DE102009060843A1 - Korrektur von Abbildungsfehlern bei Ausrichtsystemen mit mehreren im Strahlengang hintereinander angeordneten Messebenen - Google Patents

Korrektur von Abbildungsfehlern bei Ausrichtsystemen mit mehreren im Strahlengang hintereinander angeordneten Messebenen Download PDF

Info

Publication number
DE102009060843A1
DE102009060843A1 DE102009060843A DE102009060843A DE102009060843A1 DE 102009060843 A1 DE102009060843 A1 DE 102009060843A1 DE 102009060843 A DE102009060843 A DE 102009060843A DE 102009060843 A DE102009060843 A DE 102009060843A DE 102009060843 A1 DE102009060843 A1 DE 102009060843A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
aberrations
detectors
systematic
light beam
impact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102009060843A
Other languages
English (en)
Inventor
Heinrich 85748 Lysen
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Prueftechnik Dieter Busch Ag 85737
Prueftechnik Dieter Busch AG
Original Assignee
Prueftechnik Dieter Busch Ag 85737
Prueftechnik Dieter Busch AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Prueftechnik Dieter Busch Ag 85737, Prueftechnik Dieter Busch AG filed Critical Prueftechnik Dieter Busch Ag 85737
Priority to DE102009060843A priority Critical patent/DE102009060843A1/de
Priority to EP10197166A priority patent/EP2343499B1/de
Priority to US12/980,929 priority patent/US8571826B2/en
Publication of DE102009060843A1 publication Critical patent/DE102009060843A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/26Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
    • G01B11/27Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes
    • G01B11/272Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes using photoelectric detection means
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B21/00Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
    • G01B21/02Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness
    • G01B21/04Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness by measuring coordinates of points
    • G01B21/045Correction of measurements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Korrektur der Messwerte optischer Ausrichtsysteme mit mindestens zwei Messebenen, die im Strahlengang hintereinander angeordnet sind. Dabei wird von jeder Messebene aus der Strahlengang zur Lichtquelle zurücktransformiert, um anhand eines um Abbildungsfehler korrigierten Strahls neue Auftreffpunkte zu berechnen.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erhöhung der Genauigkeit der Messung von Ausrichtsystemen mit mehreren im Strahlengang hintereinander angeordneten Messebenen. Die Verwendung von mindestens zwei Messebenen ermöglicht es, nicht nur den Auftreffpunkt eines Lichtstrahls zu bestimmen, sondern auch die Richtung, aus der dieser Lichtstrahl auf den Detektor mit diesen Messebenen trifft.
  • Solche Messsysteme sind aus der DE 38 14 466 A1 bekannt. Da für diese Messsysteme kaum lichtdurchlässige Detektoren zur Verfügung stehen, werden Strahlteiler in Form teildurchlässiger Spiegel verwendet, deren Beschichtung häufig auf der Diagonalfläche eines Würfels aus Glas aufgebracht wird. Diese Würfel werden durch Verkitten zweier Prismen mit dem Querschnitt eines gleichschenklig-rechtwinkligen Dreiecks gebildet. Solche Strahlteilerwürfel sind aber teuer zu fertigen. Deshalb wird oft nur eine Glasplatte teilverspiegelt. Es werden oft Linsen in das Gehäuse des Ausrichtdetektors eingebracht. Als Detektoren kommen eindimensional oder zweidimensional auslesbare fotosensitive Dioden (PSD) zum Einsatz. Auch Arrays auf CMOS- oder CCD-Basis werden verwendet. Mit zweidimensional auslesbaren Detektoren können natürlich mehr Freiheitsgrade von Fehlausrichtungen berechnet werden.
