DE102019203600B4 - Verfahren, optisches System und Lithographieanlage - Google Patents

Verfahren, optisches System und Lithographieanlage Download PDF

Info

Publication number
DE102019203600B4
DE102019203600B4 DE102019203600.7A DE102019203600A DE102019203600B4 DE 102019203600 B4 DE102019203600 B4 DE 102019203600B4 DE 102019203600 A DE102019203600 A DE 102019203600A DE 102019203600 B4 DE102019203600 B4 DE 102019203600B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
joint
component
connection
procedure according
sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE102019203600.7A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102019203600A1 (de
Inventor
Steffen Fritzsche
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE102019203600.7A priority Critical patent/DE102019203600B4/de
Publication of DE102019203600A1 publication Critical patent/DE102019203600A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102019203600B4 publication Critical patent/DE102019203600B4/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/003Alignment of optical elements
    • G02B7/004Manual alignment, e.g. micromanipulators
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/62Optical apparatus specially adapted for adjusting optical elements during the assembly of optical systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/023Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses permitting adjustment
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/182Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
    • G02B7/1822Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors comprising means for aligning the optical axis
    • G02B7/1824Manual alignment

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

Es wird offenbart ein Verfahren zum Herstellen eines optischen Systems (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), wobei das optische System (200) eine erste und eine zweite Komponente (206, 216) aufweist, mit den Schritten:a) Bereitstellen (S1) einer verformbaren Verbindung (300, 306) zwischen der ersten und zweiten Komponente (206, 216),b) Justieren (S2) der ersten und zweiten Komponente (206, 216) zueinander unter Verformung der verformbaren Verbindung (300, 306), undc) Versteifen (S4) der verformbaren Verbindung (300, 306).

