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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Einbringen von linienförmigen Spuren in ein mit dünnen Schichten beschichtetes Substrat, zur Herstellung von Dünnschicht-Solarzellenmodulen.
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Dabei soll der Abstand der einen Übergangsbereich bildenden Strukturierungslinien möglichst gering gehalten werden, um den Übergangsbereich, der keinen Beitrag zur Energiegewinnung durch das Dünnschicht-Solarzellenmodul liefert, minimal zu gestalten.
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Ein derartiges gattungsgemäßes Verfahren ist aus der
WO 2010/144778 bekannt.
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Dünnschicht-Solarzellenmodule bestehen aus einem starren oder flexiblen planen Substrat, welches als Träger für darauf aufgebrachte dünne Schichten dient. Zur Herstellung von Dünnschicht-Solarzellenmodulen wird typischerweise nach dem flächigen Aufbringen einer ersten Schicht auf das Substrat, diese linienförmig in vorbestimmten Abständen zueinander abgetragen womit sogenannte p1-Spuren mit einer Tiefe gleich der Dicke der ersten Schicht gebildet werden (erste Strukturierungsebene).
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Anschließend wird eine zweite Schicht flächig aufgetragen, mit der die p1-Spuren verfüllt werden. Möglichst nahe der p1-Spuren werden hierzu parallel sogenannte p2-Spuren erzeugt, in denen die zweite Schicht, nicht jedoch die erste Schicht abgetragen wird (zweite Strukturierungsebene).
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Nach dem flächigen Auftragen einer dritten Schicht, welche die p2-Spuren verfüllt, werden nahe der p2-Spuren und der p1-Spuren jeweils sogenannte p3-Spuren erzeugt, in denen die zweite und dritte Schicht, nicht jedoch die erste Schicht abgetragen wird (dritte Strukturierungsebene).
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Jeweils die zueinander nächstliegenden p1-, p2-, und p3-Spuren bilden gemeinsam einen Übergangsbereich der die einzelnen Funktionsbereiche des Dünnschicht-Solarzellenmoduls, auch Struktureinheiten genannt, voneinander trennt.
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Zum Einbringen der Spuren sind unterschiedliche Technologien bekannt, die auf mechanischen, chemischen oder thermischen Effekten beruhen können. Dabei sollen die Spuren innerhalb eines Übergangsbereiches ohne sich zu überlappen oder gar zu überkreuzen einen möglichst geringen Abstand zueinander aufweisen.
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Unabhängig von der Technologie des Einbringens der Spuren wird das Substrat wenigstens beim Aufbringen der Schichten thermisch belastet, was zu dessen dauerhafter Verformung und damit zur Verformung bereits eingebrachter Spuren führen kann.
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Aus diesem Grund ist dem Abstand der Spuren zueinander nach unten hin eine Grenze gesetzt, die gewährleistet, dass sich die Spuren der unterschiedlichen Strukturierungsebenen trotz maximal möglicher Verformung nicht überlappen oder kreuzen.
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Bei einer üblichen Ausrichtung der Spurverläufe anhand einer Außenkante der Dünnschicht-Solarzellenmodule werden daher Sicherheitsabstände von ca. 100–200 μm für den Sollverlauf der Spuren zueinander vorgegeben. Das heißt das Strukturierungswerkzeug, welches z. B. eine Ritznadel oder ein Laserstrahl ist, wird für die Spuren innerhalb eines Übergangsbereiches mit Abständen parallel zur Außenkante geführt, die sich zueinander je nach Spurbreite um ca. 100–200 μm unterscheiden. Dadurch entsteht eine Mindestbreite für einen Übergangsbereich von größer 200–400 μm. Die Spuren werden dabei in einer Bearbeitungsrichtung mit wechselndem Richtungssinn eingebracht.
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Um ein Dünnschicht-Solarzellenmodul mit schmaleren Übergangsbereichen und damit einem verbesserten Wirkungsgrad zur Verfügung zu stellen, wird in der
DE 10 2006 051 555 A1 vorgeschlagen, vor oder nach dem Einbringen einer neuen Spur, den Verlauf einer bereits vorhandenen Spur zu bestimmen und beim Einbringen der neuen Spur deren Verlauf relativ zum Verlauf der vorhandenen Spur zu regeln.