  • Die Genauigkeit solcher Messsysteme ist aber begrenzt durch systematische Abbildungsfehler, insbesondere den Öffnungsfehler und die daraus resultierenden Fehler wie sphärische Aberration, Astigmatismus und Koma, und durch nichtsystematische Abbildungsfehler, wie Reflexionen an optisch aktiven Flächen, Fertigungstoleranzen und Formfehler. Diese Abbildungsfehler haben einen besonders starken Effekt, wenn der Lichtstrahl nicht nahe an der optischen Achse des Systems verläuft, sondern weit von dieser entfernt, oder wenn der Lichtstrahl einen Winkel zur optischen Achse des Systems einschließt. Wird ein größerer Detektor verwendet, um auch größere Versätze messen zu können, steigt der Einfluss der Abbildungsfehler.
  • Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die Genauigkeit der genannten Messsysteme zu erhöhen und den Einfluss der Abbildungsfehler zu reduzieren.
  • Diese Aufgabe wird gelöst durch ein mathematisches Verfahren zur Berücksichtigung systematischer Abbildungsfehler in Form einer Rücktransformation der Lichtstrahlen von den Auftreffpunkten auf den jeweiligen Messebenen zurück zur Lichtquelle, wie es im Anspruch 1 dargestellt wird. Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
  • Herkömmliche Computerprogramme zur Berechnung der Strahlengänge optischer Systeme sind nicht zur Lösung dieser Aufgabe geeignet, da sie nur eine Bildebene berücksichtigen.
  • Die Erfindung wird im Folgenden anhand der 1 und 2 beschrieben. In 1 zum Stand der Technik, wie er in der DE 38 14 466 dargestellt ist, ist schematisch eine Lichtquelle 1 dargestellt, die einen Lichtstrahl 2 aussendet. Als Lichtquelle werden oft Laserdioden oder LEDs verwendet. Diese Lichtquelle befindet sich in einem nicht gezeigten Gehäuse, das an einem Objekt befestigt ist, dessen Ausrichtszustand bestimmt werden soll. An einem weiteren Objekt oder an einer anderen Stelle desselben Objekts ist ein weiteres nicht gezeigtes Gehäuse angebracht, in dem die beiden Detektoren 10 und 11 im Strahlengang hintereinander angebracht sind. Da kaum lichtdurchlässige Detektoren zur Verfügung stehen, befindet sich im Strahlengang vor diesen beiden Detektoren ein Strahlteilerspiegel 12, von dem aus der fortlaufende Strahl 4 zum Detektor 10 gelangt und der reflektierte Strahl 3 zum Detektor 11 gespiegelt wird.
  • Das die Detektoren 10 und 11 enthaltende Gehäuse ist an einem zweiten Objekt oder anderen Teil desselben Objekts angebracht, das über eine Bezugsachse 31 verfügt. Durch den Strahlteilerspiegel 12 entsteht eine virtuelle Bezugsachse 32. Das nicht gezeigte Gehäuse, das die Detektoren enthält, kann in der Nähe der Eintrittsöffnung eine strahlformende Optik 13 enthalten, die aus einer oder mehreren Linsen besteht. Nach dem Strahlteilerspiegel 12 können weitere strahlformende Optiken 14 und 15 vorgesehen sein, die ebenfalls aus Linsen oder Linsensystemen bestehen. Je nach Auslegung der Optiken 13 und 15 können verschiedene virtuelle Positionen 21 oder 23 des Detektors 11 im Verlauf des Lichtstrahls erreicht werden. Diese durch die Abbildungssysteme erzeugten virtuellen Positionen werden als Messebenen bezeichnet. Für die Figuren wird nun angenommen, dass dem Detektor 10 die Messebene 22 und dem Detektor 11 die Messebene 23 durch die jeweiligen Abbildungsoptiken zugeordnet ist.
  • Mit dem Paar von Detektoren 10 und 11 kann nun anhand der Auftreffpunkte der Lichtstrahlen 41 und 42 auf den Detektoren 10 und 11 der Parallelversatz und der Winkelversatz bezüglich einer Bezugsachse 31 ermittelt werden. Die Darstellung in 1 ist für einen idealen Strahlverlauf gewählt. In der Realität wird es natürlich selten dazu kommen, dass die Auftreffpunkte 41 und 42 genau im Zentrum der Detektoren 10 und 11 zu liegen kommen.
