DE102012204425A1

DE102012204425A1 - Sputterverfahren und Sputtervorrichtung

Info

Publication number: DE102012204425A1
Application number: DE201210204425
Authority: DE
Inventors: Jan Leupold; Hans-Jürgen Heinrich
Original assignee: Von Ardenne Anlagentechnik GmbH
Current assignee: Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Priority date: 2012-03-20
Filing date: 2012-03-20
Publication date: 2013-09-26

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Sputterverfahren, bei dem Beschichtungsmaterial (12) von einer Außenfläche eines Rohrtargets (1) durch Ionenbeschuss abgestäubt wird, wobei im Innern des Rohrtargets (1) eine Magnetanordnung (4) bereitgestellt wird und eine Relativbewegung zwischen Rohrtarget (1) und Magnetanordnung (4) erzeugt wird, und wobei ein Kühlmittel in einer ersten Fließrichtung (5) durch eine im Innern des Rohrtargets (1) angeordnete Kühlmittelleitung (2) und in einer der ersten Fließrichtung (5) entgegengesetzten zweiten Fließrichtung (6) durch den Raum zwischen der Kühlmittelleitung (2) und dem Rohrtarget (1) geleitet wird, wobei an mindestens einer Stelle der Kühlmittelleitung (2) ein Teilstrom des Kühlmittels durch eine Wandöffnung (23) der Kühlmittelleitung (2) in den Raum zwischen der Kühlmittelleitung (2) und dem Rohrtarget (1) geleitet wird, wobei dem Teilstrom beim Durchtreten der Wandöffnung (23) eine Auslassrichtung aufgeprägt wird, die bezogen auf die Kühlmittelleitung (2) eine tangentiale Komponente aufweist, sowie eine Sputtervorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.