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines optischen Systems, ein optisches System und eine Lithographieanlage.
  • Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
  • Das Projektionssystem, welches auch als Projektionsobjektiv (Engl.: lens barrel) bezeichnet wird, umfasst für gewöhnlich einen Tragrahmen (Engl.: force frame) und einen Sensorrahmen (Engl.: sensor frame).
  • An dem Tragrahmen sind optische Elemente, wie beispielsweise Spiegel oder Linsen, gehalten. Dies geschieht mithilfe von Aktuatoren, welche eine Positionierung der optischen Elemente in allen sechs Freiheitsgraden erlauben. Dadurch kann das Lichtbündel für die Abbildung geeignet geformt werden, insbesondere können so Abbildungsfehler korrigiert werden.
  • Die optischen Elemente werden mithilfe von Sensoren überwacht. Beispielsweise sind ein oder mehrere Sensoren dazu eingerichtet, eine Position eines oder mehrerer optischer Elemente in ein oder mehreren Freiheitsgraden zu erfassen. Ein Beispiel für einen solchen Sensor ist ein optischer Sensor, insbesondere ein Interferometer. Zumindest einige der Sensoren sind an dem Sensorrahmen gehalten.
  • Der Tragrahmen und der Sensorrahmen sind mechanisch voneinander entkoppelt, um für die Aktuatoren und Sensoren ein hochgenaues Referenzsystem bereitstellen zu können.
  • Weiter muss im Hinblick auf ein hochgenaues Referenzsystem sichergestellt sein, dass die Montage der Sensoren und anderer empfindlicher Komponenten an dem Sensorrahmen selbst hochgenau und spannungsfrei erfolgt.
  • Spannungsfrei meint, dass möglichst geringe Spannungen über ein Sensorgehäuse oder dergleichen auf die in dem Sensorgehäuse untergebrachte Messtechnik wirken. Andernfalls kann dies zu Messfehlern oder, wenn die Spannungen über die Lebensdauer des entsprechenden Sensors relaxieren, zu Drifteffekten führen. Ferner besteht regelmäßig die Anforderung, einen jeweiligen Sensor bezüglich des Sensorrahmens genau auszurichten. Dies beispielsweise, um einen Sensor auf ein von diesem zu überwachendes optisches Element zu richten. Schließlich soll die Verbindung zwischen einem jeweiligen Sensor und dem Sensorrahmen sehr steif sein, damit sie unempfindlich gegenüber mechanischen Anregungen ist. Dies ist gleichzusetzen mit einer hohen Eigenfrequenz. Die Eigenfrequenz ist dabei so zu wählen, dass die in der Lithographieanlage für gewöhnlich anfallenden Anregungen unterhalb der Eigenfrequenz bleiben und daher die Messung mithilfe des entsprechenden Sensors weitestgehend unbeeinflusst von diesen Anregungen bleibt.
  • Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein verbessertes Verfahren zum Herstellen eines optischen Systems, ein verbessertes optisches System sowie eine verbesserte Lithographieanlage bereitzustellen.
  • Zum Stand der Technik sei auf US 2006 / 0 007 981 A1 verwiesen.
  • Demgemäß wird bereitgestellt: ein Verfahren zum Herstellen eines optischen Systems für eine Lithographieanlage, wobei das optische System eine erste und eine zweite Komponente aufweist, mit den Schritten:
    1. a) Bereitstellen einer verformbaren Verbindung zwischen der ersten und zweiten Komponente,
    2. b) Justieren der ersten und zweiten Komponente zueinander unter Verformung der verformbaren Verbindung, und
    3. c) Versteifen der verformbaren Verbindung.
  • In dem zunächst eine verformbare Verbindung bereitgestellt wird, wird vermieden, dass nennenswerte Spannungen in die erste und zweite Komponente beim Herstellen der Verbindung zwischen diesen eingebracht werden. Die anschließende Justage ge-kann einfach unter Verformung der verformbaren Verbindung erfolgen. Um schließlich eine steife Verbindung mit möglichst hohen Eigenfrequenzen zu gewährleisten, wird die verformbare Verbindung in einem weiteren Schritt versteift.
  • Bei dem optischen System kann es sich insbesondere um eine Lithographieanlage handeln. Alternativ kann es sich bei dem optischen System auch um ein Messsystem beispielsweise im Zusammenhang mit der Montage einer Lithographieanlage oder eines optischen Elements für eine Lithographieanlage handeln.
  • Die erste Komponente kann beispielsweise als Sensorrahmen ausgebildet sein. Die Lithographieanlage kann weiter eine Basis und/oder einen Tragrahmen aufweisen. An dem Tragrahmen können eine oder mehrere optische Elemente in bis zu sechs Freiheitsgraden beweglich gehalten sein. Bei den optischen Elementen kann es sich beispielsweise um Spiegel, Linsen, optische Gitter und/oder eine Lambda-Platte handeln. Der Sensorrahmen kann von der Basis und/oder dem Tragrahmen mechanisch entkoppelt vorgesehen sein.
  • Bei der zweiten Komponente kann es sich beispielsweise um einen Sensor handeln. Der Sensor kann zur Überwachung eines oder mehrerer der optischen Elemente eingerichtet sein. Insbesondere kann der Sensor dazu eingerichtet sein, eine Position eines optischen Elements in zumindest einem Freiheitsgrad zu erfassen. Der Sensor kann Bestandteil eines Regelkreises (Engl: closed-loop control) zur Positionsregelung zumindest eines optischen Elements sein. Weitere Bestandteile des Regelkreises können beispielsweise ein Aktuator zum Betätigen des optischen Elements sowie eine Regeleinheit sein. Die Regeleinheit regelt die Position des Aktuators in Abhängigkeit von Soll-Positionen und Ist-Positionen des optischen Elements. Die Soll-Positionen werden beispielsweise in Abhängigkeit von der jeweiligen Belichtungsaufgabe von einem zentralen Steuergerät der Lithographieanlage bereitgestellt. Die Ist-Positionen des optischen Elements werden von dem Sensor erfasst.
  • Der Sensor ist insbesondere als optischer, induktiver oder kapazitiver Sensor ausgebildet. Ein Beispiel für einen optischen Sensor ist ein Interferometer. Dabei werden zwei Lichtstrahlen, von denen zumindest einer mit dem optischen Element wechselwirkt, beispielsweise von diesem reflektiert wird, zur Interferenz gebracht.
  • Aus dem sich ergebenden Interferenzmuster kann ein Unterschied in einer Weglänge, welche die zwei Lichtstrahlen jeweils durchlaufen, berechnet werden. Aus der Weglänge kann wiederum die Position des optischen Elements in zumindest einem von beispielsweise bis zu sechs Freiheitsgraden berechnet werden.
  • Die verformbare Verbindung kann mithilfe von Kraft oder Wärme, eines elektrischen Feldes oder sonst wie verformbar sein. Die Verformbarkeit ist derart beschaffen, dass sie das Justieren gemäß Schritt b) erlaubt.
  • Das Versteifen meint, dass ein weiteres Positionieren der ersten und zweiten Komponente relativ zueinander in dem zumindest einen von bis zu sechs Freiheitsgraden, in welchem zuvor das Justieren gemäß Schritt b) stattgefunden hat, gesperrt ist. Bevorzugt kann das Versteifen bedeuten, dass ein Positionieren der ersten und zweiten Komponente relativ zueinander in jedem der sechs Freiheitsgrade gesperrt ist.
  • Das Versteifen kann auf unterschiedliche Weisen erfolgen. Beispielsweise können zusätzliche Komponenten, Materialien und/oder Zusatzwerkstoffe hinzugefügt werden, welche die weitere Verformung der verformbaren Verbindung verhindern. Alternativ kann die Verbindung selbst, insbesondere hinsichtlich ihrer Materialeigenschaften verändert werden. In Ausführungsformen kann dabei eine kristalline Struktur geschaffen oder verändert werden.
  • Die Versteifung ist dabei bevorzugt derart vorgesehen, dass, wenn die zweite Komponente (zum Beispiel der Sensor) als Einmassenschwinger und die erste Komponente als fixe Basis angesehen wird, wobei die entsprechende Federsteifigkeit (zwischen der ersten und zweiten Komponente) aus der Versteifung gemäß Schritt c) resultiert und die verformbare Verbindung selbst keine relevante Steifigkeit aufweist, die erste dynamische Eigenfrequenz dieses Einmassenschwingers größer 500 Hz, bevorzugt größer 800 Hz und noch weiter bevorzugt größer 1000 Hz beträgt.
