-
Gebiet der Erfindung
-
Die
Erfindung betrifft allgemein elektronische Verstärkerschaltungen und insbesondere
in einem Ausführungsbeispiel
einen selbsttaktenden symmetrischen Integrationsdifferenzstrom-Leseverstärker.
-
Hintergrund
-
Speicherzellen
in Computer und anderen elektronischen Vorrichtungen speichern typischerweise
Informationen durch Speichern einer Ladung in einem Transistor oder
einer anderen Schaltung oder Komponente, so dass die Zelle durch
Untersuchen der Ladung in der Zelle gelesen werden kann. Ein herkömmlicher
Dynamic Random Access Memory ist in Reihen und Spalten von Speicherzellen
angeordnet, die einen Transistor und einen Kondensator an jeder
Speicherzellenstelle verwenden, so dass der Transistor zum selektiven
Laden des Kondensators und zum Speichern von Daten verwendet wird. Das
Lesen von Daten umfasst das Wählen
einer Spalte unter Verwendung eines Signals zum Spaltenzugriffs
und das Lesen der in jeder Zelle vorhandenen Ladung in einer gewählten Reihe
von kapazitiven Speicherzellen.
-
Ein
dynamischer Speicher verliert seine Daten, wenn er von der Versorgung
getrennt wird, während
ein nicht flüchtiger
Speicher wie ein Flash-Speicher seine einmal programmierten Daten
behält.
Ein Flash-Speicher umfasst eine Anzahl von unabhängigen Zellen, von denen jede
in der Regel einen einzelnen Transistor umfasst und eine einzelne
binäre
Ziffer oder ein Bit von Information speichert. In Varianten werden
mehrere Transistoren oder mehrere Bits von Information pro Zelle
verwendet. Ein typischer Flash-Speicher bzw. eine typische nicht
flüchtige Speicherzelle ähnelt einem
Feldeffekttransistor, weist aber ein elektrisch isoliertes Floating-Gate
auf, das die elektrische Leitung zwischen Source- und Drain-Regionen der Speicherzelle
steuert oder beeinflusst. Daten werden durch eine auf dem Floating-Gate
gespeicherte Ladung und die resultierende Leitfähigkeit, die zwischen den Source-
und den Drain-Regionen während
eines Lesevorgangs als Ergebnis einer Änderung der Schwellenspannung
der Zelle auftritt.
-
Das
Floating-Gate trennt ein zweites Gate, das als Steuer-Gate bezeichnet
wird, von den Source- und den Drain-Regionen der Speicherzelle.
Auf dem vom Steuer-Gate und Drain und Source durch eine isolierende
Oxidschicht isoliertem Floating-Gate gespeicherte Elektronen heben
ein vom Steuer-Gate erzeugtes elektrisches Feld teilweise auf oder ändern es,
was zu einer Änderung
der effektiven Schwellenspannung (Vt) der Speicherzelle führt. Wenn
die Speicherzelle durch Anlegen einer spezifischen Spannung an dem
Steuer-Gate gelesen wird, fließt Strom
zwischen Source und Drain der Vorrichtung oder nicht, je nach Vorhandensein
einer Ladung auf dem Floating-Gate und der effektiven Vt oder Schwellenspannung
der Speicherzelle. Das Vorhandensein oder Fehlen von Strom über einem
Schwellenwert wird in einem Leseverstärker gelesen und dient zum
Ermitteln des Zustands der Speicherzelle, was zum Lesen eines Werts
von 1 oder 0 führt.
-
Da
aber Speicherzellen immer kleiner werden und die Geschwindigkeit
zunimmt, mit der diese betrieben werden, können Faktoren wie Kapazitanz dazu
führen,
dass der festgestellte Unterschied im Stromfluss zwischen einer
Flash-Speicherzelle
mit einem geladenen Floating-Gate und einer Flash-Speicherzelle
mit einem ungeladenen Floating-Gate sehr gering ist. Der kleinere
Zellenstrom bei höheren
Dichten und größeren kapazitiven
Ladungen in der Bitleitung insbesondere können das schnelle und zuverlässige Ermitteln
des Zustands einer Speicherzelle schwerer machen. Leseverstärker können Probleme
beim Erkennen von Strömen,
die im Mikroamperebereich liegen, vor allem bei Anwendungen, die
mit hohen Geschwindigkeiten und niedrigen Spannungen sowie Strömen betrieben
werden, und beim Verwenden von sehr kleinen Halbleitervorrichtungen
haben.
-
Kurze Beschreibung der Figuren
-
Die 1 stellt
ein Blockdiagramm einer Speichervorrichtung dar, wie sie zum Ausführen verschiedener
Ausführungsbeispiele
der Erfindung verwendet werden kann.
-
Die 2 stellt
eine Flash-Speicherzelle dar, wie sie zum Ausführen verschiedener Ausführungsbeispiele
der Erfindung verwendet werden kann.
-
Die 3 stellt
ein schematisches Diagramm eines Teils eines Flash-Speicher-Array dar, wie
es zum Ausführen
verschiedener Ausführungsbeispiele
der Erfindung verwendet werden kann.
-
Die 4 stellt
ein Blockdiagramm eines Speicherzellen-Leseverstärkers dar gemäß dem Stand
der Technik.
-
Die 5 zeigt
ein Taktdiagramm zur Darstellung eines Flash-Speicherlesezyklus gemäß einem
Ausführungsbeispiel
der Erfindung.