  • Andere Strahlverläufe, die sich bei nicht perfekter Ausrichtung ergeben, verlaufen in einem Abstand zur optischen Achse und unter einem Winkel zu dieser Achse. Der Verlauf eines solchen Strahls ist in 2 dargestellt. Hier verläuft nun der Lichtstrahl 2 entfernt von der optischen Achse. In der Optik an der Eintrittsöffnung wird dieser Strahl an mehreren Flächen gebrochen. Deshalb ist in 2 der Verlauf des Lichtstrahls 2 im Innern des Linsensystems 13 mit einer gestrichelten Linie dargestellt. Im Strahlteiler 12 zweigt der nur symbolisch dargestellte Strahl 3 ab. Der Strahl 4 läuft weiter zum Detektor 10 und erreicht ihn bzw. seine Messebene 22 im Auftreffpunkt 41. Wenn der Strahlteilerspiegel 12 nur aus einer Glasplatte und nicht aus einem Strahlteilerwürfel besteht, entsteht ein Versatz des Lichtstrahls 4 gegenüber dem Lichtstrahl 2, wie in 2 dargestellt. Der am Strahlteilerspiegel 12 beginnende Strahl 3 erreicht den Detektor 11 bzw. seine Messebene 23 im Auftreffpunkt 42.
  • Weiter ist in 2 ein Strahl 5 dargestellt, der durch das optische Zentrum des Linsensystems 13 verläuft. Am Strahlteilerspiegel 12 wird der Strahl 5 reflektiert und erreicht den Detektor 11 bzw. seine Messebene 23 im Auftreffpunkt 44. Der Strahl 6 verläuft, wenn als Strahlteiler eine Glasplatte verwendet wird, ebenfalls mit einem Versatz weiter zum Detektor 10 bzw. seiner Messebene 22 und erreicht ihn im Auftreffpunkt 43.
  • Die Erfindung besteht nun darin, dass ausgehend von den Detektoren 10 und 11 und den darauf ermittelten Auftreffpunkten 41 und 42 der Lichtstrahlen 2 und 3 eine Berechnung des Strahlverlaufs rückwärts zur Lichtquelle 1 vorgenommen wird, wobei natürlich das Brechungsgesetz gilt. Vom Detektor 11 aus wird der Strahl 3 berechnet, der durch eine eventuell vorhandene Linse 15, die ja nur den Strahl 3 beeinflusst, zum Strahlteilerspiegel 12 zurückgelangt. Durch diesen Strahlteilerspiegel 12 werden zusammen mit einer gegebenenfalls vorhandenen Optik 15 auch ungleiche optische Verhältnisse der Lichtstrahlen zu den Detektoren 10 und 11 bewirkt. Außerdem wird erfindungsgemäß vom Detektor 10 aus der Strahlverlauf 4 durch die Linse 14 bis zum Strahlteilerspiegel 12 berechnet.
  • Ausgehend vom Strahlteilerspiegel 12 wird nun für die beiden Lichtstrahlen 3 und 4 der Verlauf des Lichtstrahls 2 rückwärts zur Lichtquelle 1 berechnet. Bei dieser weiteren Rücktransformation der Auftreffpunkte ist der Verlauf des Lichtstrahls ausgehend vom Strahlteilerspiegel 12 durch die Eintrittslinse 13 rückwärts zur Lichtquelle 1 für beide Auftreffpunkte 41 und 42 ja identisch. Mit dieser Rücktransformation der Strahlen 2, 3 und 4 zur Lichtquelle 1 können nun neue Auftreffpunkte auf den Detektoren 10 und 11 berechnet werden, die sich von den gemessenen Auftreffpunkten unterscheiden, wenn bei der Rücktransformation Abbildungsfehler berücksichtigt werden.
  • Eine solche Rücktransformation geht nicht notwendigerweise von der oft verwendeten Näherung dünner Linsen aus. Oben wurde beschrieben, dass für den Strahl 3 andere Verhältnisse gelten als für den Verlauf des Strahls 2 durch den Strahlteilerspiegel zum Detektor 10. Diese ungleichen optischen Verhältnisse für den Verlauf des Strahls 3 gegenüber dem weiteren Verlauf des Strahls 2 nach dem Strahlteilerspiegel 12 müssen bei der Rücktransformation berücksichtigt werden, indem aus dem weiteren Verlauf des Strahls 2 und im Verlauf des Strahls 3 ein gemeinsamer Strahl berechnet wird, der genau die beiden Auftreffpunkte 41 und 42 liefert, wobei natürlich die Abbildungsfehler der Linsensysteme 13, 14 und 15 berücksichtigt werden.
  • Abschließend wird also aus beiden Strahlverläufen ein gemeinsamer Strahlverlauf errechnet, der andere Auftreffpunkte als die tatsächlich gemessenen liefern würde. Diese Änderung in der Lage der Auftreffpunkte ist auf Abbildungsfehler zurückzuführen. Nun können die gemessenen Auftreffpunkte korrigiert werden, und zwar um den Betrag, der durch Abbildungsfehler entsteht. So wird die Genauigkeit der Messung erhöht. Zusammen mit dem Abstand zwischen Lichtquelle und Detektor wird anschließend die Ausrichtung zwischen Lichtquelle und Detektor bzw. die Ausrichtung der Gegenstände, an denen Lichtquelle und Detektor angebracht sind, ermittelt. Durch die erfindungsgemäße Rücktransformation zweier Strahlen wird die Genauigkeit der Bestimmung dieses Ausrichtungzustands wesentlich erhöht.