  • Die Bezeichnung der Schritte mit a), b) und c) ist vorliegend nicht dahingehend zu verstehen, dass eine streng einzuhaltende Reihenfolge vorgegeben ist. Vielmehr können die Schritte auch in anderer Reihenfolge erfolgen. Weiterhin sind Zwischenschritte, gegebenenfalls wie in den abhängigen Ansprüchen angegeben, möglich. Insoweit können Schritte eingefügt werden, wobei in diesem Fall eine (Um- )Benennung mit a), b), c), d), e) usw. für den Fachmann als offensichtlich erkennbar ist.
  • Gemäß einer Ausführungsform ist die verformbare Verbindung als Gelenk ausgebildet. Bevorzugt wird das Gelenk in Schritt c) überbrückt.
  • Mithilfe eines Gelenks kann vorteilhaft eine räumlich exakte Verformbarkeit bereitgestellt werden. Das Überbrücken des Gelenks meint, dass ein mechanisch zu diesem parallel geschalteter Kraftleitungspfad vorgesehen wird, welcher derart beschaffen ist, dass die im Betrieb der Lithographieanlage erwartbaren Kräfte zu keiner relevanten Verformung der verformbaren Verbindung mehr - zumindest nicht in dem Freiheitsgrad, in welchem die Justage gemäß Schritt b) stattgefunden hat, oder in allen sechs Freiheitsgraden - führen.
    Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird das Gelenk mithilfe einer stoffschlüssigen Verbindung überbrückt.
  • Unter einer stoffschlüssigen Verbindung ist vorliegend eine solche Verbindung zu verstehen, bei welcher die Verbindungspartner durch atomare oder molekulare Kräfte zusammenhalten. Stoffschlüssige Verbindungen sind dabei nicht lösbare Verbindungen, welche sich nur durch Zerstörung der Verbindungsmittel trennen lassen. Stoffschlüssig kann z.B. durch Kleben, Löten, Schweißen oder Vulkanisieren verbunden werden.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die stoffschlüssigen Verbindung Klebstoff auf.
  • Bei dem Klebstoff kann es sich insbesondere um einen Zwei-Komponenten-Klebstoff, beispielsweise ein Epoxidharz mit entsprechendem Binder, handeln. Der Klebstoff kann eine dämpfende Charakteristik aufweisen. Dadurch werden vorteilhaft mechanische Anregungen nicht bzw. nur in reduziertem Maße von der ersten auf die zweite Komponente, und umgekehrt, übertragen.
  • Es kann vorgesehen sein, dass zum Herstellen der stoffschlüssigen Verbindung ein Hohlraum mit dem Klebstoff vergossen wird. Bei dem Hohlraum kann es sich insbesondere um einen Topf handeln.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird der Klebstoff vor Schritt b) appliziert.
  • D. h., der Schritt des Justieren gemäß Schritt b) erfolgt unter Verformung auch des Klebstoffs. Dies setzt bei einem Zwei-Komponenten-Klebstoff lediglich voraus, dass die Topfzeit nicht überschritten wird. Vorteilhaft muss bei dieser Ausführungsform nach Schritt b) keine mechanische Veränderung mehr von außen vorgenommen werden: Das Versteifen gemäß Schritt c) tritt - sozusagen automatisch - durch Zeitablauf (Aushärten des Klebstoffs) ein.
    Gemäß einer alternativen Ausführungsform wird der Klebstoff nach Schritt b) appliziert.
  • Bei einem schnell härtenden Klebstoff und längerer Montagedauer kann es vorteilhaft sein, den Klebstoff erst nach Schritt b) zu applizieren, um die Topfzeit nicht zu überschreiten.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird das Gelenk zumindest teilweise in einem Topf angeordnet, welcher mit dem Klebstoff vergossen wird.
  • Das Vergießen des Topfes mit Klebstoff ist prozesstechnisch einfach zu bewerkstelligen.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die stoffschlüssige Verbindung Metall auf.
  • Das Metall kann als Bestandteil der ersten und/oder zweiten Komponente oder des Gelenks oder als ein Zusatzbauteil (beispielsweise in Form des nachfolgenden noch näher erläuterten Halteelements) oder als Zusatzwerkstoff, insbesondere Schweißzusatzwerkstoff oder Lot, vorliegen. Entsprechend kann die stoffschlüssige Verbindung beispielsweise in einem Schweißpunkt oder einer Schweißnaht bestehen.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird die stoffschlüssige Verbindung durch Schweißen oder Löten hergestellt.
  • Dadurch ergibt sich ein einfaches Verfahren.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Gelenk einen ersten und einen zweiten Befestigungsabschnitt und einen diese verbindenden Gelenkabschnitt auf. Bevorzugt wird in Schritt a) der erste Befestigungsabschnitt an der ersten Komponente und/oder der zweite Befestigungsabschnitt an der zweiten Komponente befestigt. Weiter bevorzugt werden in Schritt c) der erste und zweite Befestigungsabschnitt relativ zueinander fixiert.
  • Der erste und/oder zweite Befestigungsabschnitt können einteilig oder einstückig mit der ersten bzw. zweiten Komponente gefertigt sein. Einteilig meint, dass die jeweiligen Verbindungspartner formschlüssig, kraftschlüssig und/oder stoffschlüssig miteinander verbunden sind. Eine formschlüssige Verbindung entsteht durch das Ineinander- oder Hintergreifen von mindestens zwei Verbindungspartnern. Eine kraftschlüssige Verbindung setzt eine Normal-Kraft auf die miteinander zu verbindenden Flächen voraus. Kraftschlüssige Verbindungen können durch Reibschluss verwirklicht werden. Die gegenseitige Verschiebung der Flächen ist verhindert, solange die durch die Haftreibung bewirkte Gegen-Kraft nicht überschritten wird. Eine kraftschlüssige Verbindung kann auch als ein magnetischer Kraftschluss vorliegen. Bei stoffschlüssigen Verbindungen werden die Verbindungspartner durch atomare oder molekulare Kräfte zusammengehalten. Stoffschlüssige Verbindungen sind nicht lösbare Verbindungen, die sich nur durch Zerstörung der Verbindungsmittel trennen lassen. Stoffschlüssig kann z.B. durch Kleben, Löten, Schweißen oder Vulkanisieren verbunden werden. Einstückig meint, dass die Verbindungspartner aus einem Materialstück durch Urformen, beispielsweise Gießen, hergestellt sind.
  • Beispielsweise kann der zweite Befestigungsabschnitt an der zweiten Komponente bereits vormontiert sein, sodass in Schritt a) nur mehr der erste Befestigungsabschnitt an der ersten Komponente befestigt wird. Als Beispiel sei hier genannt, dass das Sensorgehäuse (zweite Komponente) mit dem bereits daran (gegebenenfalls einstückig) befestigten zweiten Befestigungsabschnitt vor Schritt a) angeliefert wird.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird an dem ersten Befestigungsabschnitt ein Halteelement befestigt, welches in Schritt b) gegenüber der zweiten Komponente verschoben wird, wobei anschließend das Halteelement mit der zweiten Komponente mithilfe der stoffschlüssigen Verbindung verbunden wird. Alternativ oder zusätzlich wird an dem zweiten Befestigungsabschnitt ein Halteelement befestigt, welches in Schritt b) gegenüber der ersten Komponente verschoben wird, wobei anschließend das Halteelement mit der ersten Komponente mithilfe der stoffschlüssigen Verbindung verbunden wird.
  • Bei dem Halteelement kann es sich beispielsweise um ein Blech handeln.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform reicht einer von dem ersten und zweiten Befestigungsabschnitt in Richtung des jeweils anderen Befestigungsabschnitts unter Ausbildung eines Spalts zwischen dem ersten und zweiten Befestigungsabschnitt. Bevorzugt sind der erste und zweite Befestigungsabschnitt über den Spalt hinweg mithilfe der stoffschlüssigen Verbindung verbunden.
