transfer the mask structure onto the light-sensitive coating of the substrate.
  • a projection system as mentioned above can have a sensor frame to which optical elements in the form of measurement targets are attached, which are measured, for example, with the aid of an interferometer.
  • the optical elements can be attached to the sensor frame and the interferometer to another component.
  • a fastening device with a socket glued into the optical element can be used.
  • this fastening device has spherical cap-shaped spacers.
  • the bushing glued into the optical element also has a spherical cap-shaped contact surface, against which one of the spacers rests. Due to unfavorable friction conditions or also due to manufacturing-related shape deviations, so that the lever ratios change unfavorably, it can happen that the spacers do not slide into their optimal position, i.e. do not ball in optimally. The resulting misalignment between the optical element and the sensor frame can generate a moment that can lead to an unwanted deformation of the optical element.
  • an object of the present invention is to provide an improved optical system.
  • the optical system comprises a first component, a second component and a fastening device, with the aid of which the second component is fastened to the first component, wherein the fastening device has a decoupling bushing for mechanically decoupling the second component from the first component, and wherein the decoupling bushing has a decoupling groove that reduces the rigidity of the decoupling bush.
  • the decoupling bushing has the decoupling groove, it is possible to mechanically decouple the second component from the first component in such a way that no parasitic forces or moments are transmitted to the second component, which could deform the second component in an undesirable manner.
  • the optical system is preferably a projection optics or part of such a projection optics of the projection exposure system.
  • the optical system can also be an illumination system or part of such an illumination system of the projection exposure system.
  • the first component is preferably a sensor frame and can therefore also be referred to as such. This means in particular that the terms "first component” and "sensor frame” can be interchanged as desired.
  • the first component can also be any other support structure that supports the second component. Exactly one decoupling groove can be provided. However, several, for example two, decoupling grooves can also be provided.
  • the second component is preferably an optical element and can therefore also be referred to as such. Accordingly, the terms “second component” and “optical element” can be interchanged as desired.
  • the second component is a measurement target or measurement objective.
  • the second component is made of a glass ceramic, for example.
  • the second component has in particular an optically effective surface.
  • the optically effective surface can be a mirror surface.
  • the optically effective surface is designed to reflect light, in particular a laser beam.
  • the optical System may include an interferometer which is connected to the optically effective
  • the optical system is assigned a coordinate system with a first spatial direction or x-direction, a second spatial direction or y-direction and a third spatial direction or z-direction.
  • the z-direction corresponds to a symmetry or central axis of the fastening device or the decoupling bushing or is arranged parallel to it.
  • the x-direction and the y-direction are each arranged perpendicular to the central axis and perpendicular to each other.
  • an "angular error” is understood to mean a tilting of the second component relative to the first component around the x-direction and/or the y-direction.
  • the second component has six degrees of freedom, namely three translational degrees of freedom along the x-direction, the y-direction and the z-direction, and three rotational degrees of freedom around the x-direction, the y-direction and the z-direction. This means that a position and an orientation of the second component can be determined or described using the six degrees of freedom.
  • the "position” of the second component refers in particular to its coordinates in the x-direction, the y-direction and the z-direction.
  • the “orientation” of the second component refers in particular to its tilt in the three directions. This results in the six degrees of freedom for the position and orientation of the second component.
  • a “location” of the second component includes both its position and its orientation. The term “location” can therefore be replaced by the wording "position and orientation” and vice versa.
  • the position of the second component can be recorded using the interferometer, for example.
  • the fastening device connects the second component to the first component. In particular, the first component supports the second component.
  • the fastening device is preferably designed to be rotationally symmetrical to its central axis.
  • the fastening device preferably comprises a first sleeve and a second sleeve, which can be mounted on an opening in the first component.
  • the first sleeve and the second sleeve can be supported on the first component, so that the first component is clamped between the first sleeve and the second sleeve.
  • the first sleeve and the second sleeve can be screwed together.
  • the first contact surface of the decoupling bush is preferably a circular ring that is located as far out as possible with respect to a radial direction of the decoupling bush.
  • the threaded pin is guided through the first spherical cap element and the spacer.
  • the decoupling bushing is arranged between the first spherical cap element or the spacer and a second spherical cap element.
  • the decoupling bushing preferably has a second contact surface facing away from the first contact surface, which is designed in the shape of a spherical cap.
  • the second spherical cap element rests on the second contact surface of the decoupling bushing with a first spherical cap-shaped contact surface.
  • the second spherical cap element preferably has a flat second contact surface facing away from the first contact surface.
  • a nut screwed onto the threaded pin rests on the second contact surface.
  • the two spherical cap elements, the decoupling bushing, the spacer(s) and the sleeves can be clamped together using the nut. This creates a torque-free screw connection.
  • the threaded pin is stretched in the process.
  • the second component has an opening in which the decoupling bushing is accommodated at least in sections.
  • the decoupling bushing is in particular glued into the opening.
  • the decoupling bushing is preferably made of a different material than the second component.
  • the decoupling bushing is made of an iron-nickel alloy.
  • the decoupling bushing mechanically decouples the first component and the second component from each other is to be understood in particular to mean that the decoupling bushing facilitates the transmission of forces and/or moments from the first component to the second component and Conversely, this is prevented or at least reduced. This reliably prevents unwanted deformation of the second component.
  • the fact that the decoupling groove "reduces" the rigidity of the decoupling bushing is to be understood in particular to mean that the decoupling bushing has a lower rigidity due to the decoupling groove compared to a solid decoupling bushing.
  • the "rigidity” is to be understood here as the resistance of a body, in particular the decoupling bushing, to an elastic deformation imposed by an external load and conveys the connection between the load on the body and its deformation.
  • the rigidity is determined by the material of the body and its geometry. This means that the rigidity of the decoupling bushing can be varied within a wide range by a suitable selection of the material used and the geometry of the decoupling groove.
  • the compensation bushing can also, at least to a certain extent, compensate for angular errors between the first component and the second component.
  • the fact that the decoupling bushing "compensates” or “compensates” for angular errors between the first component and the second component is to be understood in particular to mean that the decoupling bushing can deform elastically due to its reduced rigidity due to the decoupling groove in such a way that the angular errors are compensated within the decoupling bushing itself. This can happen, for example, by allowing different sections of the decoupling bushing, for example a connecting section and a fastening section, to move relative to one another. The second component can therefore be brought into a desired position without forces being introduced into the second component via the decoupling bushing. Undesirable deformation of the second component is thereby reliably prevented.
  • the decoupling groove runs annularly around a central axis of the decoupling bushing.
  • the decoupling groove is an annular groove.
  • the terms “decoupling groove” and “annular groove” can therefore be interchanged as desired.
  • the central axis of the decoupling bushing can correspond to the central axis of the fastening device.
  • the decoupling bushing is preferably designed to be rotationally symmetrical to its central axis.
  • the decoupling groove preferably has a rectangular cross-section.
  • the decoupling groove can also have a round or rounded groove base.
  • the decoupling groove extends along the central axis of the decoupling bushing. Exactly one decoupling groove can be provided. However, several decoupling grooves can also be introduced into the decoupling bushing. For example, a first decoupling groove and a second decoupling groove that is different from the first decoupling groove are provided.
  • the decoupling bushing has a first decoupling groove and a second decoupling groove, wherein the first decoupling groove extends from a first end face of the decoupling bushing in the direction of a second end face of the decoupling bushing, and wherein the second decoupling groove extends from the second end face in the direction of the first end face.
  • the first decoupling groove is arranged within the second decoupling groove when viewed along a radial direction of the decoupling bushing.
  • the radial direction is perpendicular to the center axis of the decoupling bushing and oriented away from it.
  • the first decoupling groove is placed within the second decoupling groove when viewed along the radial direction, or the second decoupling groove is arranged outside the first decoupling groove when viewed along the radial direction.
  • the first decoupling groove and the second decoupling groove are thus nested within one another.
  • the first decoupling groove and the second decoupling groove overlap when viewed along the central axis.
  • the first decoupling groove covers the second decoupling groove when viewed along the radial direction and vice versa.
  • the first decoupling groove and the second decoupling groove are thus placed next to one another at least in sections when viewed along the central axis, wherein the first decoupling groove and the second decoupling groove are separated from one another by the aforementioned web.
  • the decoupling bushing has a connecting portion connected to the first component and a fastening portion connected to the second component, wherein the decoupling groove is arranged between the connecting portion and the fastening portion.
  • the decoupling groove mechanically decouples the connecting section from the fastening section.
  • “mechanical decoupling” is to be understood in particular as meaning that no or only minimal forces can be transferred from the connecting section to the fastening section and vice versa.
  • the connecting section is connected, in particular screwed, to the first component using the two spherical cap elements, the spacer, the two sleeves, the threaded pin and the nut.
  • the fastening section is preferably glued to the second component. In particular, the fastening section is glued into the opening in the second component.
  • the fastening section and the connecting section are each tubular or hollow-cylindrical.
  • the decoupling groove is provided between the connecting section and the fastening section.
  • the connecting section preferably has a central opening, in particular a bore, through which the threaded pin is guided without contact.
  • the connecting section and the fastening section are connected to one another only by means of a web acting as a solid-state joint.
  • the decoupling groove or the decoupling grooves separate the connecting section from the fastening section.
  • a connection between the connecting section and the fastening section is only realized with the help of the web.
  • the web is elastic, in particular spring-loaded. elastic, deformable. In this case, an "elastic deformation" is to be understood in particular as meaning that the web can be deformed by the application of a force or a
  • a "solid body joint” is understood to mean in particular an area of a component which allows a relative movement between two rigid body areas by bending.
  • the fastening section and the connecting section function as rigid body areas, between which the web is provided as an elastically deformable solid body joint.
  • the web can also be described as tubular or hollow-cylindrical.
  • the web preferably runs completely around the center axis of the decoupling bush.
  • the web also runs completely around the connecting section.
  • the web is arranged, viewed along the radial direction, in particular between the connecting section and the fastening section.
  • the web has slots breaking through the web.
  • the slots preferably run along the center axis of the decoupling bush.
  • the number of slots is arbitrary.
  • the slots are preferably evenly distributed around the center axis of the decoupling bush.
  • the slots can be used to further reduce the stiffness of the web, for example.
  • the slots can therefore be used to va- riated, in particular reduced.
  • the slots can have a rectangular geometry.
  • the connecting section has a flat first contact surface and a spherical cap-shaped second contact surface facing away from the first contact surface.
  • the spacer or the first spherical cap element rests on the first contact surface.
  • the second spherical cap element rests on the second contact surface.
  • the decoupling bushing has a first centering ring and a second centering ring for centering the decoupling bushing in an opening provided in the second component.
  • the first centering ring and the second centering ring preferably extend radially out of the aforementioned outer surface of the decoupling bushing or the fastening section when viewed in the radial direction.
  • the decoupling bushing is centered in the opening of the second component using the two centering rings.
  • the decoupling bushing has a first fastening ring and a second fastening ring for fastening the decoupling bushing to the opening, wherein the first fastening ring and the second fastening ring are arranged between the first centering ring and the second centering ring.
  • first fastening ring and the second fastening ring are arranged between the first Centering ring and the second centering ring.
  • the decoupling bushing is glued to the second component using the first fastening ring and the second fastening ring.
  • an adhesive layer is provided between the two fastening rings and the second component.
  • the fastening rings are therefore glued into the opening of the second component.
  • the decoupling bushing or the fastening rings are glued radially to the second component.
  • axial bonding can also be provided.
  • the decoupling bushing has exactly one fastening ring for fastening the decoupling bushing to the opening, wherein the fastening ring is arranged between the first centering ring and the second centering ring.
  • the fastening ring is arranged centrally between the first centering ring and the second centering ring when viewed along the center axis of the decoupling bush. This is a particularly advantageous arrangement.
  • the central arrangement of the fastening ring further reduces the introduction of forces and/or moments onto the second component. This results in a reduced lever arm.
  • the decoupling bushing is a one-piece component, in particular a one-piece component.