  • Bei nicht perfekten Strahlverläufen, wie sie für die einfallenden Strahlen 2 und 5 in 2 dargestellt sind, sind bei der Rücktransformation systematische Abbildungsfehler zu berücksichtigen, die durch den Abstand der Strahlen von der optischen Achse und den Winkel verursacht werden, den dieser Strahl mit der optischen Achse einschließt. Einige dieser systematischen Fehler werden als Öffnungsfehler bezeichnet.
  • Bei der Rücktransformation werden also die Effekte verschiedener systematischer Abbildungsfehler berücksichtigt. Einer dieser Öffnungsfehler ist die bei sphärischen Linsen auftretende sphärische Aberration. Für schräg zur optischen Achse des Detektorgehäuses auftreffende Lichtstrahlen ist auch das Koma einzubeziehen. Ebenfalls bei schräg auftreffenden Strahlen kann zusätzlich der Astigmatismus berücksichtigt werden. Darüber hinaus können auch Bildfeldwölbung und Verzeichnung berücksichtigt werden. Bei weitgehend monochromatischen Halbleiterlasern oder Leuchtdioden spielen Farbfehler dagegen nur eine geringe Rolle.
  • Entscheidend für die vorliegende Erfindung ist dabei, dass hier so viele Strahlen verwendet werden wie Detektoren und Messebenen vorhanden sind; ausgehend von den Auftreffpunkten der einzelnen Lichtstrahlen auf den Detektoren wird für jeden Strahl einzeln eine Rücktransformation des Strahlverlaufs zur Lichtquelle vorgenommen. Mit dieser Rücktransformation wird es möglich, eine Änderung für die gemessenen Auftreffpunkte zu berechnen, die Abbildungsfehler berücksichtigt.
  • Für viele Anwendungen ist eine Detektorgröße von etwa 20 auf 20 mm2 nicht mehr ausreichend. Deshalb werden größere Detektoren verwendet. Dabei ist es auch erforderlich, größere Linsensysteme 13, 14, 15 zu verwenden. So steigt auch der Abstand des Lichtstrahls von der optischen Achse des Systems an. Durch diese Maßnahmen werden die Auswirkungen der oben beschriebenen systematischen Abbildungsfehler auf die Bestimmung der Auftreffpunkte auf den Detektoren 10 und 11 ebenfalls größer. Um nun die Genauigkeit der Bestimmung der Auftreffpunkte auf den Detektoren auch bei größeren Detektoren zu erhalten, ist es notwendig, unter Berücksichtigung der systematischen Abbildungsfehler eine Korrektur der gemessenen Auftreffpunkte über eine Rücktransformation des Lichtstrahls zu errechnen. Dabei wird laufend derjenige Eingangsstrahl in die Optik berechnet, der auf den beiden Detektoren die dort gemessenen x-y-Werte liefern würde.
  • Wird als Detektor kein Array aus CCD- oder CMOS-Elementen verwendet, sondern eine fotosensitive Diode (PSD), so sind die an dieser Diode abgegriffenen Spannungen nicht notwendigerweise linear in Bezug auf den Abstand des Auftreffpunkts eines Lichtstrahls von einem Bezugspunkt auf der Fläche dieser Diode, zum Beispiel dem Mittelpunkt. Deshalb ist es sinnvoll, nach der Bestimmung des Auftreffpunkts auf der Diodenfläche eine Linearisierung der gemessenen Spannung, die ja einem Ort des Auftreffpunkts des Lichtstrahls entspricht, vorzunehmen. Eine solche Linearisierung kann durch Hinterlegung einer Tabelle von Werten oder durch ein Rechenverfahren erreicht werden.
  • Es zeigt sich, dass es besonders bei großen Detektoren sinnvoll ist, in diese Linearisierung auch die systematischen Abbildungsfehler einzubeziehen. Selbstverständlich kann auf diesem Weg auch bei kleineren Detektoren die Genauigkeit gesteigert werden.
  • Alternativ kann man auch bei einer solchen Linearisierung nur zentrumsnahe Strahlen berücksichtigen, wie sie in 2 mit den Bezugszeichen 4 und 5 dargestellt sind, wenn eine Rücktransformation durchgeführt wird.
  • Für vom Zentrum weiter entfernte Strahlen kann dann eine zusätzliche Korrektur, wie sie auch bei der Linearisierung durchgeführt wird, bei der oben beschriebenen Rücktransformation erfolgen.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 3814466 A1 [0002]
    • DE 3814466 [0007]