  • Ein derartiger Spalt kann insbesondere einfach mit dem Klebstoff aufgefüllt werden. Dadurch, dass der Spalt verhältnismäßig schmal ist, wird nur wenig Klebstoff benötigt.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das Gelenk ein Festkörpergelenk. Hierunter ist ein Körper aus einem elastischen Material, wie beispielsweise Metall, insbesondere Aluminium oder Kupfer, zu verstehen, welcher einen verjüngten Abschnitt aufweist. Der verjüngte Abschnitt besitzt ein vernachlässigbares Flächenträgheitsmoment, sodass er angreifenden Biegekräften praktisch nicht wiederstehen kann. Entsprechend ist er mechanisch als Gelenk zu betrachten. Alternativ könnte das Gelenk als Kugel- oder Kreuzgelenk ausgebildet sein.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist der Schritt b) ein Justieren der ersten und zweiten Komponente zueinander in bis zu sechs Freiheitsgraden auf.
  • Das Justieren gemäß Schritt b) umfasst ein Positionieren der ersten und zweiten Komponente relativ zueinander in zumindest einem von bis zu sechs Freiheitsgraden (ein, zwei oder drei translatorische und/oder ein, zwei oder drei rotatorische Freiheitsgrade). Die sechs Freiheitsgrade umfassen ein Bewegen der ersten und zweiten Komponente relativ zueinander entlang drei orthogonaler Achsen x, y und z sowie ein Rotieren der ersten und zweiten Komponente zueinander um die Achsen x, y und z, also in den Richtungen Rx , Ry und Rz .
  • Weiterhin wird ein optisches System für eine Lithographieanlage bereitgestellt, welches umfasst:
    • eine erste Komponente,
    • eine zweite Komponente,
    • ein Gelenk, welches die erste und zweite Komponente miteinander verbindet, und
    • eine stoffschlüssige Verbindung, welche das Gelenk überbrückt.
  • Ferner wird eine Lithographieanlage mit dem vorstehend beschriebenen optischen System bereitgestellt.
  • Die für das vorstehende Verfahren beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten entsprechend für das optische System sowie für die Lithographieanlage, und umgekehrt.
  • „Ein“ ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.
  • Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.
  • Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.
    • 1A zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer EUV-Lithographieanlage;
    • 1B zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer DUV-Lithographieanlage;
    • 2 zeigt schematisch in einer perspektivischen Ansicht ein optisches System gemäß einer Ausführungsform;
    • 3 zeigt in einer perspektivischen Ansicht eine Befestigungsstelle eines Sensors an einem Sensorrahmen aus 2;
    • 4 zeigt einen Schnitt IV-IV aus 3;
    • 5 zeigt in perspektivischer Ansicht ein Festkörpergelenk gemäß einer weiteren Ausführungsform;
    • 6 zeigt die Ausgestaltung der Befestigungsstelle aus 3 gemäß einer weiteren Ausführungsform; und
    • 7 zeigt in einem Flussdiagram ein Verfahren gemäß einer Ausführungsform.
  • In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.
  • 1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht EUV für „extremes Ultraviolett“ (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind jeweils in einem nicht gezeigten Vakuum-Gehäuse vorgesehen, wobei jedes Vakuum-Gehäuse mithilfe einer nicht dargestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum-Gehäuse sind von einem nicht dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren beziehungsweise Einstellen von optischen Elementen vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein.
  • Die EUV-Lithographieanlage 100A weist eine EUV-Lichtquelle 106A auf. Als EUV-Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle (oder ein Synchrotron) vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV-Bereich (extrem ultravioletter Bereich), also beispielsweise im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 20 nm, aussendet. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebündelt und die gewünschte Betriebswellenlänge aus der EUV-Strahlung 108A herausgefiltert. Die von der EUV-Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und im Projektionssystem 104 evakuiert sind.
  • Das in 1A dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf eine Photomaske (Engl.: reticle) 120 geleitet. Die Photomaske 120 ist ebenfalls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 122 auf die Photomaske 120 gelenkt werden. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.
  • Das Projektionssystem 104 (auch als Projektionsobjektiv bezeichnet) weist sechs Spiegel M1 bis M6 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Spiegel M1 bis M6 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel M1 bis M6 der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel M1 bis M6 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel M1 bis M6 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
  • 1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 100B, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht DUV für „tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 können - wie bereits mit Bezug zu 1A beschrieben - in einem Vakuumgehäuse angeordnet und/oder von einem Maschinenraum mit entsprechenden Antriebsvorrichtungen umgeben sein.
  • Die DUV-Lithographieanlage 100B weist eine DUV-Lichtquelle 106B auf. Als DUV-Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emittiert.
  • Das in 1B dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 leitet die DUV-Strahlung 108B auf eine Photomaske 120. Die Photomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.
  • Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 128 und/oder Spiegel 130 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Linsen 128 und/oder Spiegel 130 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen 128 und Spiegel 130 der DUV-Lithographieanlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen 128 und/oder Spiegel 130 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel 130 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
  • Ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 128 und dem Wafer 124 kann durch ein flüssiges Medium 132 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 aufweist. Das flüssige Medium 132 kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf. Das Medium 132 kann auch als Immersionsflüssigkeit bezeichnet werden.
  • 2 zeigt schematisch ein optisches System 200 in einer teils perspektivischen Ansicht. Das optische System 200 stellt sich hier als Ausschnitt aus einer der Lithographieanlagen 100 A, 100 B gemäß 1A bzw. 1B dar.
  • Das optische System 200 umfasst eine Basis 202, an welcher sich ein Tragrahmen 204 und ein Sensorrahmen 206 abstützen. Der Tragrahmen 204 und der Sensorrahmen 206 sind dabei jeweils von der Basis 202 mechanisch entkoppelt, was in 2 mithilfe von Federn 208 kenntlich gemacht ist.
  • An dem Tragrahmen 204 ist ein optisches Element - hier in Form eines Spiegels 210 - in sechs Freiheitsgraden beweglich gelagert vorgesehen. Bei dem Spiegel 210 kann es sich grundsätzlich um jedes der optischen Elemente aus den 1A und 1B handeln, siehe dort insbesondere die optischen Elemente 110, 112, 114, 116, 118, 122, M1 bis M6 sowie 128, 130. Dazu sind mehrere Aktuatoren 212, beispielsweise Lorenzaktuatoren, vorgesehen, welche den Spiegel 210 mithilfe sogenannter Pins 214 (Stäbe) betätigen.
  • Die Position des Spiegels 212 in zumindest einem Freiheitsgrad wird mithilfe eines an dem Sensorrahmen 206 befestigten Sensors 216 erfasst. Der Sensor 216 ist hier als optischer Sensor in Form eines Interferometers ausgebildet. Solche Sensoren sind grundsätzlich bekannt, sodass nachfolgend deren Funktionsprinzip nur kurz erläutert sei: Eine Lichtquelle 218 erzeugt mitunter Lichtstrahlen L1 , L2 . Diese werden an der optisch wirksamen Fläche 220 des Spiegels 210 reflektiert und von einer Messtechnik 222 zur Interferenz gebracht. Die Messtechnik 222 ist in einem Gehäuse 224 des Sensors 216 angeordnet. Aus einer unterschiedlichen Wegstrecke welche die Lichtstrahlen L1, L2 zurücklegen, kann die Position des Spiegels 210 in dem zumindest einen Freiheitsgrad berechnet werden.
