DE102011090124B4 - Halbleitervorrichtung - Google Patents

Halbleitervorrichtung Download PDF

Info

Publication number
DE102011090124B4
DE102011090124B4 DE102011090124.8A DE102011090124A DE102011090124B4 DE 102011090124 B4 DE102011090124 B4 DE 102011090124B4 DE 102011090124 A DE102011090124 A DE 102011090124A DE 102011090124 B4 DE102011090124 B4 DE 102011090124B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
power
chips
metal pattern
bonded
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE102011090124.8A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102011090124A1 (de
Inventor
Hidetoshi Nakanishi
Yuji Miyazaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Arigna Technology Ltd Ie
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Publication of DE102011090124A1 publication Critical patent/DE102011090124A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102011090124B4 publication Critical patent/DE102011090124B4/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3735Laminates or multilayers, e.g. direct bond copper ceramic substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/07Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
    • H01L25/072Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00 the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • H01L2224/0601Structure
    • H01L2224/0603Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • H01L2224/49111Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting two common bonding areas, e.g. Litz or braid wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49861Lead-frames fixed on or encapsulated in insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/18Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different subgroups of the same main group of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19107Disposition of discrete passive components off-chip wires

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

Halbleitervorrichtung (10) mit:
einem isolierenden Substrat (16),
einem Metallmuster (18), das auf dem isolierenden Substrat gebildet ist,
einem Leistungsanschluss (26), der auf das Metallmuster (18) gebondet ist,
einer Mehrzahl von Leistungschips (20, 22), die auf das Metallmuster gebondet sind, und
einem freiliegenden Lotmuster (19), das zwischen dem Leistungsanschluss (26) und der Mehrzahl von Leistungschips (20, 22) auf das Metallmuster (18) gebondet ist,
wobei keine Komponente auf das freiliegende Lotmuster (19) gebondet ist, und
wobei jeder aus der Mehrzahl von Leistungschips (20, 22) von dem Leistungsanschluss (26) einen Abstand hat, der hinreichend ist, dass die Mehrzahl von Leistungschips (20, 22) von dem Leistungsanschluss (26) thermisch isoliert sind.