Claims (9)

  1. Verfahren zur Korrektur der Koordinaten von Auftreffpunkten eines Lichtstrahls (2) geringer Divergenz, der ein optisches System mit mindestens zwei im Strahlengang hintereinander angeordneten Detektoren (10, 11) zur Bestimmung von Auftreffpunkten (41, 42) des Lichtstrahls auf diesen Detektoren zugeordneten Messebenen (22, 23) durchläuft, wobei die auf den einzelnen Messebenen (22, 23) auftreffenden Strahlen (4, 3) rechnerisch nach optischen Regeln rückwärts durch das optische System zur Lichtquelle (1) transformiert werden, so dass ein Messstrahl mit korrigierten Auftreffpunkten auf den einzelnen Messebenen ermittelt wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei im Falle ungleicher optischer Verhältnisse aus den aus einem ersten Lichtstrahl (4) und mindestens einem weiteren Lichtstrahl (3) resultierenden Auftreffpunkten (41, 42) ein gemeinsamer Lichtstrahl berechnet wird, der unter Berücksichtigung der Abbildungsfehler die Auftreffpunkte (41, 42) erreicht.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei die auf den einzelnen Messebenen (22, 23) auftreffenden Strahlen unter Berücksichtigung systematischer Abbildungsfehler rückwärts durch das optische System zur Lichtquelle transformiert werden.
  4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei ein systematischer Abbildungsfehler der Öffnungsfehler ist.
  5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei ein systematischer Abbildungsfehler die sphärische Aberration ist.
  6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei ein systematischer Abbildungsfehler das Koma ist.
  7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei ein systematischer Abbildungsfehler der Astigmatismus ist.
  8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei eine Linearisierung der die Messebenen (22, 23) bildenden Detektoren (10, 11) unter Berücksichtigung der systematischen Abbildungsfehler vorgenommen wird.
  9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei eine Linearisierung der die Messebenen (22, 23) bildenden Detektoren (10, 11) mit Hilfe zentrumsnaher Strahlen durchgeführt wird.
DE102009060843A 2009-12-29 2009-12-29 Korrektur von Abbildungsfehlern bei Ausrichtsystemen mit mehreren im Strahlengang hintereinander angeordneten Messebenen Withdrawn DE102009060843A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102009060843A DE102009060843A1 (de) 2009-12-29 2009-12-29 Korrektur von Abbildungsfehlern bei Ausrichtsystemen mit mehreren im Strahlengang hintereinander angeordneten Messebenen
EP10197166A EP2343499B1 (de) 2009-12-29 2010-12-28 Korrektur von Abbildungsfehlern bei Ausrichtsystemen mit mehreren im Strahlengang hintereinander angeordneten Messebenen
US12/980,929 US8571826B2 (en) 2009-12-29 2010-12-29 Correction of imaging errors in alignment system with several measurement planes located in succession in the beam path

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102009060843A DE102009060843A1 (de) 2009-12-29 2009-12-29 Korrektur von Abbildungsfehlern bei Ausrichtsystemen mit mehreren im Strahlengang hintereinander angeordneten Messebenen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102009060843A1 true DE102009060843A1 (de) 2011-06-30

Family

ID=43533346

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102009060843A Withdrawn DE102009060843A1 (de) 2009-12-29 2009-12-29 Korrektur von Abbildungsfehlern bei Ausrichtsystemen mit mehreren im Strahlengang hintereinander angeordneten Messebenen

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8571826B2 (de)
EP (1) EP2343499B1 (de)
DE (1) DE102009060843A1 (de)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3814466A1 (de) 1988-04-28 1989-11-09 Busch Dieter & Co Prueftech Verfahren und vorrichtung zum feststellen der relativen lage einer bezugsachse eines objekts bezueglich eines referenzstrahls, insbesondere eines laserstrahls
DE19822129A1 (de) * 1998-05-07 1999-11-11 Gerald Sparrer Anordnung und Meßverfahren zur Fluchtung höchster Präzision mit zweidimensionalen optischen Symmetrierelementen
DE60032457T2 (de) * 1999-01-21 2007-10-11 Intel Corporation, Santa Clara Softwarekorrektur der bildverzerrung in digitalen kameras