  • one-piece or “single-part” is to be understood in particular to mean that the decoupling bushing is not constructed from different sub-components, but that the connecting section, the fastening section and the web form a common component, namely the decoupling bushing.
  • one-piece is to be understood to mean that the decoupling bushing is made entirely from the same material.
  • an iron-nickel alloy can be used for the decoupling bush.
  • the optical system is preferably a projection optics of the projection exposure system.
  • the optical system can also be an illumination system.
  • the projection exposure system can be an EUV lithography system.
  • EUV stands for "Extreme Ultraviolet” and refers to a wavelength of the working light between 0.1 nm and 30 nm.
  • the projection exposure system can also be a DUV lithography system. DUV stands for “Deep Ultraviolet” and refers to a wavelength of the working light between 30 nm and 250 nm.
  • DUV stands for "Deep Ultraviolet” and refers to a wavelength of the working light between 30 nm and 250 nm.
  • lithography systems with longer wavelengths, for example at 365 nm, are also possible.
  • Fig. 1 shows a schematic meridional section of a projection exposure system for EUV projection lithography
  • Fig. 2 shows a schematic sectional view of an embodiment of an optical system for the projection exposure apparatus according to Fig. 1;
  • Fig. 3 shows a schematic sectional view of an embodiment of a decoupling socket for the optical system according to Fig. 2;
  • Fig. 4 shows a schematic plan view of the decoupling socket according to Fig. 3;
  • Fig. 5 shows a schematic bottom view of the decoupling bushing according to Fig. 3;
  • Fig. 6 shows a schematic sectional view of another embodiment of a decoupling socket for the optical system according to Fig. 2;
  • Fig. 7 shows a schematic sectional view of another embodiment of a decoupling socket for the optical system according to Fig. 2; and Fig. 8 shows a schematic sectional view of another embodiment of a decoupling socket for the optical system according to Fig. 2.
  • Fig. 1 shows an embodiment of a projection exposure system 1 (lithography system), in particular an EUV lithography system.
  • An embodiment of an illumination system 2 of the projection exposure system 1 has, in addition to a light or radiation source 3, an illumination optics 4 for illuminating an object field 5 in an object plane 6.
  • the light source 3 can also be provided as a separate module from the rest of the illumination system 2. In this case, the illumination system 2 does not include the light source 3.
  • a reticle 7 arranged in the object field 5 is exposed.
  • the reticle 7 is held by a reticle holder 8.
  • the reticle holder 8 can be displaced via a reticle displacement drive 9, in particular in a scanning direction.
  • a Cartesian coordinate system with an x-direction x, a y-direction y and a z-direction z is shown in Fig. 1.
  • the x-direction x runs perpendicularly into the drawing plane.
  • the y-direction y runs horizontally and the z-direction z runs vertically.
  • the scanning direction in Fig. 1 runs along the y-direction y.
  • the z-direction z runs perpendicular to the object plane 6.
  • the projection exposure system 1 comprises a projection optics 10.
  • the projection optics 10 serves to image the object field 5 into an image field 11 in a Image plane 12.
  • the image plane 12 runs parallel to the object plane 6. Alternatively, an angle other than 0° between the object plane 6 and the image plane 12 is also possible.
  • a structure on the reticle 7 is imaged onto a light-sensitive layer of a wafer 13 arranged in the area of the image field 11 in the image plane 12.
  • the wafer 13 is held by a wafer holder 14.
  • the wafer holder 14 can be displaced via a wafer displacement drive 15, in particular along the y direction y.
  • the displacement of the reticle 7 on the one hand via the reticle displacement drive 9 and the wafer 13 on the other hand via the wafer displacement drive 15 can be carried out in synchronization with one another.
  • the light source 3 is an EUV radiation source.
  • the light source 3 emits in particular EUV radiation 16, which is also referred to below as useful radiation, illumination radiation or illumination light.
  • the useful radiation 16 has in particular a wavelength in the range between 5 nm and 30 nm.
  • the light source 3 can be a plasma source, for example an LPP source (EnglJ Laser Produced Plasma, plasma generated with the aid of a laser) or a DPP source (EnglJ Gas Discharged Produced Plasma, plasma generated by means of gas discharge). It can also be a synchrotron-based radiation source.
  • the light source 3 can be a free-electron laser (EnglJ Free-Electron-Laser, FEL).
  • the illumination radiation 16, which emanates from the light source 3, is bundled by a collector 17.
  • the collector 17 can be a collector with one or more ellipsoidal and/or hyperboloidal reflection surfaces.
  • the at least one reflection surface of the collector 17 can be in grazing incidence (Gl), i.e. with angles of incidence greater than 45°, or in normal incidence (NI), i.e. with angles of incidence greater than 45°. angles of incidence smaller than 45°.
  • the collector 17 can be structured and/or coated on the one hand to optimize its reflectivity for the useful radiation and on the other hand to suppress stray light.
  • the intermediate focal plane 18 can represent a separation between a radiation source module, comprising the light source 3 and the collector 17, and the illumination optics 4.
  • the illumination optics 4 comprise a deflection mirror 19 and a first facet mirror 20 arranged downstream of this in the beam path.
  • the deflection mirror 19 can be a flat deflection mirror or alternatively a mirror with an effect that influences the bundle beyond the pure deflection effect. Alternatively or additionally, the deflection mirror 19 can be designed as a spectral filter that separates a useful light wavelength of the illumination radiation 16 from false light of a different wavelength.
  • the first facet mirror 20 is arranged in a plane of the illumination optics 4 that is optically conjugated to the object plane 6 as a field plane, it is also referred to as a field facet mirror.
  • the first facet mirror 20 comprises a plurality of individual first facets 21, which can also be referred to as field facets. Only a few of these first facets 21 are shown in Fig. 1 as examples.
  • the first facets 21 can be designed as macroscopic facets, in particular as rectangular facets or as facets with an arcuate or partially circular edge contour.
  • the first facets 21 can be designed as flat facets or alternatively as convex or concave curved facets.
  • the first facets 21 themselves can also be composed of a plurality of individual mirrors, in particular a plurality of micromirrors.
  • the first facet mirror 20 can in particular be designed as a microelectromechanical system (MEMS system).
  • MEMS system microelectromechanical system
  • the illumination radiation 16 runs horizontally, i.e. along the y-direction y.
  • a second facet mirror 22 is arranged downstream of the first facet mirror 20. If the second facet mirror 22 is arranged in a pupil plane of the illumination optics 4, it is also referred to as a pupil facet mirror. The second facet mirror 22 can also be arranged at a distance from a pupil plane of the illumination optics 4. In this case, the combination of the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22 is also referred to as a specular reflector. Specular reflectors are known from US 2006/0132747 A1, EP 1 614 008 B1 and US 6,573,978.
  • the second facet mirror 22 comprises a plurality of second facets 23.
  • the second facets 23 are also referred to as pupil facets.
  • the second facets 23 can also be macroscopic facets, which can be round, rectangular or hexagonal, for example, or alternatively facets composed of micromirrors. In this regard, reference is also made to DE 10 2008 009 600 A1.
  • the second facets 23 can have planar or alternatively convex or concave curved reflection surfaces.
  • the illumination optics 4 thus forms a double-faceted system.
  • This basic principle is also called a honeycomb condenser (EnglJ Fly's Eye Integrator).
  • the second facet mirror 22 may be arranged tilted relative to a pupil plane of the projection optics 10, as described, for example, in DE 10 2017 220 586 A1.
  • the second facet mirror 22 is the last bundle-forming or actually the last mirror for the illumination radiation 16 in the beam path in front of the object field 5.
  • a transmission optics can be arranged in the beam path between the second facet mirror 22 and the object field 5, which contributes in particular to the imaging of the first facets 21 in the object field 5.
  • the transmission optics can have exactly one mirror, but alternatively also two or more mirrors, which are arranged one behind the other in the beam path of the illumination optics 4.
  • the transmission optics can in particular comprise one or two mirrors for vertical incidence (Ni mirrors, normal incidence mirrors) and/or one or two mirrors for grazing incidence (GF mirrors, grazing incidence mirrors).
  • the illumination optics 4 has exactly three mirrors after the collector 17, namely the deflection mirror 19, the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.
  • the deflection mirror 19 can also be omitted, so that the illumination optics 4 can then have exactly two mirrors after the collector 17, namely the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.
  • the imaging of the first facets 21 by means of the second facets 23 or with the second facets 23 and a transmission optics into the object plane 6 is usually only an approximate imaging.
  • the projection optics 10 comprises a plurality of mirrors Mi, which are numbered according to their arrangement in the beam path of the projection exposure system 1.
  • the projection optics 10 comprises six mirrors M1 to M6. Alternatives with four, eight, ten, twelve or another number of mirrors Mi are also possible.
  • the projection optics 10 are doubly obscured optics.
  • the penultimate mirror M5 and the last mirror M6 each have a passage opening for the illumination radiation 16.
  • the projection optics 10 have a numerical aperture on the image side that is greater than 0.5 and can also be greater than 0.6 and can be, for example, 0.7 or 0.75. However, the numerical aperture can also be less than 0.5.
  • Reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as free-form surfaces without a rotational symmetry axis.
  • the reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as aspherical surfaces with exactly one rotational symmetry axis the reflection surface shape.
  • the mirrors Mi can, just like the mirrors of the illumination optics 4, have highly reflective coatings for the illumination radiation 16. These coatings can be designed as multilayer coatings, in particular with alternating layers of molybdenum and silicon.
  • the projection optics 10 have a large object-image offset in the y-direction y between a y-coordinate of a center of the object field 5 and a y-coordinate of the center of the image field 11.
  • This object-image offset in the y-direction y can be approximately as large as a z-distance between the object plane 6 and the image plane 12.
  • the projection optics 10 can in particular be anamorphic. In particular, it has different image scales ßx, ßy in the x and y directions x, y.
  • a positive image scale ß means an image without image inversion.
  • a negative sign for the image scale ß means an image with image inversion.
  • the projection optics 10 thus leads to a reduction in the ratio 44 in the x-direction x, i.e. in the direction perpendicular to the scanning direction.
  • the projection optics 10 leads to a reduction of 84 in the y-direction y, i.e. in the scanning direction.
  • Image scales are also possible. Image scales with the same sign and absolutely the same in the x and y directions x, y, for example with absolute values of 0.125 or 0.25, are also possible.
  • the number of intermediate image planes in the x and y directions x, y in the beam path between the object field 5 and the image field 11 can be the same or can be different depending on the design of the projection optics 10. Examples of projection optics with different numbers of such intermediate images in the x and y directions x, y are known from US 2018/0074303 Al.
  • Each of the second facets 23 is assigned to exactly one of the first facets 21 to form a respective illumination channel for illuminating the object field 5. This can result in particular in illumination according to the Köhler principle.
  • the far field is broken down into a plurality of object fields 5 using the first facets 21.
  • the first facets 21 generate a plurality of images of the intermediate focus on the second facets 23 assigned to them.
  • the first facets 21 are each imaged onto the reticle 7 by an associated second facet 23, superimposed on one another, to illuminate the object field 5.
  • the illumination of the object field 5 is in particular as homogeneous as possible. It preferably has a uniformity error of less than 2%.
  • the field uniformity can be achieved by superimposing different illumination channels.
  • the illumination of the entrance pupil of the projection optics 10 can be defined geometrically.
  • the intensity distribution in the entrance pupil of the projection optics 10 can be set. This intensity distribution is also referred to as the illumination setting or illumination pupil filling.
  • a likewise preferred pupil uniformity in the area of defined illuminated sections of an illumination pupil of the illumination optics 4 can be achieved by a redistribution of the illumination channels.
  • the projection optics 10 can in particular have a homocentric entrance pupil. This can be accessible. It can also be inaccessible.
  • the entrance pupil of the projection optics 10 cannot usually be illuminated precisely with the second facet mirror 22.
  • the projection optics 10 images the center of the second facet mirror 22 telecentrically onto the wafer 13, the aperture rays often do not intersect at a single point.