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Damit wird eine neue Spur erzeugt, deren Spurverlauf dem einer benachbarten Spur im selben Übergangsbereich entspricht. Der Abstand zwischen den Spuren kann so auf ein Minimum verringert werden, wie es aus Isolationsgründen erforderlich ist.
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Vorteilhaft soll der Verlauf einer vorhandenen Spur optisch bestimmt werden, wobei die optische Erfassung sowohl von der Unterseite des Substrates, als auch von der beschichteten Oberseite des Substrates her und sowohl vor oder auch während der Einbringung einer neuen Spur erfolgen kann.
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Als Mittel zur Spurerfassung wird hier ein Spurlagensensor angegeben, welcher dem Verlauf einer vorhandenen Spur nachgeführt wird. Die Position des Spurlagensensors wird zur Steuerung eines Aufpunktes verwendet, der dem Spurlagensensor in einem definierten Abstand folgt und in dem das Strukturierungswerkzeug auf das Substrat gerichtet ist. Alternativ zum Spurlagensensor soll auch eine photographische Aufnahme jeweils eines größeren Teils des teilweise fertig gestellten Dünnschicht-Solarzellenmoduls denkbar sein, wobei diese Aufnahmen jeweils zur Bestimmung des Aufpunktes als Landkarte genutzt werden sollen.
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Eine Spurerfassung mit einem Spurlagensensor wie hier beschrieben, hat den Nachteil, dass dieser dem Aufpunkt voraneilen muss, das heißt, dass das Einbringen der Spur nur in einem Richtungssinn der Bearbeitungsrichtung erfolgen kann, oder aber zwei Spurlagensensoren vorhanden sein müssen, bzw. der eine Spurlagensensor permanent umgesetzt werden müsste.
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Eine Spurerfassung eines größeren Teils des teilweise fertig gestellten Dünnschicht-Solarzellenmoduls erfordert eine Kamera mit einer Empfängermatrix mit einer extrem hohen Pixelzahl, um eine ausreichende Auflösung für die Abbildung eines entsprechend großen Objektfelds zu erhalten, was die Kamera zu einem sehr teueren Messmittel macht.
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Die
DE 10 2008 059 763 A1 offenbart ein Verfahren bei dem die Spuren in einer nachfolgenden Bearbeitungsebene anhand des Verlaufes einer einzigen Spur einer vorherigen Bearbeitungsebene erstellt werden, wobei der Verlauf dieser vorherigen Spur mittels eines Sensors erfasst werden soll und aus diesem ein für alle Spuren nachfolgenden Bearbeitungsebene anzuwendender Korrekturwert gebildet wird. Damit wird zwar die Verformung einer vorherigen Spur von der idealen Gerade erfasst, nicht jedoch die Abweichungen der vorherigen Spuren untereinander.
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Auch in der
EP 0 482 240 A1 ist ein Verfahren beschrieben bei dem Spuren in eine nachfolgende Bearbeitungsebene, anhand des Verlaufes einer vorhandenen Spur einer vorherigen Bearbeitungsebene, erstellt werden. Dazu wird die vorhandene Spur von einem Detektionselement beobachtet und ein Korrektursignal gebildet, mit welchem ein Werkzeug gesteuert wird. Auch hier muss das Werkzeug dem Detektionselement wenigstens geringfügig nachlaufen, um eine durch das Detektionssignal gesteuerte zur vorhandenen Spur parallele Spur zu erzeugen. Der Detektor muss daher entweder mit der Änderung des Richtungssinns der Spurerzeugung versetzt werden, es müssen zwei Detektoren vorhanden sein oder die Bearbeitung erfolgt nur in einem Richtungssinn der Bearbeitungsrichtung.
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Auch in der
WO 2010/144778 sollen in ein Dünnschicht-Solarzellenmodul linienförmige Spuren, orientiert am Verlauf bereits vorhandener Spuren, erzeugt werden. Dabei soll mit einer Kamera die Lage wenigstens einer ersten vorher erzeugten Spur erfasst werden, um eine erste benachbarte Spur zu ritzen und anschließend mit der Kamera auch die Lage der ersten benachbarten Spur erfasst werden, um davon abhängig eine zweite benachbarte Spur nahe einer zweiten vorher erzeugten Spur herzustellen.