Description

Die Erfindung betrifft ein Sputterverfahren und eine Sputtervorrichtung.
Konkret bezweckt die Erfindung eine verbesserte Kühlung eines längserstreckten Magnetrons, wobei das Magnetron ein Target eines zu zerstäubenden Materials, ein Magnetsystem, mittels dem ein das Target durchdringendes Magnetfeld erzeugt wird, und ein Kühlsystem mit einer von einem Kühlmittel in Längserstreckung durchflossenen Kühlmittelleitung und eine die Kühlmittelleitung speisende Zuleitung umfasst.
An Rohrmagnetrons werden Trägerrohre als tragende Elemente für zylinderförmige Targets verwendet. Das Trägerrohr ist einseitig oder beidseitig gelagert. Bei beidseitiger Lagerung wird den Halteeinrichtungen der Lagerung zudem die Aufgabe zuteil, das Trägerrohr durch einen Antrieb zu drehen und Kühlmittel einzuleiten und abzuleiten, welches an der Innenseite des Trägerrohres entlang fließt.
Bei einseitiger Lagerung müssen sowohl die Drehbewegung als auch der Kühlmittelvorlauf und Kühlmittelrücklauf von der Lagerseite realisiert werden. Die beim Sputterprozess entstehende Wärme muss abgeführt werden.
Bekannterweise wird das Kühlmittel bei solchen Kühlmittelkreisläufen mittels eines Lanzenrohres bis an die gegenüberliegende Stirnseite des Trägerrohres geleitet. Von da an fließt das Kühlmittel an der Innenwand des Trägerrohres zurück.
Mit der WO 2009/138348 A1 wurde die Realisierung eines Kühlsystems in einem Rohrmagnetron beschrieben. Dieses Rohrmagnetron weist ein Trägerrohr auf, auf dessen Außenseite das Targetmaterial angeordnet ist. Die Innenseite steht mit einem Kühlmittel, wofür vorzugweise Wasser eingesetzt wird, in Verbindung. Das Kühlmittel wird über eine Kühlmittelzufuhrleitung, die im Inneren eines Füllkörpers, der auch das Magnetsystem trägt und dementsprechend als Magnetträger bezeichnet wird, in Längserstreckung des Rohrmagnetrons von einem ersten Ende des Magnetrons zum auf der anderen Seite liegenden zweiten Ende zugeführt. Dort strömt das Kühlmittel aus. Es wird dann über einen Ringspalt zum ersten Ende zurückgeführt, wo es wieder von einem Kühlmittelauslass aufgenommen wird. Der Ringspalt ist als Hohlraum zwischen dem Magnetträger und der Innenseite des Trägerrohres ausgeführt, so dass das Kühlmittel die Wärme, die in dem Target entsteht und über das Trägerrohr geleitet wird, von der Innenseite des Trägerrohres direkt aufnimmt.
Das rückströmende Kühlmittel nimmt die vom Sputterprozess stammende Wärme des Targets auf und transportiert diese ab, um für das Targetmaterial ein unschädliches Temperaturniveau zu halten.
Je nach Strömungsgeschwindigkeit, Strömungsvolumen und Oberflächenqualität der Innenseite des Trägerrohres ist der Wärmeaustausch gegeben.
Die sich ergebende Temperaturdifferenz zwischen Kühlmitteleinlass und Kühlmittelauslass ergibt ein Temperaturgefälle, welches sich auf die Homogenität des Sputterprozesses auswirken kann.
Einen großen Einfluss auf den Wärmeaustausch hat das Fließverhalten des Kühlmittels an der Wärmeübergabefläche an der Innenseite des Trägerrohrs. Im laminaren Strömungsbereich vermischt sich das wandnahe langsame Kühlmittel recht wenig mit der schnell strömenden Kernströmung. Der Wärmetransport in die Kernströmung erfolgt hauptsächlich durch Wärmeleitung und freie Konvektion.
Einem gleichmäßigen laminaren Strömen, wie es – bedingt durch einen großen Ringspalt – begünstigt wird, wird bekannterweise mit Erhöhung des Kühlmitteldurchflusses begegnet.
Die DE 11 2006 003 022 B4 versucht, sich dieses Problems anzunehmen. Hier wird ein Rohrmagnetron offenbart, das mit einem Lanzenrohr versehen ist, in dessen Innerem die Zuführung des Kühlmittels in die Kühlmittelleitung erfolgt. Die Kühlmittelleitung wird vollumfänglich durch den Spalt zwischen dem Lanzenrohr und dem Target gebildet und nimmt somit ein großes Volumen ein, in dem sich zwangsläufig eine laminare Strömung mit den genannten Nachteilen einstellt. Dem soll dadurch begegnet werden, dass in diesem Spalt eine Art Spirale angeordnet ist, durch die das Kühlmittel nur einen Drall erhält, aber dennoch laminar fließt, ohne eine ausreichende Homogenisierung zu erzielen.
In der deutschen Patentanmeldung 10 2010 040 759 ist eine Lösung beschrieben, bei der mittels Füllkörper der Kühlmittelraum innerhalb des Trägerrohrs verringert wird, damit die Strömungsgeschwindigkeit des Kühlmittels erhöht und weniger Kühlmittel ungenutzt aufgenommen wird.