  • a surface can be found in which the pairwise determined distance of the aperture rays is minimal. This surface represents the entrance pupil or a surface conjugated to it in spatial space. In particular, this surface shows a finite curvature.
  • the projection optics 10 have different positions of the entrance pupil for the tangential and the sagittal beam path.
  • an imaging element in particular an optical component of the transmission optics, should be provided between the second facet mirror 22 and the reticle 7. With the help of this optical element, the different positions of the tangential entrance pupil and the sagittal entrance pupil can be taken into account.
  • the second facet mirror 22 is arranged in a direction perpendicular to the entrance pupil of the Projection optics 10 conjugated surface.
  • the first facet mirror 20 is arranged tilted to the object plane 6.
  • the first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the deflection mirror 19.
  • the first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the second facet mirror 22.
  • Fig. 2 shows a schematic sectional view of an embodiment of an optical system 100 for the projection exposure apparatus 1.
  • the optical system 100 can be part of a projection optics 10 as explained above. However, the optical system 100 can also be part of an illumination optics 4 as mentioned above. However, it is assumed below that the optical system 100 is part of such a projection optics 4.
  • the optical system 100 is suitable for DUV lithography. However, the optical system 100 can also be suitable for EUV lithography.
  • the optical system 100 has a first component 102.
  • the first component 102 is preferably a sensor frame and can therefore also be referred to as such.
  • the first component 102 has a top side 104 and a bottom side 106 facing away from the top side 104.
  • An opening 108 breaks through the first component 102.
  • the opening 108 can be a bore.
  • the optical system 100 has a second component 110.
  • the second component 110 is preferably an optical element and can therefore also be referred to as such.
  • the second component 110 is a measurement target or measurement objective.
  • the second component 110 is made from a glass ceramic, for example.
  • the second component 110 has an optically effective surface 112 oriented downwards in the orientation of Fig. 2.
  • the optically effective surface 112 is a mirror surface.
  • the optically effective surface 112 can be realized by a coating.
  • the second component 110 has a rear side 114 facing away from the optically effective surface 112.
  • the rear side 114 has no defined optical properties.
  • the rear side 114 faces the underside 106 of the first component 102.
  • An opening 116 breaks through the second component 110.
  • the opening 116 can be a hole.
  • the second component 110 is fastened to the first component 102 by means of a fastening device 118.
  • the fastening device 118 is assigned a symmetry or central axis 120, to which the fastening device 118 is constructed rotationally symmetrically.
  • the fastening device 118 has a first sleeve 122 and a second sleeve 124.
  • the first sleeve 122 rests on the upper side 104 of the first component 102 and is at least partially guided through the opening 108.
  • the first sleeve 122 is made of stainless steel, for example.
  • the second sleeve 124 rests against the underside 106 of the first component 102 and is guided through the opening 108 at least in sections.
  • the second sleeve 124 is made, for example, from an iron-nickel alloy.
  • the second sleeve 124 has a spherical cap-shaped contact surface 126.
  • a "spherical cap” is understood to mean a section of a sphere.
  • the first sleeve 122 and the second sleeve 124 are screwed together (not shown), so that the first component 102 is clamped between the two sleeves 122, 124.
  • the first sleeve 122 is screwed into the second sleeve 124.
  • the fastening device 118 further comprises a threaded pin 128 which is screwed into the first sleeve 122.
  • the threaded pin 128 is guided through the second sleeve 124 and thus also through the opening 108 of the first component 102 and through the opening 116 of the second component 110.
  • the threaded pin 128 can be made of stainless steel.
  • a first spherical cap element 130 rests on the contact surface 126 of the second sleeve 124.
  • the first spherical cap element 130 is preferably made of stainless steel.
  • the threaded pin 128 is guided through the center of the first spherical cap element 130.
  • the first spherical cap element 130 has a spherical cap-shaped first contact surface 132 with which the first spherical cap element 130 rests on the contact surface 126 of the second sleeve 124. Facing away from the first contact surface 132, the first spherical cap element has a flat second contact surface 134.
  • a spacer 136 rests against the second contact surface 134.
  • the spacer 136 is preferably made of stainless steel. Several spacers 136 of different thicknesses can be provided. In particular, coarse spacers and fine spacers can be provided.
  • the threaded pin 128 is guided through the middle of the spacer 136. With the help of the spacer 136, the second component 110 can be positioned in the z-direction z.
  • the spacer 136 is placed between the first spherical cap element 130 and a decoupling bushing 200A of the fastening device 118.
  • the decoupling bushing 200A is explained in more detail below.
  • the decoupling bushing 200A is glued into the opening 116 of the second component 110. Therefore, the decoupling bushing 200A can also be referred to as an adhesive bushing.
  • the threaded pin 128 is centrally inserted through the decoupling bushing 200A.
  • the decoupling socket 200A for example, is made of an iron-nickel alloy.
  • a second spherical cap element 138 rests on the decoupling bushing 200A.
  • the second spherical cap element 138 is preferably made of stainless steel.
  • the threaded pin 128 is guided through the middle of the second spherical cap element 138.
  • the second spherical cap element 138 comprises a spherical cap-shaped first contact surface 140 with which the second spherical cap element 138 rests on the decoupling bushing 200A. Facing away from the first contact surface 140, the second spherical cap element 138 has a flat second contact surface 142.
  • the fastening device 118 further comprises a nut 144 screwed onto the threaded pin 128.
  • the nut 144 is made of stainless steel, for example.
  • the nut 144 rests on the second contact surface 142 of the second spherical cap element 138.
  • the optical system 100 comprises an interferometer 146 which interacts with the optically effective surface 112 of the second component 110 by means of a laser beam 148.
  • Fig. 3 shows a schematic sectional view of the decoupling bushing 200A.
  • Fig. 4 shows a schematic top view of the decoupling bushing 200A.
  • Fig. 5 shows a schematic bottom view of the decoupling bushing 200A. In the following, reference is made simultaneously to Figs. 3 to 5.
  • the decoupling bushing 200A has a symmetry or central axis 202, to which the decoupling bushing 200A is constructed rotationally symmetrically. Furthermore, the decoupling bushing 200A is assigned a radial direction R. The radial direction R is perpendicular to the central axis 202 and oriented away from it.
  • the decoupling bushing 200A is a one-piece component, in particular a one-piece material component. "One-piece” or “one-part” means that the decoupling bushing 200A is not made up of different individual components, but rather forms a continuous component. "One-piece material” means in this case that the decoupling bushing 200A is made entirely of the same material.
  • the decoupling bushing 200A has a cylindrical fastening section 204 which is connected, in particular glued, to the second component 110.
  • the fastening section 204 is glued into the opening 116 of the second component 110.
  • the fastening section 204 is constructed rotationally symmetrically to the central axis 202.
  • the fastening section 204 has a cylindrical outer surface 206.
  • a first centering ring 208 and a second centering ring 210 extend out of the outer surface 206, viewed along the radial direction R. With the help of the centering rings 208, 210, the decoupling bushing 200A is centered in the opening 116 of the second component 110.
  • the centering rings 208, 210 are ring-shaped and run completely around the central axis 202.
  • a first fastening ring 212 and a second fastening ring 214 are placed between the two centering rings 208, 210, which also extend out of the outer surface 206 when viewed along the radial direction R.
  • the fastening rings 212, 214 are ring-shaped and run completely around the center axis 202.
  • the decoupling bushing 200A is glued into the opening 116 of the second component 110.
  • the decoupling bushing 200A is glued radially to the second component 110 with the help of the fastening rings 212, 214.
  • axial bonding can also be provided.
  • a circumferential collar can be provided on the decoupling bushing 200A, which is connected to the second Component 110 is glued.
  • the fastening section 204 has a first end face 216 and a second end face 218 facing away from the first end face 216.
  • a cylindrical connecting section 220 is arranged within the fastening section 204 and is constructed rotationally symmetrically to the central axis 202.
  • the connecting section 220 has a central opening 222 through which the threaded pin 128 is guided.
  • the opening 222 can be a bore.
  • the connecting section 220 has a flat first contact surface 224 against which the spacer 136 rests. Away from the first contact surface 224, the connecting section 220 has a spherical cap-shaped second contact surface 226. The first contact surface 140 of the second spherical cap element 138 rests on the second contact surface 226.
  • a first undercut or a first decoupling groove 228 is provided, which separates the fastening section 204 and the connecting section 220 from one another.
  • the first decoupling groove 228 runs completely around the central axis 202.
  • the first decoupling groove 228 is an annular groove and can therefore also be referred to as such.
  • the first decoupling groove 228 runs from the first end face 216 in the direction of the second end face 218. However, the first decoupling groove 228 does not completely penetrate the decoupling bushing 200A.
  • a second undercut or a second decoupling groove 230 is also provided, which separates the fastening section 204 and the connecting section 220 from each other.
  • the second decoupling groove 230 runs completely around the central axis 202.
  • the second decoupling groove 230 is an annular groove and can therefore also be referred to as such.
  • the second decoupling groove 230 runs from the second end face 218 in the direction of the first end face 216.
  • the second decoupling groove 230 does not completely penetrate the decoupling bushing 200A.
  • the first decoupling groove 228 is arranged inside the second decoupling groove 230 and the second decoupling groove 230 is arranged outside the first decoupling groove 228.
  • the decoupling grooves 228, 230 overlap one another, so that the fastening section 204 and the connecting section 220 are only connected to one another by means of a web 232.
  • the web 232 is sleeve-shaped or tubular.
  • the stiffness of the web 232 can be varied by changing the wall thickness.
  • the term "stiffness” is understood to mean the resistance of a body, in particular of the web 232, to elastic deformation imposed by an external load and conveys the connection between the load on the body and its deformation. The stiffness is determined by the material of the body and its geometry.
  • the web 232 functions as a solid-body joint between the fastening section 204 and the connecting section 220.
  • a "solid-body joint” is understood here to be an area of a component which allows a relative movement between two rigid-body areas by bending.
  • the fastening section 204 and the connecting section 220 function as rigid-body areas, between which the web 232 is provided as an elastically deformable solid-body joint.
  • the sleeves 122, 124 are mounted on the opening 108 of the first component 102.
  • the threaded pin 128 is then screwed into the first sleeve 122.
  • the decoupling bushing 200A is glued into the opening 116 of the second component 110 using the fastening rings 212, 214.
  • the first spherical cap element 130, the spacer 123, the decoupling bushing 200A and the second spherical cap element 138 are threaded onto the threaded pin 128.
  • the nut 144 is screwed onto the threaded pin 128, but not yet tightened.
  • the second component 110 can be tilted relative to the first component 102 in the x direction and/or in the y direction.
  • the threaded pin 128 is gripped with a tool and stretched to a defined length. Then the nut 144 is first tightened by hand, while the threaded pin 128 continues to be stretched. To do this, the previously mentioned tool for stretching the threaded pin 128 is used. After the nut 144 has been attached, the tool is put down again. This means that no torque is introduced into the fastening device 118.
  • the decoupling bushing 200A does not have the decoupling grooves 228, 230, which reduce the rigidity of the decoupling bushing 200A compared to a solid bushing (not shown), it can happen that the spherical cap elements 130, 138 do not slide into their optimal position, i.e. do not ball in optimally, due to unfavorable friction conditions.
  • the resulting misalignment can generate a moment that can lead to an unwanted deformation of the second component 110, in particular the optically effective surface 112. This deformation can be introduced into the second component 110 via the previously mentioned solid bushing and lead to an unwanted and uncompensable deformation of the optically effective surface 112.
  • the decoupling grooves 228, 230 or the web 232 acting as a solid-state joint By providing the decoupling grooves 228, 230 or the web 232 acting as a solid-state joint, the moment or the deformation is absorbed in the decoupling bushing 200A itself and cannot be transferred to the second component 110.
  • the optical system 100 is thus significantly more robust against friction coefficient influences, which are particularly unfavorable under EUV conditions. A dependency on friction coefficients and the performance of the second component 110 is therefore no longer present. Even small deviations in the shape of the individual components of the fastening device 118 can be compensated.