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Es wird bei einer ersten Abtastbewegung des Dünnschicht-Solarzellenmoduls, hinwärts in Bearbeitungsrichtung, der Verlauf wenigstens einer bereits vorhandenen Spur mit der Kamera erfasst, um bei einer nächsten Abtastbewegung eine an den Verlauf der wenigstens einen erfassten Spur orientierte, weitere Spur zu erstellen. Optional wird bei einer zweiten Abtastbewegung, rückwärts in Bearbeitungsrichtung, ebenfalls der Verlauf wenigstens einer bereits vorhandenen Spur mit der Kamera erfasst, um bei einer nächsten Abtastbewegung eine an den Verlauf dieser wenigstens einen erfassten Spur orientierte, weitere Spur zu erstellen. Damit werden die neuen Spuren bei einer Abtastbewegung im gleichen Richtungssinn erzeugt, wie auch die bereits vorhandenen Spuren aufgenommen wurden, auf die sich die neuen beziehen. Eine Besonderheit bei dem hier beschriebenen Verfahren besteht darin, dass bei allen folgenden Abtastbewegungen immer auch die gerade erstellte Spur erfasst wird, um Abstände zwischen einzelnen Spuren z. B. zur Kalibrierung zu ermitteln.
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Bezüglich der Anordnung des Werkzeuges, hier eines Laserstrahles zu einer Kamera, werden zwei Varianten angegeben.
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Zum einen wird vorgeschlagen, die Kamera in einen Scanner zu integrieren und den optischen Strahlgang und den Laserstrahl über einen gemeinsamen Strahlteiler auf das Werkstück zur richten. Eine solche Lösung erscheint diesseits nur theoretisch möglich, insbesondere, dass eine Erfassung mittels Kamera und eine Spurerzeugung mittels Laser gleichzeitig stattfinden kann.
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Zum anderen soll die Kamera mit einem festen Versatz zum Scanner an einem gemeinsamen Gerüst befestigt sein. Dieser Versatz lässt rückschließen, dass hier praktisch das gleiche Problem auftritt, wie es vorangehend betreffs der Bearbeitung mit unterschiedlichem Richtungssinn bereits erläutert wurde.
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Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde ein Verfahren zur Strukturierung eines Dünnschicht-Solarzellenmoduls so zu verbessern, dass es zeitlich effizienter und wirtschaftlicher wird.
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Die Aufgabe wird für ein Verfahren zur linearen Strukturierung eines beschichteten Substrats zur Herstellung von Dünnschicht-Solarzellenmodulen, bei dem in ein mehrschichtiges großflächiges Substrat mit mehreren Strukturebenen in x-Richtung verlaufende Spuren eingebracht werden, indem es horizontal in x-Richtung zwischen zwei Entlagen in mehreren Fahrten hin und her gefahren wird, und ein oberhalb des Substrats (1) in y-Richtung zwischen den Fahrten in verschiedene Positionen versetzbares Strukturierungswerkzeug (8), während wenigstens einiger der Fahrten, auf das Substrat (1) einwirkend, jeweils eine Spur in eine obere Strukturierungsebene erzeugt, wobei es von einem Steuersignal gesteuert in y-Richtung ausgelenkt wird und Bildaufnahmen zur Erfassung vorhandener Spuren einer unteren Strukturierungsebene erstellt werden, aus deren Steuersignale abgeleitet werden, um die Spuren in ihrem Verlauf jeweils an eine vorhandene Spur angepasst, zu erzeugen, wobei die Bildaufnahmen zur Erfassung vorhandener Spuren nur während der Hinfahrten erfolgen und die Spurerzeugung während der Hin- und Herfahrten stattfindet.
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Vorteilhaft wird je Hinfahrt ein Spurenpaar der unteren Strukturebene mit einer n-ten Spur und einer n + 1-ten Spur erfasst sowie in der oberen Strukturebene eine n – 1-te Spur, und in der nachfolgenden Herfahrt eine n-te Spur erzeugt.
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Nachfolgend wird die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert.
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Hierzu zeigt:
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1 eine Prinzipskizze einer zur Durchführung des Verfahrens geeigneten Vorrichtung.