  • Die Darstellung des Strahlenverlaufs (Lichtstrahlen L1, L2 ) für die Messung in 2 entspricht nicht notwendigerweise der tatsächlich verwendeten Methode, kann aber als Verallgemeinerung gesehen werden. In Ausführungsformen kann das Licht von dem Sensor 216 selbst ausgesendet und von einem sogenannten Target (Planspiegel), das am Spiegel 210 befestigt ist, reflektiert werden. Das reflektierte Licht wird in dem Sensor 216 mit einem dort erzeugten Referenzstrahl (Strahlteiler) überlagert.
  • Das Sensorgehäuse 224 ist beispielsweise an drei Befestigungsstellen 226 an dem Sensorrahmen 206 befestigt. Eine solche Befestigungsstelle 226 ist in 3 vergrößert und perspektivisch dargestellt. 4 zeigt einen Schnitt IV-IV aus 3.
  • Die Befestigungsstelle 226 umfasst ein Festkörpergelenk 300. Das Festkörpergelenk 300 weist einen ersten Befestigungsabschnitt 302, einen zweiten Befestigungsabschnitt 304 und einen Gelenkabschnitt 306 auf. Der Gelenkabschnitt 306 verbindet den ersten und zweiten Befestigungsabschnitt 302, 304 miteinander. Gemäß den Ausführungsbeispielen bilden die Abschnitte 302, 304, 306 ein einstückiges Bauteil aus insbesondere Metall wie etwa Aluminium oder Kupfer aus. Der Gelenkabschnitt 306 ist gegenüber dem ersten und zweiten Befestigungsabschnitt 302, 304 verjüngt ausgebildet. So weist der Gelenkabschnitt 306 beispielsweise eine Breite b306 auf, welche jeweils kleiner ist als die Breiten b302 , b304 der Befestigungsabschnitte 302, 304. Insbesondere gilt: b306 kleiner 10 %* b302 bzw. b304 .
  • Der (verjüngte) Gelenkabschnitt 306 erlaubt grundsätzlich ein Verkippen des zweiten Befestigungsabschnitts 304 bezüglich des ersten Befestigungsabschnitts 302 um zumindest eine Achse x. Die Achse x erstreckt sich senkrecht zu einer Längsachse 308 des Festkörpergelenkes 300 sowie senkrecht zu der Breitenrichtung b306 , in welcher der Gelenkabschnitt 306 die Verjüngung aufweist. Bei dem Verkippen wird der Gelenkabschnitt 306 verbogen. Aufgrund seines geringen Flächenträgheitsmoments ist dafür jedoch keine relevante Biegekraft erforderlich. Insbesondere ist die Biegekraft so klein, dass sie nicht geeignet ist, die von der Messtechnik 222 (siehe 2) im Inneren des Gehäuses 224 des Sensors 216 durchgeführte Messung (insbesondere Weglängenbestimmung) negativ zu beeinflussen.
  • Ist der Gelenkabschnitt 306 in Ausführungsformen rotationsymmetrisch verjüngt, so ergibt sich grundsätzlich eine weitere Achse y, welche sich senkrecht zur Achse x sowie senkrecht zur Längsrichtung 308 erstreckt und um welche der zweite Befestigungsabschnitt 304 ebenfalls bezüglich des ersten Befestigungsabschnitts 302 verkippen kann.
  • Der erste Befestigungsabschnitt 302 ist in einer Ausnehmung 310 am Boden 312 eines Topfes 314 befestigt, insbesondere eingeklebt (ein entsprechender Klebstoff ist in 4 nicht gezeigt). Der Topf 314 ist in den Sensorrahmen 206 eingeformt.
  • Das Festkörpergelenk 300 erstreckt sich von der Ausnehmung 310 durch das von dem Topf 314 umschlossene Volumen 316 hindurch hin zu dem Gehäuse 224 (siehe 2). An dem Gehäuse 224 ist der zweite Befestigungsabschnitt 304 befestigt, beispielsweise angeklebt oder angeschweißt. Zumindest der Gelenkabschnitt 306, gemäß den Ausführungsbeispielen aber auch Teile der Befestigungsabschnitte 302, 304 sind innerhalb des Volumens 316 angeordnet.
  • Das Volumen 316 ist in - bezogen auf die Längsrichtung 308 - radialer Richtung um das Festkörpergelenk 300 herum mit einem Klebstoff 318 ausgefüllt. Bei dem Klebstoff 318 handelt es sich beispielsweise um einen Zwei-Komponenten-Kleber, welcher ein Epoxidharz und einen Binder aufweist. Der Binder sorgt für die Vernetzung und damit Aushärtung des Epoxidharzes.
  • Der ausgehärtete Klebstoff 318 sperrt die grundsätzlich gegebene Verkippbarkeit der Befestigungsabschnitte 302, 304 zueinander um die Achsen x, y. Die Verbindung aus Sensorrahmen 206, Gehäuse 224 und Festkörpergelenk 300 ist damit steif. Je nach Ausführungsform kann vorgesehen sein, dass die zweiten Befestigungsabschnitte 304 an den in 2 gezeigten Verbindungsstellen 226 jeweils über weitere Gelenkabschnitte (diese sind nicht gezeigt, entsprechen jedoch den Gelenkabschnitten 306) an das Gehäuse 224 anschließen. Mittels der Anbindung des Gehäuses 224 über drei Befestigungsstellen 226 ist diese dann dennoch statisch bestimmt und steif.
  • Die erzielte Steifigkeit kann derart sein, dass bei einer Modellierung des Sensors 216 als Masse eines Einmassenschwinger und des Klebstoffs als Feder des Einmassenschwinger eine erste dynamische Eigenfrequenz größer 500 Hz, bevorzugt größer 800 Hz und weiter bevorzugt größer 1000 Hz beträgt. Die Eigenfrequenz bezieht sich hier insbesondere auf die Richtungen, in welchen das Festkörpergelenk 300 grundsätzlich eine Beweglichkeit bereitstellt, hier also in den Richtungen Rx (Rotation um die x-Achse) und gegebenenfalls Ry (Rotation um die y-Achse)
  • Der Klebstoff 318 kann eine Dämpfungscharakteristik aufweisen. Dadurch werden mechanische Anregungen von dem Sensorrahmen 206 nicht oder in nur gedämpfter Weise auf den Sensor 216 übertragen.
  • Anhand von 7 wird nachfolgend ein Verfahren gemäß einem Ausführungsbeispiel erläutert.
  • Im Rahmen der Montage einer Lithographieanlage 100A, 100B gemäß den 1A und 1B, insbesondere bei der Montage eines Projektionssystems 104 werden zunächst, wie in 2 gezeigt, der Tragrahmen 204 mit dem Spiegel 210 und sonstigen optischen Elementen sowie der Sensorrahmen 206 aufgebaut. In der Regel anschließend, obwohl dies auch in anderer Reihenfolge erfolgen kann, wird der Sensor 216 an dem Sensorrahmen 206 montiert.
  • Dazu wird in einem Schritt S1 (7) das Festkörpergelenk 300 - nachfolgend wird der einfacheren Erläuterung halber lediglich auf eine der Befestigungsstellen 226 Bezug genommen - an dem Sensorrahmen 206 (vorliegend auch als erste Komponente bezeichnet) und dem Sensor 216 (vorliegend auch als zweite Komponente bezeichnet) befestigt. Insbesondere wird der erste Befestigungsabschnitt 302 des Festkörpergelenks 300 in der Ausnehmung 310 befestigt. Weiter wird der zweite Befestigungsabschnitt 304 an dem Gehäuse 224 des Sensors 216 befestigt.
  • In einem Schritt S2 wird der Sensor 216 und damit auch dessen Gehäuse 224 bezüglich des Spiegels 210 ausgerichtet, d. h. justiert. Dies kann bevorzugt mit einer Positioniergenauigkeit von kleiner 30 µm bzw. kleiner 150 µrad erfolgen.
  • Zwecks Justierung kippt - gemäß diesem Ausführungsbeispiel - der zweite Befestigungsabschnitt (304) um zumindest eine der Achsen x, y, gegebenenfalls um beide Achsen. Im Zusammenspiel mit den anderen beiden Befestigungsstellen 226 kann je nach Ausgestaltung der Anbindung der zweiten Befestigungsabschnitte 304 an dem Gehäuse 224, beispielsweise mit zusätzlichen Gelenkabschnitten (wie bereits vorstehend erläutert), eine Justierung des Sensors 216 in bis zu sechs Freiheitsgraden erreicht werden. Das oder - bei mehreren Befestigungsstellen 226 - die Festkörpergelenke 300 wirken dabei als verformbare Verbindung zwischen dem Sensor 216 und dem Sensorrahmen 206.
  • In einem Schritt S3 wird der Spiegel 210 bzw. dessen optisch wirksame Fläche 220 mit einer vordefinierten Referenzstrahlung, siehe etwa die Lichtstrahlen L1 , L2 aus 2, beaufschlagt. Diese wird von dem Sensor 216 in für den Fachmann bekannter Weise vermessen. In Abhängigkeit von dem Messergebnis wird der Sensor 216 erneut justiert. Diese Schritte können so lange wiederholt werden, bis der Sensor 216 die gewünschte Position in bis zu sechs Freiheitsgraden aufweist. Bevorzugt folgt erst dann Schritt S4.