  • Fig. 6 shows a schematic sectional view of another embodiment of a decoupling bushing 200B.
  • the decoupling bushing 200B differs from the decoupling bushing 200A only in that instead of two fastening rings 212, 214, exactly one fastening ring 234 is provided, which is placed centrally between the centering rings 208, 210 when viewed along the center axis 202. All statements relating to the decoupling bushing 200A are correspondingly applicable to the decoupling bushing 200B and vice versa.
  • Fig. 7 shows a schematic sectional view of another embodiment of a decoupling bushing 200C.
  • the decoupling bushing 200C differs from the decoupling bushing 200A only in that the web 232 has any number of openings or slots 236, 238 penetrating the web 232.
  • the slots 236, 238 are evenly distributed around the central axis 202.
  • the rigidity of the web 232 can be reduced.
  • the rigidity of the web 232 can thus be varied or adjusted over a wide range by the size and number of slots 236, 238. All statements relating to the decoupling bushings 200A, 200B are correspondingly applicable to the decoupling bushing 200C and vice versa.
  • Fig. 8 shows a schematic sectional view of another embodiment of a decoupling bushing 200D.
  • the decoupling bushing 200D differs from the decoupling bushing 200A only in that instead of two decoupling grooves 228, 230, only the first decoupling groove 228 is provided. In this case, the second decoupling groove 230 is dispensable. Alternatively, only the second decoupling groove 230 can be provided. In this case, the first decoupling groove 228 is dispensable. All statements relating to the decoupling bushings 200A, 200B, 200C are applicable accordingly to the decoupling bushing 200D and vice versa.

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Abstract

Ein optisches System (100) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend eine erste Komponente (102), eine zweite Komponente (110) und eine Befestigungseinrichtung (118), mit deren Hilfe die zweite Komponente (110) an der ersten Komponente (102) befestigt ist, wobei die Befestigungseinrichtung (118) eine Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C, 200D) zum mechanischen Entkoppeln der zweiten Komponente (110) von der ersten Komponente (102) aufweist, und wobei die Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C, 200D) eine die Steifigkeit der Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C, 200D) reduzierende Entkopplungsnut (228, 230) aufweist.

Description

OPTISCHES SYSTEM UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches System und eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen optischen System.
Der Inhalt der Prioritätsanmeldung DE 10 2022 214 184.9 wird durch Bezugnahme vollumfänglich miteinbezogen (incorporation by reference).
Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithogra- phieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden, und DUV- Lithograp hieanlagen, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 30 nm und 250 nm verwenden, entwickelt. Es sind jedoch auch Lithograp hieanlagen mit größeren Wellenlängen, beispielsweise bei 365 nm, möglich. Insbesondere bei derartigen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt, Linsen, eingesetzt werden. Ein wie zuvor erwähntes Projektionssystem kann einen Sensorrahmen (EnglJ Sensor Frame) aufweisen, an dem optische Elemente in Form von Messzielen oder Messtargets angebracht sind, die beispielsweise mit Hilfe eines Interferometers angemessen werden. Dabei können die optischen Elemente an dem Sensorrahmen und das Interferometer an einem anderen Bauteil angebracht sein. Zum Anbringen eines derartigen optischen Elements an dem Sensorrahmen kann eine Befestigungseinrichtung mit einer in das optische Element eingeklebten Buchse eingesetzt werden.
Zum Ausgleichen von Winkelfehlern zwischen dem optischen Element und dem Sensorrahmen weist diese Befestigungseinrichtung kugelkalottenförmige Abstandshalter auf. Die in das optische Element eingeklebte Buchse weist eine ebenfalls kugelkalottenförmige Kontaktfläche auf, an der einer der Abstandshalter anliegt. Durch ungünstige Reibverhältnisse oder auch durch fertigungsbedingte Formabweichungen, so dass sich Hebelverhältnisse ungünstig ändern, kann es vorkommen, dass die Abstandshalter nicht in ihre optimale Position rutschen, also nicht optimal einkugeln. Durch die dadurch entstandene Fehlstellung zwischen dem optischen Element und dem Sensorrahmen kann ein Moment erzeugt werden, welches zu einer ungewollten Deformation des optischen Elements führen kann.
Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein verbessertes optisches System bereitzustellen.
Demgemäß wird ein optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage vorgeschlagen. Das optische System umfasst eine erste Komponente, eine zweite Komponente und eine Befestigungseinrichtung, mit deren Hilfe die zweite Komponente an der ersten Komponente befestigt ist, wobei die Befestigungseinrichtung eine Entkopplungsbuchse zum mechanischen Entkoppeln der zweiten Komponente von der ersten Komponente aufweist, und wobei die Entkopplungsbuch- se eine die Steifigkeit der Entkopplungsbuchse reduzierende Entkopplungsnut aufweist.
Dadurch, dass die Entkopplungsbuchse die Entkopplungsnut aufweist, ist es möglich, die zweite Komponente derart mechanisch von der ersten Komponente zu entkoppeln, dass auf die zweite Komponente keine parasitären Kräfte oder Momente übertragen werden, welche die zweite Komponente in unerwünschter Weise verformen könnten.
Das optische System ist bevorzugt eine Projektionsoptik oder Teil einer derartigen Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage. Das optische System kann jedoch auch ein Beleuchtungssystem oder Teil eines derartigen Beleuchtungssystems der Projektionsbelichtungsanlage sein. Die erste Komponente ist bevorzugt ein Sensorrahmen (EnglJ Sensor Frame) und kann daher auch als solcher bezeichnet werden. Das heißt insbesondere, dass die Begriffe "erste Komponente" und "Sensorrahmen" beliebig gegeneinander getauscht werden können. Die erste Komponente kann jedoch auch eine beliebige andere Tragstruktur sein, welche die zweite Komponente trägt. Es kann genau eine Entkopplungsnut vorgesehen sein. Es können jedoch auch mehrere, beispielsweise zwei, Entkopplungsnuten vorgesehen sein.
Die zweite Komponente ist bevorzugt ein optisches Element und kann daher auch als solches bezeichnet werden. Demgemäß können die Begriffe "zweite Komponente" und "optisches Element" beliebig gegeneinander getauscht werden. Insbesondere ist die zweite Komponente ein Messtarget oder Messziel. Die zweite Komponente ist beispielsweise aus einer Glaskeramik gefertigt. Die zweite Komponente weist insbesondere eine optisch wirksame Fläche auf. Die optisch wirksame Fläche kann eine Spiegelfläche sein. Die optisch wirksame Fläche ist dazu eingerichtet, Licht, insbesondere einen Laserstrahl, zu reflektieren. Das optische System kann ein Interferometer aufweisen, welches mit der optisch wirksamen
Fläche der zweiten Komponente wechselwirkt.
Dem optischen System ist ein Koordinatensystem mit einer ersten Raumrichtung oder x-Richtung, einer zweiten Raumrichtung oder y-Richtung und einer dritten Raumrichtung oder z-Richtung zugeordnet. Die z-Richtung stimmt mit einer Symmetrie- oder Mittelachse der Befestigungseinrichtung beziehungsweise der Entkopplungsbuchse überein oder ist parallel zu dieser angeordnet. Die x- Richtung und die y-Richtung sind jeweils senkrecht zu der Mittelachse und senkrecht zueinander angeordnet. Unter einem " Winkelfehler'' ist vorliegend demgemäß ein Verkippen der zweiten Komponente gegenüber der ersten Komponente um die x-Richtung und/oder die y-Richtung zu verstehen.
Die zweite Komponente weist sechs Freiheitsgrade, nämlich drei translatorische Freiheitsgrade jeweils entlang der x-Richtung, der y-Richtung und der z- Richtung sowie drei rotatorische Freiheitsgrade jeweils um die x-Richtung, die y Richtung und die z-Richtung auf. Das heißt, eine Position und eine Orientierung der zweiten Komponente können mit Hilfe der sechs Freiheitsgrade bestimmt oder beschrieben werden.
Unter der "Position" der zweiten Komponente sind insbesondere deren Koordinaten bezüglich der x-Richtung, der y-Richtung und der z-Richtung zu verstehen. Unter der "Orientierung" der zweiten Komponente ist insbesondere deren Verkippung bezüglich der drei Richtungen zu verstehen. Hiermit ergeben sich die sechs Freiheitsgrade für die Position und Orientierung der zweiten Komponente. Eine "Lage" der zweiten Komponente umfasst sowohl deren Position als auch deren Orientierung. Der Begriff "Lage" ist demgemäß durch die Formulierung "Position und Orientierung" und umgekehrt ersetzbar. Mit Hilfe des Interferometers kann beispielsweise die Lage der zweiten Komponente erfasst werden. Die Befestigungseinrichtung verbindet die zweite Komponente mit der ersten Komponente. Insbesondere trägt die erste Komponente die zweite Komponente. Die Befestigungseinrichtung ist bevorzugt rotationssymmetrisch zu ihrer Mittelachse aufgebaut. Vorzugsweise umfasst die Befestigungseinrichtung eine erste Hülse und ein zweite Hülse, welche an einem Durchbruch der ersten Komponente montiert sein können. Die erste Hülse und die zweite Hülse können sich an der ersten Komponente abstützen, so dass die erste Komponente zwischen der ersten Hülse und der zweiten Hülse geklemmt ist. Die erste Hülse und die zweite Hülse können miteinander verschraubt sein.
Ferner umfasst die Befestigungseinrichtung einen Gewindestift, welcher in die erste Hülse eingeschraubt ist. Der Gewindestift ist durch die Entkopplungsbuchse hindurchgeführt. Die zweite Hülse weist insbesondere eine kugelkalottenförmige Kontaktfläche auf, an der eine kugelkalottenförmige erste Kontaktfläche eines ersten Kugelkalottenelements anliegt. Unter einer "Kugelkalotte" ist vorliegend insbesondere ein Abschnitt einer Kugel zu verstehen.
Das erste Kugelkalottenelement weist neben der ersten Kontaktfläche eine der ersten Kontaktfläche abgewandte ebene zweite Kontaktfläche auf. Die zweite Kontaktfläche ist einer ebenen ersten Kontaktfläche der Entkopplungsbuchse zugewandt. Zwischen der zweiten Kontaktfläche des ersten Kugelkalottenelements und der ersten Kontaktfläche der Entkopplungsbuchse kann ein Abstandshalter in Form einer Scheibe vorgesehen sein. Es können auch mehrere Abstandshalter vorgesehen sein. Die Abstandshalter sind sogenannte Spacer. Es können zwischen dem ersten Kugelkalottenelement und der ersten Kontaktfläche der Entkopplungsbuchse mehrere unterschiedliche Abstandshalter angebracht sein. Beispielsweise können sogenannte Grobspacer oder Grobabstandshalter und Feinspacer oder Feinabstandshalter vorgesehen sein. Die erste Kontaktfläche der Entkopplungsbuchse ist vorzugsweise ein Kreisring, der bezüglich einer Radialrichtung der Entkopplungsbuchse möglichst weit außen liegt. Hier- durch ergibt sich ein großer Hebelarm, was dazu führt, dass sich größere Momente ergeben, die ein verbessertes Einkugeln ermöglichen. Hierdurch können Reibkräfte einfacher überwunden werden.
Der Gewindestift ist durch das erste Kugelkalottenelement und den Abstandshalter hin durch geführt. Die Entkopplungsbuchse ist zwischen dem ersten Kugelkalottenelement beziehungsweise dem Abstandshalter und einem zweiten Kugelkalottenelement angeordnet. Die Entkopplungsbuchse weist der ersten Kontaktfläche abgewandt bevorzugt eine zweite Kontaktfläche auf, die kugelkalottenförmig ausgebildet ist. An der zweiten Kontaktfläche der Entkopplungsbuchse liegt das zweite Kugelkalottenelement mit einer ersten kugelkalottenförmigen Kontaktfläche an. Der ersten Kontaktfläche abgewandt weist das zweite Kugelkalottenelement bevorzugt eine ebene zweite Kontaktfläche auf. An der zweiten Kontaktfläche liegt eine auf den Gewindestift aufgeschraubte Mutter auf. Mit Hilfe der Mutter können die beiden Kugelkalottenelemente, die Entkopplungsbuchse, der oder die Abstandshalter und die Hülsen miteinander verspannt sein. Hierbei wird eine drehmomentfreie Verschraubung verwirklicht. Dabei wird der Gewindestift gedehnt.