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2 die Verfahrensschritte des Verfahrens dargestellt anhand der Positionsänderung eines Dünnschicht-Solarzellenmoduls innerhalb der in 1 gezeigten Vorrichtung.
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3 die Verfahrensschritte des Verfahrens gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel anhand der Ergebnisse der einzelnen Verfahrensschritte
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4 die Verfahrensschritte des Verfahrens gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel anhand der Ergebnisse der einzelnen Verfahrensschritte.
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In 1 ist eine Prinzipskizze einer zur Durchführung des Verfahrens geeigneten Vorrichtung dargestellt, wie sie aus dem Stand der Technik bekannt ist.
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Sie umfasst zwei in gleicher Höhe und hintereinander angeordnete Förderbänder 2, 3, eine in x-Richtung transportierende Transporteinrichtung 4 mit Greifern 5, ein feststehendes Portal 6, an dem oberhalb der Förderbänder 2, 3 wenigstens ein Bearbeitungskopf 10 mit einer Kamera 7 und einem Strukturierungswerkzeug 8 in y-Richtung versetzbar angebracht sind sowie eine Auswerte- und Steuereinheit 9. Grundsätzlich könnte der Bearbeitungskopf entsprechend auch unterhalb des Förderbandes angebracht sein, was aber technisch eher Nachteile als Vorteile bringt, weshalb diese Möglichkeit bei der Beschreibung des Verfahrens nicht weiter ausgeführt werden soll.
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Die genannten Mittel sind so zueinander angeordnet, dass ein Werkstück, hier ein Substrat 1, welches auf einem der Förderbänder 2, 3 aufgelegt wird, mittels der Transporteinrichtung 4, von den Greifern 5 gehalten, zum anderen Förderband 2, 3 in x-Richtung bewegt werden kann.
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Gleichzeitig, kann durch die Kamera 7, die senkrecht auf eine durch die Förderbänder 2, 3 gebildete Auflagefläche gerichtet ist, ein aufliegendes Substrat 1 optisch erfasst werden, sodass während einer Fahrt ein streifenförmiger Abschnitt über die gesamte Länge des Substrates 1 abgebildet werden kann. Die Kamera 7 ist so ausgelegt, dass ihr Objektfeld auf dem Substrat 1 breiter ist als der vorgesehene Abstand zweier benachbarter Spuren in einer Strukturierungsebene (Spurenpaar), weshalb die Kamera 7, während das Substrat 1 einmal unter ihr hindurch bewegt wird (nachfolgend eine Fahrt genannt), zwei solcher bereits im Substrat 1 vorhandener Spuren erfassen kann.
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Damit die Kamera 7 Spurenpaare des Substrates 1 erfassen kann, ist sie am Portal 6 in y-Richtung versetzbar angebracht und zwar an vorbestimmte Positionen, die von der Breite des Substrates 1 und den Spurabständen abhängig sind.
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Am Portal 6 ist auch das Strukturierungswerkzeug 8 an vorbestimmte Positionen in y-Richtung versetzbar angebracht. Um die jeweiligen Positionen kann es in y-Richtung innerhalb eines begrenzten Bereiches während einer Fahrt ausgelenkt werden, womit das Strukturierungswerkzeug 8 eine Bahn beschreiben kann, die in x-Richtung verläuft aber innerhalb eines begrenzten Bereiches in y-Richtung von einer Geraden abweichen kann.
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Die Auswerte- und Steuereinheit 9 ist mit der Kamera 7 und dem Strukturierungswerkzeug 8 verbunden und sorgt für eine Steuerung des Strukturierungswerkzeuges 8 in Abhängigkeit der Formabweichungen bereits vorhandener Spuren, die mit der Kamera 7 zuvor erfasst wurden.
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Wie einleitend in der Beschreibung des Standes der Technik beschrieben, sollen mit dem Verfahren entweder die Spuren der p2-Strukturierung, orientiert an den vorhandenen Spuren der P1-Strukturierung oder die Spuren der p3-Strukturierung orientiert an den Spuren der p1- oder p2-Strukturierung erzeugt werden. Die p1, p2, bzw. p3-Strukturierung wird jeweils als Strukturierung in einer Strukturierungsebene verstanden, wobei die p3-Strukturierung als über der p2-Strukturierung und die p2-Strukturierung als über der p1-Strukturierung verstanden werden soll.