Description

  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Halbleitervorrichtung, die beispielsweise für eine Motorsteuerung in einer industriellen Anlage verwendet wird.
  • JP 2000 - 307 058 A offenbart eine Halbleitervorrichtung, bei der Leistungsanschlüsse und Leistungschips über Metallmuster miteinander verbunden sind. Es wurde jedoch herausgefunden, dass die in den Leistungschips erzeugte Hitze über die Metallmuster zu den Metallanschlüssen übertragen wurde, so dass die Leistungsanschlüsse in einigen Fällen auf eine hohe Temperatur erhitzt wurden.
  • US 2008 / 0 157 310 A1 beschreibt eine Halbleitervorrichtung mit einem isolierenden Substrat und einem darauf gebildeten Metallmuster, auf das eine Mehrzahl von Anschlüssen und eine Mehrzahl von Halbleiterchips gebondet sind. Niedrigleistungshalbleiterchips sind auf dem Metallmuster nahe den Anschlüssen angeordnet, während Leistungssteuerungshalbleiterchips auf dem Metallmuster in einem größeren Abstand von den Anschlüssen angeordnet sind.
  • Die vorliegende Erfindung wurde durchgeführt, um dieses Problem zu lösen. Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht daher darin, eine Halbleitervorrichtung bereitzustellen, bei der verhindert wird, dass die Leistungsanschlüsse auf eine hohe Temperatur erhitzt werden.
  • Die Aufgabe wird gelöst durch eine Halbleitervorrichtung gemäß Anspruch 1. Eine Weiterbildung der Erfindung ist in dem Unteranspruch angegeben.
  • Weitere Merkmale und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der beigefügten Zeichnungen.
    • 1 ist eine Draufsicht auf eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
    • 2 ist eine Schnittansicht entlang einer gestrichelten Linie II-II in 1, gesehen in Richtung der Pfeile.
    • 3 ist ein Diagramm, das eine Beziehung zwischen einer Temperatur des Leistungsanschlusses und einem Abstand zeigt.
    • 4 ist eine Schnittansicht, die einen Kühlkörper zeigt, der mit Lot auf das Metallmuster zwischen dem Leistungsanschluss und dem IGBT-Chip gebondet ist.
  • 1 ist eine Draufsicht auf eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Die Halbleitervorrichtung 10 hat ein Gehäuse 12. Eine Cu-Basis 14 ist an dem Gehäuse 12 befestigt. Eine Mehrzahl isolierender Substrate 16 ist auf der Cu-Basis 14 befestigt. Die isolierenden Substrate 16 sind aus einer AlN-Keramik gebildet. Ein Metallmuster 18 ist auf jedem isolierenden Substrat 16 gebildet. Diese Metallmuster 18 sind aus Kupfer gebildet.
  • Ein IGBT-Chip 20 ist auf das Metallmuster 18 auf einem der isolierenden Substrate 16 gebondet. Außerdem ist auch ein Diodenchip 22 auf das Metallmuster 18 gebondet. Diese Chips sind mit Lot auf das Metallmuster gebondet. Das Metallmuster 18, der IGBT-Chip 20 und der Diodenchip 22 sind über Drähte 24 elektrisch miteinander verbunden. Der IGBT-Chip 20 und der Diodenchip 22 können als „Leistungschips“ bezeichnet werden. Das freiliegende Lot auf der Oberfläche des Metallmusters 18, das keinen Leistungschip auf sich hat, wird als „Lot 19“ bezeichnet.
  • Ein Leistungsanschluss 26 wird mit Lot 25 auf das Metallmuster 18 gebondet. Der Hauptstrom der Halbleitervorrichtung 10 fließt über den Leistungsanschluss 26. Ein Signalanschluss 28 ist an einer Seite des Gehäuses 12 befestigt. Der Signalanschluss 28 ist mit dem Gate des IGBT-Chips 20 verbunden.
  • 2 ist eine Schnittansicht entlang einer gestrichelten Linie II-II in 1, gesehen in Richtung der Pfeile. Der Leistungsanschluss 26 ist mit Lot 25 auf das Metallmuster 18 gebondet. Der IGBT-Chip 20 ist mit Lot 21 auf das Metallmuster 18 gebondet. Der Leistungsanschluss 26 hat einen Abstand von 5 mm von dem nächsten Leistungschip (d. h. dem IGBT-Chip 20). Der Abstand zwischen dem Leistungsanschluss 26 und dem IGBT-Chip 20 ist in 2 durch L angegeben. Das bedeutet, dass der Abstand L der kleinste der Abstände zwischen dem Leistungsanschluss 26 und der Mehrzahl von Leistungschips der Halbleitervorrichtung ist. Anders ausgedrückt haben alle Leistungschips von dem nächsten Leistungsanschluss 26 einen Abstand von 5 mm oder mehr.
  • 3 ist ein Diagramm, das eine Beziehung zwischen der Temperatur des Leistungsanschlusses 26 und dem Abstand L zeigt. Wenn der Abstand L kleiner als 5 mm ist, wird die Temperatur des Leistungsanschlusses 26 um so höher, je kleiner der Abstand L ist, da der Anschluss durch die große Wärme beeinflusst wird, die in dem Leistungschip erzeugt wird. Wenn dagegen der Abstand L 5 mm oder größer ist, gibt es keine signifikante Beziehung zwischen der Temperatur des Leistungsanschlusses 26 und dem Abstand L. Das bedeutet, dass der Leistungsanschluss 26 von dem IGBT-Chip 20 thermisch isoliert werden kann, wenn der Abstand L 5 mm oder mehr ist. Der Ausdruck „thermisch isoliert“ bedeutet nicht notwendigerweise, dass vollständig verhindert wird, dass der Leistungsanschluss 26 Wärme von dem IGBT-Chip 20 und anderen Chips empfängt. Er bedeutet stattdessen, dass der Leistungsanschluss 26 praktisch keine Wärme von dem IGBT-Chip 20 und anderen Chips empfängt.
  • Die Hauptfaktoren für einen Anstieg der Temperatur des Leistungsanschlusses 26 sind der große Strom, der in dem Anschluss fließt, und die Wärmeleitung von den Leistungschips. Es wurde herausgefunden, dass der Leistungsanschluss aufgrund dieser Faktoren in einigen Fällen auf eine hohe Temperatur erhitzt wird. In der Halbleitervorrichtung 10 der vorliegenden Ausführungsform ist der Leistungsanschluss 26 jedoch thermisch von den Leistungschips isoliert, wodurch verhindert wird, dass die Temperatur des Anschlusses durch von den Leistungschips zugeführte Wärme erhöht wird. Auf diese Weise kann verhindert werden, dass der Leistungsanschluss 26 auf eine hohe Temperatur erhitzt wird.
  • Die Halbleitervorrichtung der vorliegenden Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass alle der Mehrzahl von Leistungschips von dem Leistungsanschluss 26 durch einen Abstand getrennt sind, der hinreichend ist, diese Leistungschips thermisch von dem Leistungsanschluss zu isolieren. Auch wenn in der obigen Ausführungsform die Leistungschips der Halbleitervorrichtung IGBT-Chips und Diodenchips sind, ist daher klar, dass in anderen Ausführungsformen die Halbleitervorrichtung entweder nur IGBT-Chips oder nur Diodenchips enthalten kann oder dass sie alternativ auch andere wärmeerzeugende Chips enthalten kann. Weiter ist das Material der Metallmuster 18 nicht auf Cu eingeschränkt.
  • Weiter erfordert die vorliegende Erfindung nicht notwendigerweise, dass der Abstand zwischen jedem Leistungsanschluss und dem nächsten Leistungschip 5 mm oder mehr beträgt. Der Abstand, der erforderlich ist, um jeden Leistungsanschluss von den Leistungschips thermisch zu isolieren, kann durch das Material des Metallmusters und die Maximaltemperatur jedes Leistungschips usw. festgelegt sein.
  • In der Halbleitervorrichtung 10 der vorliegenden Ausführungsform ist die Fläche zwischen dem Leistungsanschluss 26 und dem IGBT-Chip 20, wie in 2 gezeigt, mit dem Lot 19 bedeckt, es ist jedoch keine Komponente darauf gebondet In einer beispielhaften Ausführungsform kann Es kann beispielsweise ein Kühlkörper auf das Metallmuster zwischen dem Leistungsanschluss 26 und dem Leistungschip gebondet sein. 4 ist eine Schnittansicht, die einen Kühlkörper 40 zeigt, der mit dem Lot 19 auf das Metallmuster 18 zwischen dem Leistungsanschluss 26 und dem IGBT-Chip 20 gebondet ist. Der Kühlkörper 40 hat Kühlrippen. Die Verwendung des Kühlkörpers 40 macht es möglich, den Abstand L zu verringern, der erforderlich ist, um den Leistungsanschluss 26 thermisch von dem IGBT-Chip 20 zu isolieren.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung ist der Leistungsanschluss thermisch von den Leistungschips isoliert, um zu verhindern, dass der Leistungsanschluss auf eine hohe Temperatur erhitzt wird.