Insbesondere weist die zweite Komponente einen Durchbruch auf, in dem die Entkopplungsbuchse zumindest abschnittsweise aufgenommen ist. Die Entkopplungsbuchse ist insbesondere in den Durchbruch eingeklebt. Die Entkopplungsbuchse ist bevorzugt aus einem anderen Material als die zweite Komponente gefertigt. Beispielsweise ist die Entkopplungsbuchse aus einer Eisen-Nickel- Legierung gefertigt.
Darunter, dass die Entkopplungsbuchse die erste Komponente und die zweite Komponente voneinander "mechanisch entkoppelt" ist vorhegend insbesondere zu verstehen, dass die Entkopplungsbuchse die Übertragung von Kräften und/oder Momenten von der ersten Komponente auf die zweite Komponente und umgekehrt verhindert oder zumindest reduziert. Eine ungewollte Verformung der zweiten Komponente wird hierdurch zuverlässig verhindert.
Darunter, dass die Entkopplungsnut die Steifigkeit der Entkopplungsbuchse "reduziert", ist vorliegend insbesondere zu verstehen, dass die Entkopplungsbuchse aufgrund der Entkopplungsnut im Vergleich zu einer massiven Entkopplungsbuchse eine geringere Steifigkeit aufweist. Unter der "Steifigkeit" ist vorhegend der Widerstand eines Körpers, insbesondere der Entkopplungsbuchse, gegen eine durch eine äußere Belastung aufgeprägte elastische Verformung zu verstehen und vermittelt den Zusammenhang zwischen der Belastung des Körpers und dessen Verformung. Die Steifigkeit wird bestimmt durch den Werkstoff des Körpers und dessen Geometrie. Das heißt, die Steifigkeit der Entkopplungsbuchse kann durch eine geeignete Auswahl des verwendeten Werkstoffs und die Geometrie der Entkopplungsnut in einem weiten Bereich variiert werden.
Die Ausgleichsbuchse kann darüber hinaus zumindest bis zu einem gewissen Grad Winkelfehler zwischen der ersten Komponente und der zweiten Komponente ausgleichen oder kompensieren. Darunter, dass die Entkopplungsbuchse Winkelfehler zwischen der ersten Komponente und der zweiten Komponente "ausgleicht" oder "kompensiert" ist insbesondere zu verstehen, dass sich die Entkopplungsbuchse aufgrund ihrer durch die Entkopplungsnut reduzierten Steifigkeit derart elastisch verformen kann, dass die Winkelfehler innerhalb der Entkopplungsbuchse selbst kompensiert werden. Dies kann beispielsweise dadurch geschehen, dass sich unterschiedliche Abschnitte der Entkopplungsbuchse, beispielsweise ein Verbindungsabschnitt und ein Befestigungsabschnitt, relativ zueinander bewegen können. Die zweite Komponente kann also in eine Soll-Lage verbracht werden, ohne dass über die Entkopplungsbuchse Kräfte in die zweite Komponente eingebracht werden. Eine unerwünschte Verformung der zweiten Komponente wird hierdurch zuverlässig verhindert. Gemäß einer Ausführungsform läuft die Entkopplungsnut ringförmig um eine Mittelachse der Entkopplungsbuchse um.
Das heißt insbesondere, dass die Entkopplungsnut eine Ringnut ist. Die Begriffe "Entkopplungsnut" und "Ringnut" können demgemäß beliebig gegeneinander getauscht werden. Die Mittelachse der Entkopplungsbuchse kann mit der Mittelachse der Befestigungseinrichtung übereinstimmen. Die Entkopplungsbuchse ist bevorzugt rotationssymmetrisch zu ihrer Mittelachse aufgebaut. Die Entkopplungsnut weist vorzugsweise einen rechteckförmigen Querschnitt auf. Die Entkopplungsnut kann jedoch auch einen runden oder verrundeten Nutgrund aufweisen. Die Entkopplungsnut erstreckt sich entlang der Mittelachse der Entkopplungsbuchse. Es kann genau eine Entkopplungsnut vorgesehen sein. Es können jedoch auch mehrere Entkopplungsnuten in die Entkopplungsbuchse eingebracht sein. Beispielsweise sind eine erste Entkopplungsnut und eine sich von der ersten Entkopplungsnut unterscheidende zweite Entkopplungsnut vorgesehen.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Entkopplungsbuchse eine erste Entkopplungsnut und eine zweite Entkopplungsnut auf, wobei sich die erste Entkopplungsnut von einer ersten Stirnfläche der Entkopplungsbuchse in Richtung einer zweiten Stirnfläche der Entkopplungsbuchse erstreckt, und wobei sich die zweite Entkopplungsnut von der zweiten Stirnfläche in Richtung der ersten Stirnfläche erstreckt.
Die Stirnflächen sind einander abgewandt an der Entkopplungsbuchse positioniert. Die Entkopplungsnuten laufen somit von unterschiedlichen Stirnflächen der Entkopplungsbuchse in diese hinein. Dabei sind die beiden Entkopplungsnuten von einem rotationssymmetrisch um die Symmetrieachse umlaufenden Steg voneinander getrennt. Das heißt insbesondere, dass die erste Entkopplungsnut und die zweite Entkopplungsnut nicht miteinander verbunden sind. Die erste Entkopplungsnut durchbricht die Entkopplungsbuchse nur teilweise und somit nicht vollständig. Entsprechendes gilt für die zweite Entkopplungsnut. Die Entkopplungsbuchse ist insbesondere zylinderförmig und weist eine zylinderförmige Außenfläche auf. Stirnseitig an der Entkopplungsbuchse sind die erste Stirnfläche und die zweite Stirnfläche vorgesehen. Die erste Entkopplungsnut durchbricht die erste Stirnfläche, jedoch nicht die zweite Stirnfläche. Dementsprechend durchbricht die zweite Entkopplungsnut die zweite Stirnfläche, jedoch nicht die erste Stirnfläche.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die erste Entkopplungsnut entlang einer Radialrichtung der Entkopplungsbuchse betrachtet innerhalb der zweiten Entkopplungsnut angeordnet.
Die Radialrichtung ist senkrecht zu der Mittelachse der Entkopplungsbuchse und von dieser weg orientiert. Somit ist die erste Entkopplungsnut entlang der Radialrichtung betrachtet innerhalb der zweiten Entkopplungsnut platziert beziehungsweise die zweite Entkopplungsnut ist entlang der Radialrichtung betrachtet außerhalb der ersten Entkopplungsnut angeordnet. Die erste Entkopplungsnut und die zweite Entkopplungsnut sind somit ineinander verschachtelt.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform überlappen sich die erste Entkopplungsnut und die zweite Entkopplungsnut entlang der Mittelachse betrachtet.
Das heißt insbesondere, dass die erste Entkopplungsnut entlang der Radialrichtung betrachtet die zweite Entkopplungsnut und umgekehrt abdeckt. Insbesondere sind die erste Entkopplungsnut und die zweite Entkopplungsnut entlang der Mittelachse betrachtet somit zumindest abschnittsweise nebeneinander platziert, wobei die erste Entkopplungsnut und die zweite Entkopplungsnut durch den zuvor erwähnten Steg voneinander getrennt sind. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Entkopplungsbuchse einen mit der ersten Komponente verbundenen Verbindungsabschnitt und einen mit der zweiten Komponente verbundenen Befestigungsabschnitt auf, wobei die Entkopplungsnut zwischen dem Verbindungsabschnitt und dem Befestigungsabschnitt angeordnet ist.
Insbesondere entkoppelt die Entkopplungsnut den Verbindungsabschnitt mechanisch von dem Befestigungsabschnitt. Unter einer "mechanischen Entkopplung" ist vorliegend insbesondere zu verstehen, dass keine oder nur minimale Kräfte von dem Verbindungsabschnitt auf den Befestigungsabschnitt und umgekehrt übertragen werden können. Der Verbindungsabschnitt ist mit Hilfe der beiden Kugelkalottenelemente, des Abstandshalters, der beiden Hülsen, des Gewindestifts und der Mutter mit der ersten Komponente verbunden, insbesondere verschraubt. Der Befestigungsabschnitt ist mit der zweiten Komponente bevorzugt verklebt. Insbesondere ist der Befestigungsabschnitt in den Durchbruch der zweiten Komponente eingeklebt. Der Befestigungsabschnitt und der Verbindungsabschnitt sind jeweils rohrförmig oder hohlzylinderförmig. Zwischen dem Verbindungsabschnitt und dem Befestigungsabschnitt ist die Entkopplungsnut vorgesehen. Der Verbin dungs ab schnitt weist bevorzugt einen mittigen Durchbruch, insbesondere eine Bohrung, auf, durch den der Gewindestift berührungsfrei hindurchgeführt ist.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind der Verbindungsabschnitt und der Befestigungsabschnitt lediglich mit Hilfe eines als Festkörpergelenk fungierenden Stegs miteinander verbunden.
Das heißt insbesondere, dass die Entkopplungsnut oder die Entkopplungsnuten den Verbindungsabschnitt von dem Befestigungsabschnitt trennen. Eine Verbindung zwischen dem Verbindungsabschnitt und dem Befestigungsabschnitt ist nur mit Hilfe des Stegs verwirklicht. Der Steg ist elastisch, insbesondere feder- elastisch, verformbar. Unter einer "elastischen Verformung" ist vorliegend insbesondere zu verstehen, dass der Steg durch das Aufbringen einer Kraft oder eines
Moments von einem unverformten Zustand in einen verformten Zustand verbracht werden kann. Wirkt diese Kraft oder dieses Moment nicht mehr auf den Steg, so verbringt dieser sich selbstständig aus dem verformten Zustand zurück in den unverformten Zustand. Unter einem "Festkörpergelenk" ist vorliegend insbesondere ein Bereich eines Bauteils, welcher eine Relativbewegung zwischen zwei Starrkörperbereichen durch Biegung erlaubt, zu verstehen. Vorhegend fungieren der Befestigungsabschnitt und der Verbin dungs ab schnitt als Starrkörperbereiche, zwischen denen der Steg als elastisch verformbares Festkörper gelenk vorgesehen ist.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der Steg hülsenförmig.
Der Steg kann auch als rohrförmig oder hohlzylinderförmig bezeichnet werden. Der Steg läuft vorzugsweise vollständig um die Mittelachse der Entkopplungsbuchse herum. Insbesondere läuft der Steg auch vollständig um den Verbindungsabschnitt um. Der Steg ist entlang der Radialrichtung betrachtet insbesondere zwischen dem Verbindungsabschnitt und dem Befestigungsabschnitt angeordnet.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist der Steg den Steg durchbrechende Schlitze auf.
Die Schlitze verlaufen vorzugsweise entlang der Mittelachse der Entkopplungsbuchse. Die Anzahl der Schlitze ist beliebig. Vorzugsweise sind die Schlitze gleichmäßig um die Mittelachse der Entkopplungsbuchse herum verteilt angeordnet. Mit Hilfe der Schlitze kann die Steifigkeit des Stegs beispielsweise weiter reduziert werden. Somit kann mit Hilfe der Schlitze die Steifigkeit des Stegs va- riiert, insbesondere verringert, werden. Die Schlitze können eine rechteckförmige Geometrie aufweisen.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist der Verbindungsabschnitt eine ebene erste Kontaktfläche und eine der ersten Kontaktfläche abgewandte kugel- kalottenförmige zweite Kontaktfläche auf.