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0715367B2 (ja) * 1985-10-15 1995-02-22 キヤノン株式会社 変位・回転検出方法及び姿勢制御装置
JP2000097609A (ja) * 1998-09-21 2000-04-07 Nikon Corp 波面干渉計
US6122039A (en) * 1998-10-28 2000-09-19 Banner Engineering Corp. Method and apparatus to detect and report object displacement utilizing optical triangulation principles
KR20060098404A (ko) * 2001-08-31 2006-09-18 캐논 가부시끼가이샤 레티클

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3814466A1 (de) 1988-04-28 1989-11-09 Busch Dieter & Co Prueftech Verfahren und vorrichtung zum feststellen der relativen lage einer bezugsachse eines objekts bezueglich eines referenzstrahls, insbesondere eines laserstrahls
DE19822129A1 (de) * 1998-05-07 1999-11-11 Gerald Sparrer Anordnung und Meßverfahren zur Fluchtung höchster Präzision mit zweidimensionalen optischen Symmetrierelementen
DE60032457T2 (de) * 1999-01-21 2007-10-11 Intel Corporation, Santa Clara Softwarekorrektur der bildverzerrung in digitalen kameras

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
LUHMANN,Th.:Nahbereichsphotogrammetrie, Herbert Wichmann Verlag, Heidelberg, 2.Aufl., 2003,S.120,352-357 S.120,S.352-357 *

Also Published As

Publication number Publication date
US20110161033A1 (en) 2011-06-30
US8571826B2 (en) 2013-10-29
EP2343499A1 (de) 2011-07-13
EP2343499B1 (de) 2012-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2711761B1 (de) Projektionsvorrichtung
DE102014118383B4 (de) Objektiv für eine Foto- oder Filmkamera und Verfahren zum gezielten Dämpfen bestimmter Raumfrequenzbereiche der Modulations-Transfer-Funktion eines derartigen Objektivs
DE2808043C3 (de) Optisches Systems für Nachsichtbrillen
DE102014201779B4 (de) Strahlpropagationskamera und Verfahren zur Lichtstrahlanalyse
EP1618426A1 (de) Verfahren und anordnung zur bestimmung der fokusposition bei der abbildung einer probe
WO2018197246A1 (de) Laserscanner beispielsweise für ein lidar-system eines fahrerassistenzsystems
DE102013227031A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Analysieren eines auf ein Substrat auftreffenden Lichtstrahls und zum Korrigieren einer Brennweitenverschiebung
DE102015011427A1 (de) Bildaufnahmesystem und Bildauswertesystem
DE102016109419B4 (de) Objektiv, Messsystem mit dem Objektiv, und Sternsensor mit dem Messsystem
DE102009060843A1 (de) Korrektur von Abbildungsfehlern bei Ausrichtsystemen mit mehreren im Strahlengang hintereinander angeordneten Messebenen
DE112015006198T5 (de) Wellenfrontmessvorrichtung und wellenfrontmessverfahren
DE102014010667A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Form einer Wellenfront eines optischen Strahlungsfeldes
DE102015003392B4 (de) Optische Triangulations-Sensoranordnung und Linsenanordnung hierfür
DE102021117104A1 (de) Kalibriernormal zur Messung des Winkels zwischen einer optischen Achse eines Autokollimators und einer mechanischen Linearachse
DE102019219151A1 (de) Optische Positionsmesseinrichtung
DE332025C (de) Stereo-Mikroskop
DE102018113136A1 (de) Kameramodul und Kamerasystem mit einem Kameramodul
DE697973C (de) Optisches System
DE102019104661B4 (de) Wellenfrontsensor umfassend eine flächige Aperturmaske und Verfahren zur Kalibration
AT414174B (de) Einrichtung zur abbildung von lichtquellen
DE575625C (de) Berichtigungseinrichtung fuer Entfernungsmesser
DE102022103459A1 (de) Strahlteilerbaugruppe, verfahren zu deren dimensionierung und mikroskop
DE102015005779B4 (de) Verfahren zur Kalibrierung einer Vorrichtung zum Untersuchen einer optischen Einrichtung und Verfahren zum Untersuchen einer optischen Einrichtung
DE573294C (de) Achsensymmetrische Linsenanordnung
DE102020125572A1 (de) Projektionssystem

Legal Events

Date Code Title Description
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee

Effective date: 20140701