  • Im Schritt S4 wird die zuvor verformbare Verbindung (Festkörpergelenk 300 bzw. Gelenkabschnitt 306) versteift. Dies erfolgt gemäß den Ausführungsbeispielen durch Überbrücken des Festkörpergelenks 300 bzw. des Gelenkabschnitts 306. Dazu wird im ausgerichteten bzw. justierten Zustand das zunächst freie, d.h. ungefüllte Volumen 316 mit dem Klebstoff 318 vergossen, bevor dieser seine Topfzeit erreicht. Sobald der Klebstoff 318 ausgehärtet ist, stellt dieser einen Kraftleitungspfad 320 (siehe 4) bereit, welcher mechanisch parallel zu der grundsätzlichen Beweglichkeit des Festkörpergelenks 300 in der Richtung Rx geschaltet ist und diese damit sperrt. Anders gesagt sind dann der erste und zweite Befestigungsabschnitt 302, 304 miteinander stoffschlüssig mittels des Klebstoffs 318 verbunden. Entsprechend ist sodann der Sensor 316 fix bezüglich des Sensorrahmens 306 gehalten sowie bezüglich des Spiegels 210 ausgerichtet.
  • In einer alternativen Ausführungsform könnte der Klebstoff 318 auch bereits vor dem Schritt S2 in den Topf 314 eingebracht werden. Die Justierung gemäß dem Schritt S3 findet dann unter gleichzeitiger Verformung des noch flüssigen Klebstoffs 318 statt. Diese Justierung ist vor Ende der Topfzeit des Klebstoff 318 vorzunehmen.
  • Anhand von 5 wird ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Festkörpergelenks 300 erläutert. Bei diesem ist an dem ersten Befestigungsabschnitt 302 ein sich in Richtung des ersten Befestigungsabschnitt 304 erstreckender erster Arm 500 angeformt, welcher einen Spalt 502 mit dem zweiten Befestigungsabschnitt 304 bildet. Genauer ist der Spalt 502 zwischen einer Längsseite 504 und eine Stirnseite 506 des ersten Arms 500 (freies Ende des Arms 500) definiert. Die Längsseite 504 und die Stirnseite 506 weisen jeweils in Richtung der y-Achse. Eine Spaltbreite ist mit b502 in 5 bezeichnet und erstreckt sich ebenfalls entlang der y-Achse. Ferner kann ein zweiter Arm 500' vorgesehen sein, welcher sich ebenfalls von dem ersten Befestigungsabschnitt 302 hin zu dem zweiten Befestigungsabschnitt 304 erstreckt und mit diesem einen Spalt 502' bildet. Genauer ist der Spalt 502' zwischen einer Längsseite 504' gegenüberliegend der Längsseite 504 und einer Stirnseite 506' des zweiten Arms 500' (freies Ende des Arms 500') definiert. Die Längsseite 504' und die Stirnseite 506' weisen ebenfalls jeweils in Richtung der y-Achse. Eine entsprechende Spaltbreite ist mit b502' bezeichnet.
  • Damit ergibt sich, dass der zweite Befestigungsabschnitt 304 in Richtung der y-Achse zwischen den Stirnseiten 506, 506' angeordnet und von diesen jeweils mittels eines Spalts 502, 502' beanstandet ist. Entsprechend lässt diese Anordnung in dem Schritt S2 (siehe 7) ein Verkippen des zweiten Befestigungsabschnitt 304 um die x-Achse (senkrecht zur y-Achse sowie zur Längsachse 308) zu, also in Richtung Rx . Das Verkippen führt zu einem Verbiegen des Gelenkabschnitts 306, wie bereits im Zusammenhang mit 4 erläutert.
  • In dem Schritt S4 werden die Spalte 502, 502' mit Klebstoff 318 aufgefüllt. Nach Aushärtung des Klebstoffs 318 ist der zweite Befestigungsabschnitt 304 rotationssteif in der Richtung Rx (Rotation um die x-Achse) fixiert.
  • Die Arme 500, 500' sowie der Gelenkabschnitt 306 lassen sich beispielsweise in einem dem Schritt S1 vorausgehenden, nicht dargestellten Schritt herstellen, indem in ein Plattenmaterial Löcher 508, 508' zu unterschiedlichen Seiten der Längsachse 308 geschnitten werden. Die Spalte 502, 502' werden beispielsweise ebenfalls geschnitten und verbinden die Löcher 508, 508' in einer von der y-Achse und der Längsachse 308 aufgespannten Ebene mit der Umgebung.
  • Das Festkörpergelenk 300, insbesondere die Löcher 508, 508' sowie die Spalte 502, 502' gemäß 5, kann insbesondere durch Drahterodieren oder durch Laserschneiden hergestellt werden.
  • Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 6, welches sich an das gemäß 4 anlehnt, wird in dem Schritt S4 (siehe 7) der Topf 314 bzw. das von diesem umschlossene Volumen 316 nicht mit dem Klebstoff 318 ausgefüllt, sondern bleibt frei (von Klebstoff). Die Versteifung des Festkörpergelenks 300 bzw. dessen Überbrückung erfolgt vielmehr dadurch, dass an dem zweiten Befestigungsabschnitt 304 ein Halteelement 600 angebracht ist, welches wiederum an dem Sensorrahmen 206 befestigt ist.
  • Im Detail kann vorgesehen sein, dass das Halteelement 600 (das insbesondere aus Metall gefertigt ist) eine Scheibe 602 und einen daran angeformten Kragen 604 aufweist. Der Kragen 604 kann beispielsweise mit dem zweiten Befestigungsabschnitt 304 verklebt sein. Dies kann bereits in einem dem Schritt S1 vorgelagerten Schritt (nicht dargestellt) oder auch später erfolgen.
  • In dem Schritt S2 kann der zweite Befestigungsabschnitt 304 ohne weiteres in der Richtung Rx relativ zu dem ersten Befestigungsabschnitt 302 verschoben werden. Hierbei bewegt sich die Scheibe 602 - aufgrund der in der Regel nur geringen Justierungswinkel - im Wesentlichen parallel zur Oberseite 610 des Sensorrahmen 206.
  • Gemäß dem Ausführungsbeispiel wird die Scheibe 602 in dem Schritt S4 mittels Laserschweißens - angedeutet durch einen Laser 606 in 6 - an dem Sensorrahmen 206 angeschweißt. Entsprechende Schweißpunkte sind mit 608 bezeichnet und bilden eine stoffschlüssige Verbindung zwischen dem Halteelement 600 und dem Sensorrahmen 206. Auch diese stoffschlüssige Verbindung überbrückt das Festkörpergelenk 300 bzw. dessen Gelenkabschnitt 306. Das Schweißen kann auch mit Zusatzwerkstoff erfolgen. Alternativ zu dem Schweißen könnte auch eine Lötverfahren Anwendung finden.
  • Bei dem Ausführungsbeispiel nach 6 wird das Halteelement 600 mit dem Sensorrahmen 206 verbunden. In einer anderen (ggf. alternativen) Ausführungsform könnte das Halteelement 600 an dem ersten Befestigungsabschnitt 302 befestigt sein und diesen mit dem Gehäuse 224 des Sensors 216 fest verbinden.
  • Gemäß einer weiteren Variante könnte zusätzlich der Topf 314 mit Klebstoff 318 in dem Schritt S4 befüllt werden - analog dem Ausführungsbeispiel gemäß 4. Dadurch lässt sich eine noch steifere Verbindung schaffen.
  • Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar.
  • Bezugszeichenliste
  • 100A
    EUV-Lithographieanlage
    100B
    DUV-Lithographieanlage
    102
    Strahlformungs- und Beleuchtungssystem
    104
    Projektionssystem
    106A
    EUV-Lichtquelle
    106B
    DUV-Lichtquelle
    108A
    EUV-Strahlung
    108B
    DUV-Strahlung
    110
    Spiegel
    112
    Spiegel
    114
    Spiegel
    116
    Spiegel
    118
    Spiegel
    120
    Photomaske
    122
    Spiegel
    124
    Wafer
    126
    optische Achse
    128
    Linse
    130
    Spiegel
    132
    Medium
    200
    optisches System
    202
    Basis
    204
    Tragrahmen
    206
    Sensorrahmen
    208
    Feder
    210
    Spiegel
    212
    Aktuator
    214
    Pin
    216
    Sensor
    218
    Lichtquelle
    220
    optisch wirksame Fläche
    222
    Messtechnik
    224
    Gehäuse
    226
    Befestigungsstelle
    300
    Festkörpergelenk
    302
    erster Befestigungsabschnitt
    304
    zweite Befestigungsabschnitt
    306
    Gelenkabschnitt
    308
    Längsachse
    310
    Ausnehmung
    312
    Boden
    314
    Topf
    316
    Volumen
    318
    Klebstoff
    320
    Kraftleitungspfad
    500
    Arm
    502
    Spalt
    502'
    Spalt
    504
    Längsseite
    504'
    Längsseite
    506
    Stirnseite
    506'
    Stirnseite
    508
    Loch
    508'
    Loch
    600
    Halteelement
    602
    Scheibe
    604
    Kragen
    606
    Laser
    608
    Schweißpunkt
    610
    Oberfläche
    b302
    Breite
    b304
    Breite
    b306
    Breite
    b502
    Spaltbreite
    b502'
    Spaltbreite
    L1
    Lichtstrahl
    L2
    Lichtstrahl
    M1
    Spiegel
    M2
    Spiegel
    M3
    Spiegel
    M4
    Spiegel
    M5
    Spiegel
    M6
    Spiegel
    Rx
    Richtung
    Ry
    Richtung
    x
    Richtung
    y
    Richtung