Wie zuvor erwähnt, liegt an der ersten Kontaktfläche der Abstandshalter beziehungsweise das erste Kugelkalottenelement an. An der zweiten Kontaktfläche liegt das zweite Kugelkalottenelement an.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Entkopplungsbuchse einen ersten Zentrierring und einen zweiten Zentrierring zum Zentrieren der Entkopplungsbuchse in einem Durchbruch, der in der zweiten Komponente vorgesehen ist, auf.
Der erste Zentrierring und der zweiten Zentrierring erstrecken sich entlang der Radialrichtung betrachtet bevorzugt radial aus der zuvor erwähnten Außenfläche der Entkopplungsbuchse beziehungsweise des Befestigungsabschnitts heraus. Mit Hilfe der beiden Zentrierringe wird die Entkopplungsbuchse in dem Durchbruch der zweiten Komponente zentriert.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Entkopplungsbuchse einen ersten Befestigungsring und einen zweiten Befestigungsring zum Befestigen der Entkopplungsbuchse an dem Durchbruch auf, wobei der erste Befestigungsring und der zweite Befestigungsring zwischen dem ersten Zentrierring und dem zweiten Zentrierring angeordnet sind.
Insbesondere sind der erste Befestigungsring und der zweite Befestigungsring entlang der Mittelachse der Ausgleichbuchse betrachtet zwischen dem ersten Zentrierring und dem zweiten Zentrierring angeordnet. Mit Hilfe des ersten Befestigungsrings und des zweiten Befestigungsrings ist die Entkopplungsbuchse mit der zweiten Komponente verklebt. Hierzu ist zwischen den beiden Befestigungsringen und der zweiten Komponente jeweils eine Klebstoffschicht vorgesehen. Die Befestigungsringe sind demgemäß in den Durchbruch der zweiten Komponente eingeklebt. Insbesondere ist die Entkopplungsbuchse beziehungsweise sind die Befestigungsringe radial mit der zweiten Komponente verklebt. Alternativ kann auch eine axiale Verklebung vorgesehen sein.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Entkopplungsbuchse genau einen Befestigungsring zum Befestigen der Entkopplungsbuchse an dem Durchbruch auf, wobei der Befestigungsring zwischen dem ersten Zentrierring und dem zweiten Zentrierring angeordnet ist.
Insbesondere ist der Befestigungsring entlang der Mittelachse der Entkopplungsbuchse betrachtet mittig zwischen dem ersten Zentrierring und dem zweiten Zentrierring angeordnet. Dies ist eine besonders vorteilhafte Anordnung. Durch die mittige Anordnung des Befestigungsrings wird die Einleitung von Kräften und/oder Momenten auf die zweite Komponente weiter reduziert. Dies resultiert aus einem reduzierten Hebelarm.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Entkopplungsbuchse ein einstückiges, insbesondere ein materialeinstückiges, Bauteil.
Unter "einstückig" oder "einteilig" ist vorliegend insbesondere zu verstehen, dass die Entkopplungsbuchse nicht aus unterschiedlichen Unterbauteilen aufgebaut ist, sondern dass der Verbindungabschnitt, der Befestigungsabschnitt und der Steg ein gemeinsames Bauteil, nämlich die Entkopplungsbuchse, bilden. Unter "materialeinstückig" ist vorhegend zu verstehen, dass die Entkopplungsbuchse durchgehend aus demselben Material gefertigt ist. Wie zuvor erwähnt, kann für die Entkopplungsbuchse beispielsweise eine Eisen-Nickel-Legierung eingesetzt werden.
Ferner wird eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen optischen System vor geschlagen.
Das optische System ist bevorzugt eine Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage. Das optische System kann jedoch auch ein Beleuchtungssystem sein. Die Projektionsbelichtungsanlage kann eine EUV-Lithographieanlage sein. EUV steht für "Extreme Ultraviolet" und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Die Projektionsbelichtungsanlage kann auch eine DUV-Lithographieanlage sein. DUV steht für "Deep Ultraviolet" und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Es sind jedoch auch Lithographieanlagen mit größeren Wellenlängen, beispielsweise bei 365 nm, möglich.
"Ein" ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.
Die für das optische System beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für die vorgeschlagene Projektionsbelichtungsanlage entsprechend und umgekehrt.
Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.
Fig. 1 zeigt einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithographie!
Fig. 2 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform eines optischen Systems für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß Fig. 1;
Fig. 3 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform einer Entkopplungsbuchse für das optische System gemäß Fig. 2;
Fig. 4 zeigt eine schematische Aufsicht der Entkopplungsbuchse gemäß Fig. 3;
Fig. 5 zeigt eine schematische Unteransicht der Entkopplungsbuchse gemäß Fig. 3;
Fig. 6 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Entkopplungsbuchse für das optische System gemäß Fig. 2;
Fig. 7 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Entkopplungsbuchse für das optische System gemäß Fig. 2; und Fig. 8 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Entkopplungsbuchse für das optische System gemäß Fig. 2.
In den Figuren sind gleiche oder funktions gleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.
Fig. 1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Litho- graphieanlage), insbesondere einer EUV-Lithographieanlage. Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- beziehungsweise Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungs system 2 separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht.
Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverla- gerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar.
In der Fig. 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer x- Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x- Richtung x verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y verläuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der Fig. 1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Objektebene 6.
Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.
Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y Richtung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Reti- kelverlagerungsan trieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.
Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Lichtquelle 3 emittiert insbesondere EUV- Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (EnglJ Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (EnglJ Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (EnglJ Free-Electron-Laser, FEL) handeln.
Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (EnglJ Grazing Incidence, Gl), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (EnglJ Normal Incidence, NI), also mit Ein- fallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.
Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.
Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche auch als Feldfacetten bezeichnet werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in der Fig. 1 nur beispielhaft einige dargestellt.
Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein. Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 Al bekannt ist, können die ersten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS'System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 Al verwiesen.
Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y.
Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 Al, der EP 1 614 008 Bl und der US 6,573,978.
Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.
Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 Al verwiesen. Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.
Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (EnglJ Fly's Eye Integrator) bezeichnet.
Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017 220 586 Al beschrieben ist.
Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.
Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (Ni-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GFSpiegel, Grazing Incidence Spiegel) umfassen. Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der Fig. 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.
Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten F acettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.
Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.
Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.
Bei dem in der Fig. 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel Ml bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann. Die numerische Apertur kann jedoch auch kleiner als 0,5 sein.
Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer- Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.
Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y Richtung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.
Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe ßx, ßy in x- und y Richtung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe ßx, ßy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (ßx, ßy) = (+/- 0,25, +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab ß bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab ß bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.
Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung x, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 44.
Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 84.
Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich. Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der US 2018/0074303 Al.
Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23.
Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.
Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten F acetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet. Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.
Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.
Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.
Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Apertur strahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.
Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.
Bei der in der Fig. 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 definiert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist.
Fig. 2 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform eines optischen Systems 100 für die Projektionsbelichtungsanlage 1.
Das optische System 100 kann Teil einer wie zuvor erläuterten Projektionsoptik 10 sein. Das optische System 100 kann jedoch auch Teil einer wie zuvor erwähnten Beleuchtungsoptik 4 sein. Nachfolgend wird jedoch davon ausgegangen, dass das optische System 100 Teil einer derartigen Projektionsoptik 4 ist. Das optische System 100 ist für die DUV-Lithographie geeignet. Das optische System 100 kann jedoch auch für die EUV-Lithographie geeignet sein.
Das optische System 100 weist eine erste Komponente 102 auf. Die erste Komponente 102 ist bevorzugt ein Sensorrahmen (EnglJ Sensor Frame) und kann daher auch als solcher bezeichnet werden. Die erste Komponente 102 weist eine Oberseite 104 und eine der Oberseite 104 abgewandte Unterseite 106 auf. Ein Durchbruch 108 durchbricht die erste Komponente 102. Der Durchbruch 108 kann eine Bohrung sein.
Neben der ersten Komponente 102 weist das optische System 100 eine zweite Komponente 110 auf. Die zweite Komponente 110 ist bevorzugt ein optisches Element und kann daher auch als solches bezeichnet werden. Insbesondere ist die zweite Komponente 110 ein Messtarget oder Messziel. Die zweite Komponente 110 ist beispielsweise aus einer Glaskeramik gefertigt. Die zweite Komponente 110 weist eine in der Orientierung der Fig. 2 nach unten orientierte optisch wirksame Fläche 112 auf. Die optisch wirksame Fläche 112 ist eine Spiegelfläche. Die optisch wirksame Fläche 112 kann durch eine Beschichtung verwirklicht sein. Der optisch wirksamen Fläche 112 abgewandt weist die zweite Komponente 110 eine Rückseite 114 auf. Die Rückseite 114 weist keine definierten optischen Eigenschaften auf. Die Rückseite 114 ist der Unterseite 106 der ersten Komponente 102 zugewandt. Ein Durchbruch 116 durchbricht die zweite Komponente 110. Der Durchbruch 116 kann eine Bohrung sein.
Die zweite Komponente 110 ist mit Hilfe einer Befestigungseinrichtung 118 an der ersten Komponente 102 befestigt. Der Befestigungseinrichtung 118 ist eine Symmetrie- oder Mittelachse 120 zugeordnet, zu der die Befestigungseinrichtung 118 rotationssymmetrisch aufgebaut ist.
Die Befestigungseinrichtung 118 weist eine erste Hülse 122 und eine zweite Hülse 124 auf. Die erste Hülse 122 liegt an der Oberseite 104 der ersten Komponente 102 auf und ist zumindest abschnittsweise durch den Durchbruch 108 hindurchgeführt. Die erste Hülse 122 ist beispielsweise aus rostfreiem Stahl gefertigt.
Die zweite Hülse 124 liegt an der Unterseite 106 der ersten Komponente 102 an und ist zumindest abschnittsweise durch den Durchbruch 108 hindurchgeführt. Die zweite Hülse 124 ist beispielsweise aus einer Eisen-Nickel-Legierung gefertigt. Die zweite Hülse 124 weist eine kugelkalottenförmige Kontaktfläche 126 auf. Unter einer "Kugelkalotte" ist vorliegend ein Abschnitt einer Kugel zu verstehen. Die erste Hülse 122 und die zweite Hülse 124 sind miteinander verschraubt (nicht gezeigt), so dass die erste Komponente 102 zwischen den beiden Hülsen 122, 124 geklemmt ist. Insbesondere ist die erste Hülse 122 in die zweite Hülse 124 eingeschraubt. Die Befestigungseinrichtung 118 weist ferner einen Gewindestift 128 auf, der in die erste Hülse 122 eingeschraubt ist. Der Gewindestift 128 ist durch die zweite Hülse 124 und damit auch durch den Durchbruch 108 der ersten Komponente 102 sowie durch den Durchbruch 116 der zweiten Komponente 110 hindurchgeführt. Der Gewindestift 128 kann aus Edelstahl gefertigt sein.
An der Kontaktfläche 126 der zweiten Hülse 124 liegt ein erstes Kugelkalottenelement 130 an. Das erste Kugelkalottenelement 130 ist bevorzugt aus Edelstahl gefertigt. Der Gewindestift 128 ist mittig durch das erste Kugelkalottenelement 130 hindurchgeführt. Das erste Kugelkalottenelement 130 weist eine kugelkalottenförmige erste Kontaktfläche 132 auf, mit der das erste Kugelkalottenelement 130 an der Kontaktfläche 126 der zweiten Hülse 124 anliegt. Der ersten Kontaktfläche 132 abgewandt weist das erste Kugelkalottenelement eine ebene zweite Kontaktfläche 134 auf.
An der zweiten Kontaktfläche 134 liegt ein Abstandshalter 136 (EnglJ Spacer) an. Der Abstandshalter 136 ist bevorzugt aus Edelstahl gefertigt. Es können mehrere Abstandshalter 136 unterschiedlicher Dicken vorgesehen sein. Insbesondere können Grobabstandshalter oder Grobspacer und Feinabstandshalter oder Feinspacer vorgesehen sein. Der Gewindestift 128 ist mittig durch den Abstandshalter 136 hin durch geführt. Mit Hilfe des Abstandshalters 136 kann eine Positionierung der zweiten Komponente 110 in der z-Richtung z vorgenommen werden.