In DE 10 2011 075 543 soll die laminare Strömung des Kühlmittels durch Strukturierungen an der Innenwand des Trägerrohres oder des Magnetträgers aufgebrochen werden, um turbulente Strömung zu erreichen. Die grundlegende Lösung zur Homogenisierung des Kühlmittelstromes wird dadurch erreicht, dass die Kühlmittelführung die Zuleitung von einem Kühlmitteleinlass an einem ersten Ende des Magnetron mit einer vorgesehenen Strömungsrichtung zu dem zweiten Ende des Magnetron und eine Rückleitung von dem zweiten Ende zu einem Kühlmittelauslass am ersten Ende umfasst. Dabei sind Zuleitung und Rückleitung mit einer umlenkenden Verbindung am zweiten Ende verbunden. Das Kühlmittel strömt zwischen Zuleitung und Rückleitung im Gegenstromprinzip und Zuleitung und Rückleitung sind wärmeleitend miteinander verbunden.
Aus WO 2009/138348 A1 ist die Abgabe von Kühlmittel aus dem Magnetträger durch Bohrungen in den Raum zwischen Magnetträger und Targetrohr, d.h. in radialer Richtung, bekannt, um die Reibung zwischen Magnetsystem und Targetrohr zu vermindern.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, eine Kühlmittelführung zu schaffen, die die Innentemperatur des Targets über die Länge des Trägerrohrs homogenisiert und den Kühlmittelbedarf reduziert, bzw. die Kühlleistung bei gleichem Volumenstrom erhöht. Hierzu ist der Umstand zu beachten, dass es durch Erhöhung der Strömungsgeschwindigkeit zur Vermischung des wandnahen Kühlmittels mit der Kernströmung kommt und damit zu einem besseren Wärmeabtransport.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 4 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind in den abhängigen Ansprüchen beschrieben.
Vorgeschlagen wird zunächst ein Sputterverfahren, bei dem Beschichtungsmaterial von einer Außenfläche eines Rohrtargets durch Ionenbeschuss abgestäubt wird, wobei im Innern des Rohrtargets eine Magnetanordnung bereitgestellt wird und eine Relativbewegung zwischen Rohrtarget und Magnetanordnung erzeugt wird, und wobei ein Kühlmittel in einer ersten Fließrichtung durch eine im Innern des Rohrtargets angeordnete Kühlmittelleitung und in einer der ersten Fließrichtung entgegengesetzten zweiten Fließrichtung durch den Raum zwischen der Kühlmittelleitung und dem Rohrtarget geleitet wird, wobei an mindestens einer Stelle der Kühlmittelleitung ein Teilstrom des Kühlmittels durch eine Wandöffnung der Kühlmittelleitung in den Raum zwischen der Kühlmittelleitung und dem Rohrtarget geleitet wird, dadurch gekennzeichnet, dass dem Teilstrom beim Durchtreten der Wandöffnung eine Auslassrichtung aufgeprägt wird, die bezogen auf die Kühlmittelleitung eine tangentiale Komponente aufweist.
Wenn das Kühlmittel vollständig tangential ausgelassen wird, weist die Auslassrichtung demnach außer der tangentialen Komponente keine weitere Komponente auf, d.h. das Kühlmittel tritt tangential in der Querschnittsebene der Kühlmittelleitung aus. Die Auslassrichtung kann jedoch neben der tangentialen Komponente auch noch eine axiale Komponente oder/und eine radiale Komponente aufweisen, ohne vom Erfindungsgedanken abzuweichen.
In einer ersten Ausgestaltung des Verfahrens wird daher dem Teilstrom beim Durchtreten der Wandöffnung eine Auslassrichtung aufgeprägt, die zusätzlich eine Komponente der zweiten Fließrichtung aufweist. Dadurch wird die Strömung des Kühlmittels in der axialen Richtung der Kühlmittelleitung und des Trägerrohrs begünstigt.
Weiter kann verfahrensseitig vorgesehen sein, dass zwei oder mehr Teilströme so durch je eine Wandöffnung geleitet werden, dass im Raum zwischen der Kühlmittelleitung und dem Rohrtarget eine spiralförmige Strömung des Kühlmittels um die Kühlmittelleitung herum und in der zweiten Fließrichtung bewirkt wird. Es versteht sich, dass die Strömungsgeschwindigkeit im Raum zwischen der Kühlmittelleitung und dem Rohrtarget auf diese Weise einfach erhöht werden kann, so dass die abgeführte Wärmemenge ebenfalls zunimmt.