Claims (2)

  1. Halbleitervorrichtung (10) mit: einem isolierenden Substrat (16), einem Metallmuster (18), das auf dem isolierenden Substrat gebildet ist, einem Leistungsanschluss (26), der auf das Metallmuster (18) gebondet ist, einer Mehrzahl von Leistungschips (20, 22), die auf das Metallmuster gebondet sind, und einem freiliegenden Lotmuster (19), das zwischen dem Leistungsanschluss (26) und der Mehrzahl von Leistungschips (20, 22) auf das Metallmuster (18) gebondet ist, wobei keine Komponente auf das freiliegende Lotmuster (19) gebondet ist, und wobei jeder aus der Mehrzahl von Leistungschips (20, 22) von dem Leistungsanschluss (26) einen Abstand hat, der hinreichend ist, dass die Mehrzahl von Leistungschips (20, 22) von dem Leistungsanschluss (26) thermisch isoliert sind.
  2. Halbleitervorrichtung (10) gemäß Anspruch 1, bei der das Metallmuster (18) aus Kupfer gebildet ist, jeder der Mehrzahl von Leistungschips (20, 22) ein IGBT-Chip (20) oder ein Diodenchip (22) ist und der Abstand (L) zwischen dem Leistungsanschluss (26) und dem nächsten der Leistungschips (20, 22) 5 mm oder größer ist.
DE102011090124.8A 2011-04-13 2011-12-29 Halbleitervorrichtung Active DE102011090124B4 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011-089353 2011-04-13
JP2011089353A JP5626087B2 (ja) 2011-04-13 2011-04-13 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102011090124A1 DE102011090124A1 (de) 2012-10-18
DE102011090124B4 true DE102011090124B4 (de) 2018-10-04

Family

ID=46935649

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102011090124.8A Active DE102011090124B4 (de) 2011-04-13 2011-12-29 Halbleitervorrichtung