Der Abstandshalter 136 ist zwischen dem ersten Kugelkalottenelement 130 und einer Entkopplungsbuchse 200A der Befestigungseinrichtung 118 platziert. Die Entkopplungsbuchse 200A wird nachfolgend noch im Detail erläutert. Die Entkopplungsbuchse 200A ist in den Durchbruch 116 der zweiten Komponente 110 eingeklebt. Daher kann die Entkopplungsbuchse 200A auch als Klebebuchse bezeichnet werden. Der Gewindestift 128 ist mittig durch die Entkopplungsbuchse 200A hindurchgeführt. Die Entkopplungsbuchse 200A ist beispielsweise aus einer Eisen-Nickel-Legierung gefertigt.
An der Entkopplungsbuchse 200A liegt ein zweites Kugelkalottenelement 138 an. Das zweite Kugelkalottenelement 138 ist bevorzugt aus Edelstahl gefertigt. Der Gewindestift 128 ist mittig durch das zweite Kugelkalottenelement 138 hindurchgeführt. Das zweite Kugelkalottenelement 138 umfasst eine kugelkalottenförmige erste Kontaktfläche 140, mit der das zweite Kugelkalottenelement 138 an der Entkopplungsbuchse 200A anhegt. Der ersten Kontaktfläche 140 abgewandt weist das zweite Kugelkalottenelement 138 eine ebene zweite Kontaktfläche 142 auf.
Die Befestigungseinrichtung 118 weist weiterhin eine auf den Gewindestift 128 aufgeschraubte Mutter 144 auf. Die Mutter 144 ist beispielsweise aus rostfreiem Stahl gefertigt. Die Mutter 144 hegt an der zweiten Kontaktfläche 142 des zweiten Kugelkalottenelements 138 an.
Das optische System 100 umfasst ein Interferometer 146, das mit Hilfe eines Laserstrahls 148 mit der optisch wirksamen Fläche 112 der zweiten Komponente 110 wechselwirkt.
Fig. 3 zeigt eine schematische Schnittansicht der Entkopplungsbuchse 200A. Fig. 4 zeigt eine schematische Aufsicht der Entkopplungsbuchse 200A. Fig. 5 zeigt eine schematische Unteransicht der Entkopplungsbuchse 200A. Nachfolgend wird auf die Fig. 3 bis 5 gleichzeitig Bezug genommen.
Die Entkopplungsbuchse 200A weist eine Symmetrie oder Mittelachse 202 auf, zu der die Entkopplungsbuchse 200A rotationssymmetrisch aufgebaut ist. Ferner ist der Entkopplungsbuchse 200A eine Radialrichtung R zugeordnet. Die Radialrichtung R ist senkrecht zu der Mittelachse 202 und von dieser weg orientiert. Die Entkopplungsbuchse 200A ist ein einstückiges, insbesondere ein material- einstückiges, Bauteil. "Einstückig" oder "einteilig" heißt dabei, dass die Entkopplungsbuchse 200A nicht aus unterschiedlichen Einzelbauteilen zusammengesetzt ist, sondern ein durchgehendes Bauteil bildet. "Materialeinstückig" heißt vorliegend, dass die Entkopplungsbuchse 200A durchgehend aus demselben Material gefertigt ist.
Die Entkopplungsbuchse 200A weist einen zylinderförmigen Befestigungsabschnitt 204 auf, der mit der zweiten Komponente 110 verbunden, insbesondere verklebt, ist. Der Befestigungsabschnitt 204 ist in den Durchbruch 116 der zweiten Komponente 110 eingeklebt. Der Befestigungsabschnitt 204 ist rotationssymmetrisch zu der Mittelachse 202 aufgebaut. Der Befestigungsabschnitt 204 weist eine zylinderförmige Außenfläche 206 auf.
Aus der Außenfläche 206 erstrecken sich entlang der Radialrichtung R betrachtet ein erster Zentrierring 208 und ein zweiter Zentrierring 210 heraus. Mit Hilfe der Zentrierringe 208, 210 ist die Entkopplungsbuchse 200A in dem Durchbruch 116 der zweiten Komponente 110 zentriert. Die Zentrierringe 208, 210 sind ringförmig und laufen vollständig um die Mittelachse 202 herum.
Zwischen den beiden Zentrierringen 208, 210 sind ein erster Befestigungsring 212 und ein zweiter Befestigungsring 214 platziert, die sich ebenfalls entlang der Radialrichtung R betrachtet aus der Außenfläche 206 herauserstrecken. Die Befestigungsringe 212, 214 sind ringförmig und laufen vollständig um die Mittelachse 202 herum. Mit Hilfe der Befestigungsringe 212, 214 ist die Entkopplungsbuchse 200A in den Durchbruch 116 der zweiten Komponente 110 eingeklebt. Die Entkopplungsbuchse 200A ist mit Hilfe der Befestigungsringe 212, 214 radial mit der zweiten Komponente 110 verklebt. Alternativ kann jedoch auch eine axiale Verklebung vorgesehen sein. Für eine axiale Verklebung kann an der Entkopplungsbuchse 200A ein umlaufender Bund vorgesehen sein, der mit der zweiten Komponente 110 verklebt wird. Der Befestigungsabschnitt 204 weist eine erste Stirnfläche 216 und eine der ersten Stirnfläche 216 abgewandte zweite Stirnfläche 218 auf.
Innerhalb des Befestigungsabschnitts 204 ist ein zylinderförmiger Verbindungsabschnitt 220 angeordnet, der rotationssymmetrisch zu der Mittelachse 202 aufgebaut ist. Der Verbindungsabschnitt 220 weist einen zentrischen Durchbruch 222 auf, durch den der Gewindestift 128 hindurchgeführt ist. Der Durchbruch 222 kann eine Bohrung sein.
Der Verbindungsabschnitt 220 weist eine ebene erste Kontaktfläche 224 auf, an welcher der Abstandshalter 136 anliegt. Der ersten Kontaktfläche 224 abgewandt weist der Verbindungsabschnitt 220 eine kugelkalottenförmige zweite Kontaktfläche 226 auf. An der zweiten Kontaktfläche 226 hegt die erste Kontaktfläche 140 des zweiten Kugelkalottenelements 138 an.
Zwischen dem Befestigungsabschnitt 204 und dem Verbindungsabschnitt 220 ist ein erster Freistich oder eine erste Entkopplungsnut 228 vorgesehen, die den Befestigungsabschnitt 204 und den Verbindungsabschnitt 220 voneinander trennt. Die erste Entkopplungsnut 228 läuft vollständig um die Mittelachse 202 um. Die erste Entkopplungsnut 228 ist eine Ringnut und kann daher auch als solche bezeichnet werden. Die erste Entkopplungsnut 228 verläuft von der ersten Stirnfläche 216 aus in Richtung der zweiten Stirnfläche 218. Dabei durchbricht die erste Entkopplungsnut 228 die Entkopplungsbuchse 200A jedoch nicht vollständig.
Zwischen dem Befestigungsabschnitt 204 und dem Verbindungsabschnitt 220 ist ferner ein zweiter Freistich oder eine zweite Entkopplungsnut 230 vorgesehen, die den Befestigungsabschnitt 204 und den Verbin dungs ab schnitt 220 voneinander trennt. Die zweite Entkopplungsnut 230 läuft vollständig um die Mittelachse 202 um. Die zweite Entkopplungsnut 230 ist eine Ringnut und kann daher auch als solche bezeichnet werden. Die zweite Entkopplungsnut 230 verläuft im Gegensatz zu der ersten Entkopplungsnut 228 von der zweiten Stirnfläche 218 aus in Richtung der ersten Stirnfläche 216. Dabei durchbricht die zweite Entkopplungsnut 230 die Entkopplungsbuchse 200A jedoch nicht vollständig.
Entlang der Radialrichtung R betrachtet ist die erste Entkopplungsnut 228 innerhalb der zweiten Entkopplungsnut 230 beziehungsweise die zweite Entkopplungsnut 230 außerhalb der ersten Entkopplungsnut 228 angeordnet. Entlang der Mittelachse 202 betrachtet überlappen die Entkopplungsnuten 228, 230 einander, so dass der Befestigungsabschnitt 204 und der Verbindungsabschnitt 220 nur mit Hilfe eines Stegs 232 miteinander verbunden sind. Der Steg 232 ist hülsenförmig oder rohrförmig.
Über eine Veränderung einer Wandstärke des Stegs 232 kann dessen Steifigkeit variiert werden. Unter der "Steifigkeit" ist vorhegend der Widerstand eines Körpers, insbesondere des Stegs 232, gegen eine durch eine äußere Belastung aufgeprägte elastische Verformung zu verstehen und vermittelt den Zusammenhang zwischen der Belastung des Körpers und dessen Verformung. Die Steifigkeit wird bestimmt durch den Werkstoff des Körpers und dessen Geometrie.
Der Steg 232 fungiert als Festkörper gelenk zwischen dem Befestigungsabschnitt 204 und dem Verbindungsabschnitt 220. Unter einem "Festkörper gelenk" ist vorliegend ein Bereich eines Bauteils, welcher eine Relativbewegung zwischen zwei St arrkörp erb er eichen durch Biegung erlaubt, zu verstehen. Vorliegend fungieren der Befestigungsabschnitt 204 und der Verbindungsabschnitt 220 als Starrkörperbereiche, zwischen denen der Steg 232 als elastisch verformbares Festkörpergelenk vorgesehen ist.
Die Funktionalität der Befestigungseinrichtung 118 wird nachfolgend erläutert.
Zum Verbinden der beiden Komponenten 102, 110 werden zunächst die Hülsen 122, 124 an dem Durchbruch 108 der ersten Komponente 102 montiert. Anschließend wird der Gewindestift 128 in die erste Hülse 122 eingeschraubt.
Die Entkopplungsbuchse 200A wird mit Hilfe der Befestigungsringe 212, 214 in den Durchbruch 116 der zweiten Komponente 110 eingeklebt. Das erste Kugelkalottenelement 130, der Abstandshalter 123, die Entkopplungsbuchse 200A und das zweite Kugelkalottenelement 138 werden auf den Gewindestift 128 aufgefädelt. Die Mutter 144 wird auf den Gewindestift 128 aufgeschraubt, jedoch noch nicht festgezogen.
Mit Hilfe der Kugelkalottenelemente 130, 138 können nun Winkelfehler der beiden Komponenten 102, 110 zueinander ausgeglichen werden. Hierbei kann die zweite Komponente 110 gegenüber der ersten Komponente 102 um die x- Richtung und/oder um die y-Richtung y verkippt werden. Der Gewindestift 128 wird mit einem Werkzeug gegriffen und definiert gelängt. Anschließend wird erst die Mutter 144 handfest angelegt, während der Gewindestift 128 weiterhin gedehnt wird. Hierzu wird das zuvor erwähnte Werkzeug zum Dehnen des Gewindestifts 128 eingesetzt. Nachdem die Mutter 144 angelegt ist, wird das Werkzeug wieder abgesetzt. Hierdurch wird kein Drehmoment in die Befestigungseinrichtung 118 eingebracht.