Außerdem wird zur Lösung der Aufgabe eine Sputtervorrichtung vorgeschlagen, die ein rohrförmiges Target, dessen Außenfläche durch Beschichtungsmaterial gebildet ist, eine im Innern des Rohrtargets angeordnete Kühlmittelleitung und eine im Innern des Rohrtargets angeordnete Magnetanordnung umfasst, wobei das Rohrtarget und die Magnetanordnung relativ zueinander beweglich sind, und wobei die Kühlmittelleitung mindestens eine Wandöffnung zum Durchtritt eines Teilstroms des Kühlmittels aus der Kühlmittelleitung in den Raum zwischen der Kühlmittelleitung und dem Rohrtarget aufweist, wobei weiterhin an oder in der Wandöffnung ein Strömungsleitelement angeordnet ist, das dem Teilstrom beim Durchtreten der Wandöffnung eine Auslassrichtung aufprägt, die bezogen auf die Kühlmittelleitung eine tangentiale Komponente aufweist.
In einer weiteren Ausgestaltung ist vorgesehen, dass die Auslassrichtung eine Komponente der zweiten Fließrichtung aufweist.
Gemäß einer Weiterbildung kann vorgesehen sein, dass in der Kühlmittelleitung zwei oder mehr Wandöffnungen zum Durchtritt je eines Teilstroms des Kühlmittels angeordnet sind.
Um das Einströmen von Kühlmittel in das Strömungsleitelement zu erleichtern und zu befördern kann weiter vorgesehen sein, dass das Strömungsleitelement innerhalb der Kühlmittelleitung eine der ersten Fließrichtung zugewandte Öffnung aufweist.
Um das Ausströmen von Kühlmittel aus dem Strömungsleitelement zu erleichtern und zu befördern kann weiter vorgesehen sein, dass die Wandöffnung an der Außenseite der Kühlmittelleitung in einer Vertiefung angeordnet ist.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels und zughöriger Zeichnungen näher erläutert. Dabei zeigt die einzige
1 ein Rohrtarget mit Magnetanordnung und Kühlmittelleitung.
Das dargestellte Rohrtarget 1 kann in einem sogenannten drehbaren Magnetron verwendet werden, bei dem das Rohrtarget 1 in an sich bekannter Weise mit einem seiner beiden Enden an einem hier nicht dargestellten Endblock drehbar gelagert ist. Der Endblock dient der Einleitung eines Drehmoments in das Rohrtarget 1 sowie der Versorgung des Rohrtargets mit Energie und Kühlmittel.
Das Rohrtarget 1 ist in 1A im Längsschnitt dargestellt. In dieser Darstellung wäre der Endblock links vom Rohrtarget 1 und der darin angeordneten Kühlmittelleitung 2, die gleichzeitig als Halterung für die Magnetanordnung 4 dient, angeordnet. Zur besseren Übersichtlichkeit ist das Rohrtarget 1, das ein Trägerrohr 11 mit an der Außenseite angeordnetem Beschichtungsmaterial 12 aufweist, nur teilweise dargestellt. Es versteht sich, dass das Rohrtarget 1 sich in Wirklichkeit über die gesamte Länge der Kühlmittelleitung 2 und der Magnetanordnung 4 erstreckt.
Das Rohrtarget 1 ist in dem Endblock des drehbaren Magnetrons drehbar und antreibbar gelagert und die Kühlmittelleitung 2 mit der Magnetanordnung 4 ist im Endblock fest, d.h. nicht drehbar gelagert. Dadurch entsteht im Betrieb des Magnetrons eine Relativbewegung zwischen Rohrtarget 1 und Magnetanordnung 4. Am rechten Ende des Rohrtargets 1, d.h. an dem nicht in einem Endblock gelagerten Ende, ist das Trägerrohr 11 des Rohrtargets 1 durch eine Stirnwand 13 verschlossen. In dieser Stirnwand 13 ist ein Lager 14 angeordnet, worin ein Lagerzapfen 22 der im Innern des Trägerrohrs 11 angeordneten Kühlmittelleitung 2 relativ zum Rohrtarget 1 verdrehbar gelagert ist, um einerseits das Rohrtarget 1 und die Kühlmittelleitung 2 mit der Magnetanordnung 4 konzentrisch zueinander zu halten und andererseits gleichzeitig die nötige Relativbewegung zwischen Rohrtarget 1 und Kühlmittelleitung 2 zu ermöglichen.
Die hier gezeigte Variante eines drehbaren Magnetrons ist demnach eine sogenannte Cantilever-Anordnung mit nur einem Endblock, bei dem das entgegengesetzte Ende des Rohrtargets 1 freitragend ist. Es versteht sich jedoch, dass die nachfolgend mit Bezug auf die Gestaltung der Strömungsführung des Kühlmittels beschriebenen Merkmale in gleicher Weise auf an sich ebenfalls bekannte Varianten anwendbar ist, bei denen das Rohrtarget 1 mit jedem seiner Enden in einem Endblock drehbar gelagert ist.
1B zeigt einen Querschnitt durch die Anordnung aus Rohrtarget 1, Kühlmittelleitung 2 und Magnetanordnung 4. Die Magnetanordnung 4 ist bei der gewählten Darstellung an der Unterseite der Kühlmittelleitung 2 angeordnet. Das von der Magnetanordnung 4 erzeugte Magnetfeld durchdringt daher die Unterseite des Rohrtargets 1, d.h. des Trägerrohrs 11 und des Beschichtungsmaterials 12, so dass in diesem Bereich der Außenfläche des Rohrtargets 1 Plasma konzentriert wird und durch Ionenbeschuss Beschichtungsmaterial 12 abgestäubt wird. Durch die Drehung des Rohrtargets 1 während des Betriebs des Magnetrons wird das Beschichtungsmaterial 12 gleichmäßig über den gesamten Umfang abgetragen.