Claims (15)

  1. Verfahren zum Herstellen eines optischen Systems (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), wobei das optische System (200) eine erste und eine zweite Komponente (206, 216) aufweist, mit den Schritten: a) Bereitstellen (S1) einer verformbaren Verbindung (300, 306) zwischen der ersten und zweiten Komponente (206, 216), b) Justieren (S2) der ersten und zweiten Komponente (206, 216) zueinander unter Verformung der verformbaren Verbindung (300, 306), und c) Versteifen (S4) der verformbaren Verbindung (300, 306).
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die verformbare Verbindung (300, 306) als Gelenk ausgebildet ist und das Gelenk in Schritt c) überbrückt wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 2, wobei das Gelenk (300, 306) mithilfe einer stoffschlüssigen Verbindung (318, 608) überbrückt wird.
  4. Verfahren nach Anspruch 3, wobei die stoffschlüssige Verbindung Klebstoff (318) aufweist.
  5. Verfahren nach Anspruch 4, wobei der Klebstoff (318) vor oder nach Schritt b) appliziert wird.
  6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, wobei das Gelenk (300, 306) zumindest teilweise in einem Topf (314) angeordnet wird, welcher mit dem Klebstoff (318) vergossen wird.
  7. Verfahren nach Anspruch 3, wobei die stoffschlüssige Verbindung Metall (608) aufweist.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, wobei die stoffschlüssige Verbindung (608) durch Schweißen oder Löten hergestellt wird.
  9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei das Gelenk (300) einen ersten und zweiten Befestigungsabschnitt (302, 304) und einen diese verbindenden Gelenkabschnitt (306) aufweist, wobei in Schritt a) der erste Befestigungsabschnitt (302) an der ersten Komponente (206) und/oder der zweite Befestigungsabschnitt (304) an der zweiten Komponente (216) befestigt wird, wobei in Schritt c) der erste und zweite Befestigungsabschnitt (302, 304) relativ zueinander fixiert werden.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, wobei an dem ersten Befestigungsabschnitt (302) ein Halteelement (600) befestigt wird, welches in Schritt b) gegenüber der zweiten Komponente (216) verschoben wird, wobei anschließend das Halteelement (600) mit der zweiten Komponente (216) mithilfe der stoffschlüssigen Verbindung (318, 608) verbunden wird, und/oder wobei an dem zweiten Befestigungsabschnitt (304) ein Halteelement (600) befestigt wird, welches in Schritt b) gegenüber der ersten Komponente (206) verschoben wird, wobei anschließend das Halteelement (600) mit der ersten Komponente (206) mithilfe der stoffschlüssigen Verbindung (318, 608) verbunden wird.
  11. Verfahren nach Anspruch 9, wobei einer von dem ersten und zweiten Befestigungsabschnitt (302, 304) in Richtung des jeweils anderen Befestigungsabschnitts (302, 304) unter Ausbildung eines Spalts (502, 502') zwischen dem ersten und zweiten Befestigungsabschnitt (302, 304) reicht, wobei der erste und zweite Befestigungsabschnitt (302, 304) über den Spalt (502, 502') hinweg mithilfe der stoffschlüssigen Verbindung (318, 608) verbunden sind.
  12. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 11, wobei das Gelenk (300, 306) ein Festkörpergelenk ist.
  13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, wobei der Schritt b) ein Justieren der ersten und zweiten Komponente (206, 216) zueinander in bis zu sechs Freiheitsgraden aufweist.
  14. Optisches System (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend: eine erste Komponente (206), eine zweite Komponente (216), ein Gelenk (300, 306), welches die erste und zweite Komponente (206, 216) miteinander verbindet, und eine stoffschlüssige Verbindung (318, 608), welche das Gelenk (300, 306) überbrückt.
  15. Lithographieanlage (100A, 100B) aufweisend ein optisches System (200) nach Anspruch 14.
DE102019203600.7A 2019-03-18 2019-03-18 Verfahren, optisches System und Lithographieanlage Active DE102019203600B4 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102019203600.7A DE102019203600B4 (de) 2019-03-18 2019-03-18 Verfahren, optisches System und Lithographieanlage