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8455997B2 (de)
JP (1) JP5626087B2 (de)
KR (1) KR101365501B1 (de)
CN (1) CN102738134B (de)
DE (1) DE102011090124B4 (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102034717B1 (ko) * 2013-02-07 2019-10-21 삼성전자주식회사 파워모듈용 기판, 파워모듈용 터미널 및 이들을 포함하는 파워모듈
JP6759784B2 (ja) * 2016-07-12 2020-09-23 三菱電機株式会社 半導体モジュール
JP2020047725A (ja) * 2018-09-18 2020-03-26 トヨタ自動車株式会社 半導体装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000307058A (ja) 1999-04-19 2000-11-02 Mitsubishi Electric Corp パワー半導体モジュール
US20080157310A1 (en) * 2006-12-29 2008-07-03 Fairchild Korea Semiconductor, Ltd. Power device package

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5386576A (en) * 1977-01-10 1978-07-31 Nec Corp Package for semiconductor element
JP3215254B2 (ja) * 1994-03-09 2001-10-02 株式会社東芝 大電力用半導体装置
CN1146988C (zh) * 1997-12-08 2004-04-21 东芝株式会社 半导体功率器件的封装及其组装方法
JP2008060430A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Daikin Ind Ltd 電力変換装置
JP5285348B2 (ja) * 2008-07-30 2013-09-11 セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー 回路装置
JP5182274B2 (ja) * 2009-11-17 2013-04-17 三菱電機株式会社 パワー半導体装置
JP5450192B2 (ja) * 2010-03-24 2014-03-26 日立オートモティブシステムズ株式会社 パワーモジュールとその製造方法
JP5467933B2 (ja) * 2010-05-21 2014-04-09 株式会社東芝 半導体装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000307058A (ja) 1999-04-19 2000-11-02 Mitsubishi Electric Corp パワー半導体モジュール
US20080157310A1 (en) * 2006-12-29 2008-07-03 Fairchild Korea Semiconductor, Ltd. Power device package

Also Published As

Publication number Publication date
KR101365501B1 (ko) 2014-02-21
JP5626087B2 (ja) 2014-11-19
JP2012222297A (ja) 2012-11-12
DE102011090124A1 (de) 2012-10-18
CN102738134A (zh) 2012-10-17
KR20120116859A (ko) 2012-10-23
US20120261811A1 (en) 2012-10-18
CN102738134B (zh) 2015-09-16
US8455997B2 (en) 2013-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE112015005217B4 (de) Halbleitervorrichtung und elektronisches Bauteil, welches diese verwendet
DE112010006084B4 (de) Kühler
DE102018212047B4 (de) Halbleitermodul
DE112013006640T5 (de) Kühlvorrichtung und mit Kühlvorrichtung ausgestattetes Leistungsvolumen
DE112014002061T5 (de) Halbleitermodul
DE112014004043T5 (de) Halbleiter-Modul und Inverter-Einheit
DE112008002559T5 (de) Drahtlose Halbleiterbaugruppe für effiziente Wärmeabfuhr
DE112012006842B4 (de) Halbleitervorrichtung
DE112017003768T5 (de) Kühlvorrichtung
DE102014110220A1 (de) Leiterplattensatz mit hocheffizienter Wärmeabfuhr
DE102012204085A1 (de) Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Herstellen dieser
DE112014006142B4 (de) Leistungshalbleiteranordnung
DE3735985C2 (de)
DE102011090124B4 (de) Halbleitervorrichtung
DE10393769T5 (de) Halbleitervorrichtung mit Klemmen zum Verbinden mit externen Elementen
DE102019103032A1 (de) Schaltnetzteilvorrichtung
DE102017207727A1 (de) Halbleiteranordnung
DE102018207745B4 (de) Kühlkörperbaugruppe
DE102019104792A1 (de) Lichtemittierendes modul
DE102017209119B4 (de) Halbleitermodul und Leistungswandler
EP2222150B1 (de) Leiterplatte mit Kühlkörper
DE112013007122B4 (de) Halbleitervorrichtung
DE102015222576B4 (de) Elektronikvorrichtung mit Wärmeleitteil
WO2013004385A1 (de) Anordnung zum kühlen von baugruppen eines automatisierungs- oder steuerungssystems
DE10218530B4 (de) Integrierte Schaltung mit thermisch abgeschirmter elektrischer Widerstandsbahn

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R084 Declaration of willingness to licence
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final
R081 Change of applicant/patentee

Owner name: ARIGNA TECHNOLOGY LTD., IE

Free format text: FORMER OWNER: MITSUBISHI ELECTRIC CO., TOKYO, JP

Owner name: ARIGNA TECHNOLOGY LTD., IE

Free format text: FORMER OWNER: MITSUBISHI ELECTRIC CORP., TOKYO, JP

R082 Change of representative

Representative=s name: PETERREINS SCHLEY PATENT- UND RECHTSANWAELTE P, DE