Aus 1A und 1B ist ersichtlich, dass an der Kühlmittelleitung 2 zwei Arten von Strömungsleitelementen 3 angeordnet sind, um die Strömung des Kühlmittels erfindungsgemäß zu beeinflussen:
Am freien Ende der Kühlmittelleitung 2 ist diese durch eine Stirnwand 21 verschlossen. Außerdem sind kurz vor diesem Ende der Kühlmittelleitung 2 mehrere über den Umfang verteilte erste Strömungsleitelemente 3 in Form von Düsen so angeordnet, dass sie das Kühlmittel nach dem Durchströmen der Kühlmittelleitung 2 durch Wandöffnungen 23 der Kühlmittelleitung 2 in den Raum zwischen der Kühlmittelleitung 2 und dem Rohrtarget 1 leiten.
Diese ersten Strömungsleitelemente 3 sind im Ausführungsbeispiel in Form gebogener Röhrchen ausgeführt, deren offene Enden 31 im Innern der Kühlmittelleitung 2 der im Vorlauf ankommenden Strömung (erste Fließrichtung 5) zugewandt sind und deren offene Enden 32 außerhalb der Kühlmittelleitung 2 in Vertiefungen 24 der Kühlmittelleitung 2 münden. Das am freien Ende der Kühlmittelleitung 2 aus der ersten Fließrichtung 5 (in 1A von links nach rechts) ankommende Kühlmittel wird dadurch in mehreren Teilströmen durch die Wandöffnungen 24 der Kühlmittelleitung 2 geleitet. Das bereits ausgeströmte Kühlmittel wird anschließend durch nachströmendes Kühlmittel verdrängt, so dass das Kühlmittel im Raum zwischen der Kühlmittelleitung 2 und dem Rohrtarget 1 in der zweiten Fließrichtung 6 (in 1A von rechts nach links) abströmen muss.
Über die gesamte Kühlmittelleitung 2 verteilt sind außerdem mehrere über den Umfang verteilte zweite Strömungsleitelemente 3 in Form von Düsen so angeordnet, dass sie Teilströme des Kühlmittels bereits während des Durchströmens der Kühlmittelleitung 2 durch Wandöffnungen 23 der Kühlmittelleitung 2 in den Raum zwischen der Kühlmittelleitung 2 und dem Rohrtarget 1 leiten. Dies wird insbesondere aus der perspektivischen Darstellung der 1C sowie der daraus entnommenen, vergrößerten Detaildarstellung 1D ersichtlich.
Diese zweiten Strömungsleitelemente 3 sind im Ausführungsbeispiel ebenfalls in Form gebogener Röhrchen ausgeführt, deren offene Enden 31 im Innern der Kühlmittelleitung 2 der ankommenden Strömung 5 zugewandt sind und deren offene Enden 32 außerhalb der Kühlmittelleitung 2 in Vertiefungen 24 der Kühlmittelleitung 2 münden. Dabei wird dem jeweiligen Teilstrom des Kühlmittels beim Durchtreten der Wandöffnung 23 eine Auslassrichtung aufgeprägt wird, die bezogen auf die Kühlmittelleitung 2 eine tangentiale Komponente aufweist.
Da vom freien zweiten Ende der Kühlmittelleitung 2 her, wie oben beschrieben, das dort austretende Kühlmittel im Raum zwischen der Kühlmittelleitung 2 und dem Rohrtarget 1 in der zweiten Fließrichtung 6 und damit auch an den Auslassöffnungen 32 der zweiten Strömungselemente 3 vorbeiströmt, ergibt sich durch den Einfluss der Teilströme, die durch zweite Strömungsleitelemente 3 durch jeweilige Wandöffnungen 23 der Kühlmittelleitung 2 treten und die eine tangentiale Komponente aufweisen, für den gesamten Kühlmittelfluss im Raum zwischen der Kühlmittelleitung 2 und dem Rohrtarget 1 eine resultierende Fließrichtung 7, die eine bezogen auf die Kühlmittelleitung 2 tangentiale Komponente und eine Komponente der zweiten Fließrichtung 6 aufweist, woraus eine spiralförmige Strömung 7 des Kühlmittels um die Kühlmittelleitung 2 herum und in der zweiten Fließrichtung 6 resultiert.
Die Summe der axialen Strömung des Kühlmediums in der zweiten Fließrichtung (Rücklauf) 6 zum ersten Ende des Trägerrohrs 1 und der tangentialen Bewegungskomponente, die durch die Teilströme erzeugt wird, welche aus der Kühlmittelleitung 2 durch die Wandöffnungen 23 der Kühlmittelleitung 2 in den Raum zwischen Trägerrohr 1 und Kühlmittelleitung 2 treten, führt zu einer resultierenden spiralförmigen Fließrichtung 7 des Kühlmittels, die einen gegenüber rein axialer Strömung deutlich höheren Wärmestrom und damit eine wesentlich höhere Kühlleistung bewirkt.
Bezugszeichenliste