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Ein erstes Ausführungsbeispiel für das Verfahren wird nachfolgend anhand der 2a bis 2d näher erläutert.
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Das Substrat 1 wurde in einem vorgeordneten Prozess bereits mit einer ersten Schicht, einer Kontaktschicht (z. B. mit Molybdän) beschichtet, danach mit einer p1-Struktur versehen, die durch Spuren mit einem vorgegebenen Abstand gebildet werden und anschließend mit einer zweiten Schicht, einer photoelektrischen Schicht (z. B. CuInS2) beschichtet. In diese zweite Schicht sollen weitere, an den bereits vorhandenen Spuren ausgerichtete, Spuren (p2-Struktur) eingebracht werden. Die neu eingebrachten Spuren sollen dabei eine höchst genaue Parallelität und eine Abstandstoleranz von ±10 µm zur p1-Struktur einhalten.
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Zur Herstellung der p2-Struktur wird das Substrat 1 mittels dem ersten Förderband 2 in die Vorrichtung eingefahren und in einer ersten Endlage über die Greifer 5 an der Transporteinrichtung 4 fixiert. Mittels der Transporteinrichtung 4 kann das Substrat 1 in x-Richtung zwischen der ersten und einer zweite Endlage, wo es auf dem zweiten Förderband 3 zum liegen kommt, verfahren werden.
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Zur Unterscheidung soll nachfolgend die Fahrt von der ersten in die zweite Endlage als Hinfahrt und die Fahrt von der zweiten in die erste Endlage als Herfahrt bezeichnet werden.
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Das Substrat 1 wird nun in einer ersten Hinfahrt unter dem Portal 6 hindurchgefahren, wobei die Kamera 7 ein erstes Spurenpaar, mit einer ersten und einer zweiten p1-Spur, erfasst. Für jeden Zeitpunkt einer Bildaufnahme mit der Kamera 7, können aus der Bildaufnahme für den erfassten Spurabschnitt des Spurenpaares Korrekturwerte ermittelt werden, um die die einzelnen Spuren in dem betreffenden Spurabschnitt von einer idealen Geraden abweichen. Aus der Kenntnis der Relativlage des Matrixempfängers der Kamera 7, zum Substrat 1, können die Korrekturwerte der erfassten Spuren den Positionen des Substrates 1 zum Zeitpunkt der Bildaufnahme zugeordnet werden. Sie werden in der Auswerte- und Steuereinheit 9 abgespeichert, um sie für nachfolgende Fahrten, während denen Spuren in einer darüber liegenden Strukturierungsebene erzeugt werden, zur Bildung spurbezogener, positionsabhängiger Steuergrößen zu verwenden. Dabei werden die Korrekturwerte Positionen zugeordnet die für jede Bildaufnahme, von einem gleichen Ausgangspunkt ausgehend, durch einen vorgegebenen Abstand bestimmt sind.
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Bei der nachfolgenden ersten Herfahrt wird nun die erste p2-Spur mit dem Strukturierungswerkzeug 8 eingebracht. Als Strukturierungswerkzeug 8 wird bevorzugt ein Laserstrahl verwendet der über eine Laseroptik auf das Substrat 1 fokussiert wird. Stattdessen kann auch ein mechanisches Ritzwerkzeug verwendet werden.
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Das Strukturierungswerkzeug 8 wird dabei in y-Richtung von einer Steuergröße angesteuert ausgelenkt, sodass die entstehende Spur parallel zur ersten p2-Spur verläuft. Zur Steuerung wird dabei die Steuergröße herangezogen, welche von der ersten p1-Spur abgeleitet wurde.
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Vor der zweiten Hinfahrt wird die Kamera 7 in y-Richtung, in eine Position zur dritten und vierten p1-Spur ausgerichtet, versetzt. Das Strukturierungswerkzeug 8 wird ebenfalls in y-Richtung versetzt und zur zweiten p1-Spur ausgerichtet. Gleich der ersten Hinfahrt wird ein zweites Spurenpaar, also eine dritte und vierte p1-Spur erfasst und die Bildaufnahmen wie beschrieben verarbeitet. Zeitgleich wird die zweite p2-Spur erstellt. Zur Steuerung wird dabei die Steuergröße herangezogen, welche von der zweiten p1-Spur abgeleitet wurde.