Für den Fall, dass die Entkopplungsbuchse 200A nicht die Entkopplungsnuten 228, 230, welche die Steifigkeit der Entkopplungsbuchse 200A im Vergleich zu einer nicht gezeigten massiven Buchse reduzieren, aufweist, kann es vorkommen, dass durch ungünstige Reibverhältnisse die Kugelkalottenelemente 130, 138 nicht in ihre optimale Position rutschen, also nicht optimal einkugeln. Durch die dadurch entstandene Fehlstellung kann ein Moment erzeugt werden, welches zu einer ungewollten Deformation der zweiten Komponente 110, insbesondere der optisch wirksamen Fläche 112, führen kann. Diese Deformation kann über die zuvor erwähnte massive Buchse in die zweite Komponente 110 eingeleitet werden und zu einer ungewollten und nicht kompensierbaren Deformation der optisch wirksamen Fläche 112 führen. Durch das Vorsehen der Entkopplungsnuten 228, 230 beziehungsweise des als Festkörper- gelenk fungierenden Stegs 232 wird das Moment beziehungsweise die Deformation in der Entkopplungsbuchse 200A selbst aufgefangen und kann sich nicht auf die zweite Komponente 110 übertragen. Das optische System 100 wird somit deutlich robuster gegen Reibwerteinflüsse, welche besonders unter EUV- Bedingungen ungünstig sind. Eine Abhängigkeit von Reibwerten und der Performance der zweiten Komponente 110 ist somit nicht mehr gegeben. Auch geringe Formabweichungen der einzelnen Bauteile der Befestigungseinrichtung 118 können kompensiert werden.
Fig. 6 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Entkopplungsbuchse 200B.
Die Entkopplungsbuchse 200B unterscheidet sich von der Entkopplungsbuchse 200A nur dadurch, dass anstelle zweier Befestigungsringe 212, 214 genau ein Befestigungsring 234 vorgesehen ist, der entlang der Mittelachse 202 betrachtet mittig zwischen den Zentrierringen 208, 210 platziert ist. Alle Ausführungen betreffend die Entkopplungsbuchse 200A sind entsprechend auf die Entkopplungsbuchse 200B und umgekehrt anwendbar.
Fig. 7 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Entkopplungsbuchse 200C.
Die Entkopplungsbuchse 200C unterscheidet sich von der Entkopplungsbuchse 200A nur dadurch, dass der Steg 232 eine beliebige Anzahl den Steg 232 durchbrechender Durchbrüche oder Schlitze 236, 238 aufweist. Vorzugsweise sind die Schlitze 236, 238 gleichmäßig um die Mittelachse 202 herum verteilt angeordnet. Mit Hilfe des Einbringens der Schlitze 236, 238 kann die Steifigkeit des Stegs 232 reduziert werden. Die Steifigkeit des Stegs 232 kann somit durch die Größe und die Anzahl der Schlitze 236, 238 in einem weiten Bereich variiert beziehungsweise angepasst werden. Alle Ausführungen betreffend die Entkopplungsbuchsen 200A, 200B sind entsprechend auf die Entkopplungsbuchse 200C und umgekehrt anwendbar.
Fig. 8 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Entkopplungsbuchse 200D.
Die Entkopplungsbuchse 200D unterscheidet sich von der Entkopplungsbuchse 200A nur dadurch, dass anstelle zweier Entkopplungsnuten 228, 230 nur die erste Entkopplungsnut 228 vorgesehen ist. In diesem Fall ist die zweite Entkopplungsnut 230 verzichtbar. Alternativ kann auch nur die zweite Entkopplungsnut 230 vorgesehen sein. In diesem Fall ist die erste Entkopplungsnut 228 verzichtbar. Alle Ausführungen betreffend die Entkopplungsbuchsen 200A, 200B, 200C sind entsprechend auf die Entkopplungsbuchse 200D und umgekehrt anwendbar.
Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie vielfältig mo difizierbar.
BEZUGSZEICHENLISTE
1 Projektionsbelichtungsanlage
2 B eleuchtun gs system
3 Lichtquelle
4 B eleuchtun gsop tik
5 Objektfeld
6 Objektebene
7 Retikel
8 Retikelhalter
9 Retikelverlagerungsantrieb
10 Projektionsoptik
11 Bildfeld
12 Bildebene
13 Wafer
14 Waferhalter
15 W aferverlagerungsantrieb
16 B eleuchtun gsstr ahlun g
17 Kollektor
18 Zwischenfokusebene
19 Umlenkspiegel
20 erster Facettenspiegel
21 erste F acette
22 zweiter Facettenspiegel
23 zweite F acette
100 optisches System
102 Komponente
104 Oberseite
106 Unterseite
108 Durchbruch 110 Komponente
112 optisch wirksame Fläche
114 Rückseite
116 Durchbruch
118 Befestigungseinrichtung
120 Mittelachse
122 Hülse
124 Hülse
126 Kontaktfläche
128 Gewinde stift
130 Kugelkalottenelement
132 Kontaktfläche
134 Kontaktfläche
136 Abstandshalter
138 Kugelkalottenelement
140 Kontaktfläche
142 Kontaktfläche
144 Mutter
146 Interferometer
148 Laserstrahl
200A Entkopplungsbuchse
200B Entkopplungsbuchse
200C Entkopplungsbuchse
200D Entkopplungsbuchse
202 Mittelachse
204 Befestigungsabschnitt
206 Außenfläche
208 Zentrierring
210 Z entrierrin g
212 Befestigungsring 214 Befestigungsring
216 Stirnfläche
218 Stirnfläche
220 Verbindungsabschnitt
222 Durchbruch
224 Kontaktfläche
226 Kontaktfläche
228 Entkopplungsnut
230 Entkopplungsnut
232 Steg
234 Befestigungsring
236 Schlitz
238 Schlitz
Ml Spiegel
M2 Spiegel
M3 Spiegel
M4 Spiegel
M5 Spiegel
M6 Spiegel
R Radialrichtung x x- Richtung y y-Richtung z z- Richtung

Claims

PATENTANSPRÜCHE
1. Optisches System (100) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend eine erste Komponente (102), eine zweite Komponente (110), und eine Befestigungseinrichtung (118), mit deren Hilfe die zweite Komponente (110) an der ersten Komponente (102) befestigt ist, wobei die Befestigungseinrichtung (118) eine Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C, 200D) zum mechanischen Entkoppeln der zweiten Komponente (110) von der ersten Komponente (102) aufweist, und wobei die Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C, 200D) eine die Steifigkeit der Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C, 200D) reduzierende Entkopplungsnut (228, 230) aufweist.
2. Optisches System nach Anspruch 1, wobei die Entkopplungsnut (228, 230) ringförmig um eine Mittelachse (202) der Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C, 200D) umläuft.
3. Optisches System nach Anspruch 2, wobei die Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C) eine erste Entkopplungsnut (228) und eine zweite Entkopplungsnut (230) aufweist, wobei sich die erste Entkopplungsnut (228) von einer ersten Stirnfläche (216) der Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C) in Richtung einer zweiten Stirnfläche (218) der Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C) erstreckt, und wobei sich die zweite Entkopplungsnut (230) von der zweiten Stirnfläche (218) in Richtung der ersten Stirnfläche (216) erstreckt.
4. Optisches System nach Anspruch 3, wobei die erste Entkopplungsnut (228) entlang einer Radialrichtung (R) der Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C) betrachtet innerhalb der zweiten Entkopplungsnut (230) angeordnet ist.
5. Optisches System nach einem der Ansprüche 2 - 4, wobei sich die erste Entkopplungsnut (228) und die zweite Entkopplungsnut (230) entlang der Mittelachse (202) betrachtet überlappen.
6. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 - 5, wobei die Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C, 200D) einen mit der ersten Komponente (102) verbundenen Verbindungsabschnitt (220) und einen mit der zweiten Komponente (110) verbundenen Befestigungsabschnitt (204) aufweist, und wobei die Entkopplungsnut (228, 230) zwischen dem Verbindungsabschnitt (220) und dem Befestigungsabschnitt (204) angeordnet ist.
7. Optisches System nach Anspruch 6, wobei der Verbindungsabschnitt (220) und der Befestigungsabschnitt (204) lediglich mit Hilfe eines als Festkörpergelenk fungierenden Stegs (232) miteinander verbunden sind.
8. Optisches System nach Anspruch 7, wobei der Steg (232) hülsenförmig ist.
9. Optisches System nach Anspruch 7 oder 8, wobei der Steg (232) den Steg (232) durchbrechende Schlitze (236, 238) aufweist.
10. Optisches System nach einem der Ansprüche 6 - 9, wobei der Verbindungsabschnitt (220) eine ebene erste Kontaktfläche (224) und eine der ersten Kontaktfläche (224) abgewandte kugelkalottenförmige zweite Kontaktfläche (226) aufweist.
11. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 - 10, wobei die Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C, 200D) einen ersten Zentrierring (208) und einen zweiten Zentrierring (210) zum Zentrieren der Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C, 200D) in einem Durchbruch (116), der in der zweiten Komponente (110) vorgesehen ist, aufweist.
12. Optisches System nach Anspruch 11, wobei die Entkopplungsbuchse (200A, 200C, 200D) einen ersten Befestigungsring (212) und einen zweiten Befestigungsring (214) zum Befestigen der Entkopplungsbuchse (200A, 200C, 200D) an dem Durchbruch (116) aufweist, und wobei der erste Befestigungsring (212) und der zweite Befestigungsring (214) zwischen dem ersten Zentrierring (208) und dem zweiten Zentrierring (210) angeordnet sind.
13. Optisches System nach Anspruch 11, wobei die Entkopplungsbuchse (200B) genau einen Befestigungsring (234) zum Befestigen der Entkopplungsbuchse (200B) an dem Durchbruch (116) aufweist, und wobei der Befestigungsring (234) zwischen dem ersten Zentrierring (208) und dem zweiten Zentrierring (210) angeordnet ist.
14. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 - 13, wobei die Entkopplungsbuchse (200A, 200B, 200C, 200D) ein einstückiges, insbesondere ein materialeinstückiges, Bauteil ist.
15. Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einem optischen System (100) nach einem der Ansprüche 1 - 14.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022214184A1 (de) 2022-12-21 2024-06-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches system und projektionsbelichtungsanlage

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6573978B1 (en) 1999-01-26 2003-06-03 Mcguire, Jr. James P. EUV condenser with non-imaging optics
US20060132747A1 (en) 2003-04-17 2006-06-22 Carl Zeiss Smt Ag Optical element for an illumination system
DE102008009600A1 (de) 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie
DE102016221505A1 (de) * 2016-11-02 2016-12-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit deformationsentkoppelten Komponenten
DE102016204143A1 (de) * 2016-03-14 2017-09-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Vorrichtung für eine Lithographieanlage sowie Lithographieanlage
US20180074303A1 (en) 2015-04-14 2018-03-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical unit and projection exposure unit including same
DE102017220586A1 (de) 2017-11-17 2019-05-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Pupillenfacettenspiegel, Beleuchtungsoptik und optisches System für eine Projek-tionsbelichtungsanlage
DE102019215216A1 (de) * 2019-10-02 2019-11-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Messanordnung und Messverfahren zur Ermittlung der Position und/oder der Orientierung eines optischen Elements sowie Projektionsbelichtungsanlage
DE102022214184A1 (de) 2022-12-21 2024-06-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches system und projektionsbelichtungsanlage

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6573978B1 (en) 1999-01-26 2003-06-03 Mcguire, Jr. James P. EUV condenser with non-imaging optics
US20060132747A1 (en) 2003-04-17 2006-06-22 Carl Zeiss Smt Ag Optical element for an illumination system
EP1614008B1 (de) 2003-04-17 2009-12-02 Carl Zeiss SMT AG Optisches element für ein beleuchtungssystem
DE102008009600A1 (de) 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie
US20180074303A1 (en) 2015-04-14 2018-03-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical unit and projection exposure unit including same
DE102016204143A1 (de) * 2016-03-14 2017-09-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Vorrichtung für eine Lithographieanlage sowie Lithographieanlage
DE102016221505A1 (de) * 2016-11-02 2016-12-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit deformationsentkoppelten Komponenten
DE102017220586A1 (de) 2017-11-17 2019-05-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Pupillenfacettenspiegel, Beleuchtungsoptik und optisches System für eine Projek-tionsbelichtungsanlage
DE102019215216A1 (de) * 2019-10-02 2019-11-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Messanordnung und Messverfahren zur Ermittlung der Position und/oder der Orientierung eines optischen Elements sowie Projektionsbelichtungsanlage
DE102022214184A1 (de) 2022-12-21 2024-06-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches system und projektionsbelichtungsanlage

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