1: Rohrtarget
11: Trägerrohr
12: Beschichtungsmaterial
13: Stirnwand
14: Lager
2: Kühlmittelleitung
21: Stirnwand
22: Lagerzapfen
23: Wandöffnung
24: Vertiefung
3: Strömungsleitelement
31: innere Öffnung
32: äußere Öffnung
4: Magnetanordnung
5: erste Fließrichtung (Vorlauf)
6: zweite Fließrichtung (Rücklauf)
7: spiralförmige Fließrichtung

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

WO 2009/138348 A1 [0006, 0015]
DE 112006003022 B4 [0012]
DE 102010040759 [0013]
DE 102011075543 [0014]

Claims

Sputterverfahren, bei dem Beschichtungsmaterial (12) von einer Außenfläche eines Rohrtargets (1) durch Ionenbeschuss abgestäubt wird, wobei im Innern des Rohrtargets (1) eine Magnetanordnung (4) bereitgestellt wird und eine Relativbewegung zwischen Rohrtarget (1) und Magnetanordnung (4) erzeugt wird, und wobei ein Kühlmittel in einer ersten Fließrichtung (5) durch eine im Innern des Rohrtargets (1) angeordnete Kühlmittelleitung (2) und in einer der ersten Fließrichtung (5) entgegengesetzten zweiten Fließrichtung (6) durch den Raum zwischen der Kühlmittelleitung (2) und dem Rohrtarget (1) geleitet wird, wobei an mindestens einer Stelle der Kühlmittelleitung (2) ein Teilstrom des Kühlmittels durch eine Wandöffnung (23) der Kühlmittelleitung (2) in den Raum zwischen der Kühlmittelleitung (2) und dem Rohrtarget (1) geleitet wird, dadurch gekennzeichnet, dass dem Teilstrom beim Durchtreten der Wandöffnung (23) eine Auslassrichtung aufgeprägt wird, die bezogen auf die Kühlmittelleitung (2) eine tangentiale Komponente aufweist.
Sputterverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass dem Teilstrom beim Durchtreten der Wandöffnung (23) eine Auslassrichtung aufgeprägt wird, die eine Komponente der zweiten Fließrichtung (6) aufweist.
Sputterverfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass zwei oder mehr Teilströme so durch je eine Wandöffnung (23) geleitet werden, dass im Raum zwischen der Kühlmittelleitung (2) und dem Rohrtarget (1) eine spiralförmige Strömung (7) des Kühlmittels um die Kühlmittelleitung (2) herum und in der zweiten Fließrichtung (6) bewirkt wird.
Sputtervorrichtung, umfassend ein Rohrtarget (1), dessen Außenfläche durch Beschichtungsmaterial (12) gebildet ist, eine im Innern des Rohrtargets (1) angeordnete Kühlmittelleitung (2) und eine im Innern des Rohrtargets (1) angeordnete Magnetanordnung (4), wobei das Rohrtarget (1) und die Magnetanordnung (4) relativ zueinander beweglich sind, wobei die Kühlmittelleitung (2) mindestens eine Wandöffnung (23) zum Durchtritt eines Teilstroms des Kühlmittels aus der Kühlmittelleitung (2) in den Raum zwischen der Kühlmittelleitung (2) und dem Rohrtarget (1) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass an oder in der Wandöffnung (23) ein Strömungsleitelement (3) angeordnet ist, das dem Teilstrom beim Durchtreten der Wandöffnung (23) eine Auslassrichtung aufprägt, die bezogen auf die Kühlmittelleitung (2) eine tangentiale Komponente aufweist.
Sputtervorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Auslassrichtung eine Komponente der zweiten Fließrichtung (6) aufweist.
Sputtervorrichtung nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass in der Kühlmittelleitung (2) zwei oder mehr Wandöffnungen (23) zum Durchtritt je eines Teilstroms des Kühlmittels angeordnet sind.
Sputtervorrichtung nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Strömungsleitelement (3) innerhalb der Kühlmittelleitung (2) eine der ersten Fließrichtung (5) zugewandte Öffnung (31) aufweist.
Sputtervorrichtung nach einem der Ansprüche 4 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Wandöffnung (23) an der Außenseite der Kühlmittelleitung (2) in einer Vertiefung (24) angeordnet ist.