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Nachfolgend wird wie erläutert bei den Hinfahrten jeweils ein Spurenpaar mit einer n-ten p1-Spur und n + 1-ten p1-Spur erfasst und eine n – 1-ten p2-Spur erzeugt sowie bei den Herfahrten nur eine n-te p2-Spur erzeugt, bis alle Spuren der p2-Strukturierung fertig gestellt sind.
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Durch die Spurerfassung, immer von der gleichen Endlage aus, gestaltet sich ein positionssynchrones Auslösen der Kamera 7, das heißt ein Auslösen der Kamera jeweils in gleichen Abständen von der ersten Endlage, einfacher.
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Auch ist die Berechnung der Steuergröße als ortsabhängige Größe aus den Bildaufnahmen vorhandener Spuren weniger aufwendig, wenn sie immer von einem gleichen Ausgangspunkt ausgeht.
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Vorteilhaft steht die Zeitdauer, für die Herfahrten, da keine Aufnahmen erstellt werden, vollständig als Rechenzeit zur Verfügung. Es können daher auch pro Fahrt mehr Bildaufnahmen verarbeitet werden, die zur Bildung eines genaueren Steuersignals führen.
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Die Vorrichtung kann zur Bearbeitung von Substraten 1 unterschiedlicher Längen ohne eine aufwendige rechentechnische Anpassung verwendet werden, da die Steuergröße immer auf den gleichen Ausgangspunkt bezogen berechnet wird.
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Anhand von 3 lässt sich dieser Verfahrensablauf noch einmal einfach nachvollziehen. Dabei sind die vorhandenen Spuren als Punktlinien, die erfassten Spuren als Strichlinien und die nachfolgend erzeugten Spuren als Volllinien dargestellt. Die Pfeile zum rechten Rand der Zeichnung hin sollen die Hinfahrt und die Pfeile zum linken Rand der Zeichnung hin sollen die Herfahrt symbolisieren.
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Mit dem beschriebenen Verfahren ist vergleichsweise ein zeitlich effizienteres, sogenanntes Einzelspur-Mapping, bei dem jede nachfolgend erzeugte Spur an einer ausgewählten vorhandenen Spur orientiert, erzeugt wird, möglich.
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4 zeigt eine verbesserte Ausführung des Verfahrens bei dem für einen schnelleren Strukturierungsprozess am Portal 6 mehrere Bearbeitungseinheiten, bestehend aus Kamera 7 und Strukturierungswerkzeug 8 zeitgleich zum Einsatz gebracht werden. Jede Bearbeitungseinheit erfasst dabei nur einen bestimmten Abschnitt vom Substrat 1. Die Bearbeitung der Abschnitte erfolgt dann zeitgleich analog der Bearbeitung des gesamten Substrates 1, wie anhand des ersten Ausführungsbeispiels beschrieben.
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Entsprechend werden bei einer Hinfahrt ein Spurenpaar mit einer n-ten Spur und einer n + 1-sten Spur sowie ein Spurenpaar mit einer m-ten Spur und einer m + 1-ten Spur erfasst sowie, sofern es sich nicht um die erste Hinfahrt handelt, eine n – 1-te Spur und eine m – 1-te Spur erzeugt. Bei den Herfahrten werden keine Spurenpaare erfasst, sondern nur eine n-te und eine m-te Spur erzeugt. Die n-te und m-te Spur haben einen Abstand zueinander der der Breite der Abschnitte entspricht.
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Bezugszeichenliste
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- 1
- Substrat
- 2
- Erstes Förderband
- 3
- Zweites Förderband
- 4
- Transporteinrichtung
- 5
- Greifer
- 6
- Portal
- 7
- Kamera
- 8
- Strukturierungswerkzeug
- 9
- Auswerte- und Steuereinheit
- 10
- Bearbeitungskopf
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- WO 2010/144778 [0003, 0020]
- DE 102006051555 A1 [0012]
- DE 102008059763 A1 [0018]
- EP 0482240 A1 [0019]