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102019203600.7A DE102019203600B4 (de) 2019-03-18 2019-03-18 Verfahren, optisches System und Lithographieanlage

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102019203600A1 DE102019203600A1 (de) 2020-04-02
DE102019203600B4 true DE102019203600B4 (de) 2020-06-25

Family

ID=69781681

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102019203600.7A Active DE102019203600B4 (de) 2019-03-18 2019-03-18 Verfahren, optisches System und Lithographieanlage

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102019203600B4 (de)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060007981A1 (en) 2002-10-28 2006-01-12 Clary Thomas R High precision optical imaging systems and related systems

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060007981A1 (en) 2002-10-28 2006-01-12 Clary Thomas R High precision optical imaging systems and related systems

Also Published As

Publication number Publication date
DE102019203600A1 (de) 2020-04-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1456891B1 (de) Abbildungseinrichtung in einer projektionsbelichtungsanlage
DE60033773T2 (de) Lithographischer Apparat mit einem ausbalancierten Positionierungssystem
DE60036844T2 (de) Lithographischer Apparat mit einer Maskenklemmvorrichtung
DE4133037A1 (de) Belichtungsvorrichtung
DE102016212853B3 (de) Verfahren zum Justieren einer optischen Einrichtung
WO2016203020A1 (de) Optisches system
DE102009054888A1 (de) Optisches Element mit einer Mehrzahl von refletiven Facettenelementen
DE102020211696A1 (de) Messanordnung zur Ermittlung der Position und/oder der Orientierung eines optischen Elements sowie Projektionsbelichtungsanlage
DE102015209173B4 (de) Verfahren zum herstellen eines objektivs für eine lithographieanlage
DE102018220565A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem semiaktiven Abstandshalter und Verfahren zur Verwendung des semiaktiven Abstandshalters
DE102019203600B4 (de) Verfahren, optisches System und Lithographieanlage
EP4070161A1 (de) Verfahren zur montage eines optischen systems
DE102020211700A1 (de) Messverfahren und Messanordnung zur Ermittlung der Position und/oder Orientierung eines optischen Elements, sowie Projektionsbelichtungsanlage
DE102006021334B3 (de) Polarisationsbeeinflussendes optisches Element sowie Verfahren zu dessen Herstellung sowie optisches System und mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit einem solchen Element
DE102017219754A1 (de) Optisches System und Lithographieanlage
AT413305B (de) Verfahren und vorrichtung zum ausrichten eines justier-mikroskops mittels verspiegelter justiermaske
DE102017200793A1 (de) Spiegelsystem und Projektionsbelichtungsanlage
DE102019209610A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen einer Klebeverbindung zwischen einer ersten Komponente und einer zweiten Komponente
DE102022209902A1 (de) Bipod, optisches system und projektionsbelichtungsanlage
WO2022058106A1 (de) Optisches system und lithographieanlage
DE102021201026A1 (de) Verfahren zum tauschen eines ersten optikmoduls gegen ein zweites optikmodul bei einer lithographieanlage
WO2018046350A1 (de) Optisches system, insbesondere lithographieanlage, sowie verfahren
DE102016219332A1 (de) Blendenanordnung, lithographieanlage und verfahren
DE102018218110A1 (de) Abstandshalter, optisches system und lithographieanlage
DE102017206039A1 (de) Spiegel, lithographieanlage und verfahren zum herstellen einer lithographieanlage

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R230 Request for early publication
R020 Patent grant now final