-
Die 6 zeigt
ein Spannung/Zeit-Diagramm zur Darstellung der Selbsttaktung in
einem Leseverstärker
gemäß einem
Ausführungsbeispiel der
Erfindung.
-
Die 7 stellt
ein schematisches Diagramm eines selbsttaktenden Differenzintegrationsverstärkers gemäß einem
Ausführungsbeispiel
der Erfindung dar.
-
8 stellt
die Integrationskondensatorspannung entsprechend dem Referenzzellenstrom Iref
und verschiedenen programmierten und nicht programmierten Speicherzellenströmen Icell
gemäß einem
Ausführungsbeispiel
der Erfindung dar.
-
Ausführliche
Beschreibung
-
In
der folgenden ausführlichen
Beschreibung von Ausführungsbeispielen
der Erfindung wird mit Zeichnungen und Darstellungen Bezug genommen auf
spezifische Ausführungsbeispiele
der Erfindung. Diese Beispiele werden in ausreichender Ausführlichkeit
beschrieben, um Fachleuten in diesem Gebiet das Anwenden der Erfinden
zu ermöglichen,
und dienen zur Darstellung, wie die Erfindung auf verschiedene Zwecke
oder Ausführungsbeispiele
angewendet werden kann. Andere Ausführungsbeispiele der Erfindung
existieren und befinden sich im Umfang der Erfindung und logische,
mechanische, elektrische und andere Änderungen können ohne Abweichen vom Gegenstand
oder Umfang der vorliegenden Erfindung vorgenommen werden. Merkmale
und Einschränkungen
von verschiedenen Ausführungsbeispielen
der hier beschriebenen Erfindung, auch wenn sie wesentlich für die Ausführungsbeispiele sind,
in die sie aufgenommen sind, schränken nicht andere Ausführungsbeispiele
der Erfindung oder die Erfindung als Ganzes ein und jegliche Bezüge auf die Erfindung,
deren Elemente, Betrieb und Anwendung schränken nicht die Erfindung als
Ganzes ein, sondern dienen lediglich zum Definieren dieser Ausführungsbeispiele.
Die folgende ausführliche
Beschreibung schränkt
daher den Umfang der Umfang nicht ein, der ausschließlich durch
die beigefügten
Ansprüche
definiert ist.
-
Die 1 stellt
ein Blockdiagramm eines Flash-Speichers dar, wie er zum Ausführen einiger Ausführungsbeispiele
der Erfindung verwendet werden kann. Der Speicher schließt ein Array
von Flash-Speicherelementen in 101 ein, auf den über einen
Decodierer/Multiplexer 102 zugegriffen wird und der mit
einem Leseverstärker 103 und
einem Ausgabepuffer oder Riegel 104 gekoppelt ist. Im Betrieb werden
die Flash-Speicherelemente durch Koppeln der gelesenen Elementen
mit Bitleitungen über
den Decodierer/Multiplexer 102 gewählt, die wiederum mit dem Leseverstärker 103 gekoppelt
sind. Der gelesene Zustand jedes gelesenen Bits wird dann im Ausgabepuffer 104 verriegelt
oder gepuffert.
-
In
der 2 ist eine typische Flash-Speicherzelle dargestellt.
Auf einem Substrat 203 sind eine Source 201 und
ein Drain 202 ausgebildet, wobei das Substrat aus einem
p- oder n-Halbleitermaterial besteht. Source, Drain und Substrat
sind in einigen Ausführungsbeispielen
aus Silizium mit einem Dotierungsmaterial mit fünfwertigen Elektronen wie Phosphor,
Arsen oder Antimon, um die Elektronenkonzentration im Silizium zu
erhöhen,
oder mit einem Dotierungsmaterial mit dreiwertigen Elektronen wie Bor,
Gallium, Indium oder Aluminium, um die Löcherkonzentration zu erhöhen, ausgebildet.
Dotierungsmaterialien werden in kleinen, kontrollierten Mengen hinzugefügt, um die
gewünschte
Löcher-
oder Elektronenkonzentration im Halbleitermaterial zu erzeugen,
was zu einem n-Material führt,
wenn ein Überschuss
an Elektronen vorhanden ist, wie in Source 201 und Drain 202,
und zu einem p-Material führt, wenn
ein Überschuss
an Löchern
vorhanden ist, wie im Substratmaterial 203.
-
Ein
Isolatormaterial wie Siliziumoxid (SiO2) wird zum Bilden einer Isolierschicht 204 verwendet, in
die ein Floating-Gate 205, hergestellt aus einem Leiter
wie Metall oder Polysilizium, und ein Steuer-Gate 205, ähnlich gebildet
aus einem leitenden Material, eingebettet sind. In einigen Ausführungsbeispielen
ist das Oxid 204, welches das Floating-Gate 205 vom
Substratmaterial 203 trennt, ein hochwertiges Oxid, das
separat vom Rest des Oxids 204 gezüchtet wird. Das Floating-Gate
ist nicht direkt elektrisch mit einem anderen leitenden Element
der Speicherzelle gekoppelt, sondern "schwimmt" im Isoliermaterial 204. In
einem alternativen Beispiel ist das Gate 205 elektrisch
mit einer Steuerleitung GS-gekoppelt.
Hier wird das Floating-Gate von der Region des p-Substratmaterials 203 zwischen
der Source 201 und dem Drain 202 durch eine dünne Isolierschicht
von kontrollierter Dicke, etwa 100 Ångström, getrennt.
-
Im
Betrieb kann das Floating-Gate 205 eine Ladung durch seine
elektrische Isolierung von anderen Komponenten der Speicherzelle
speichern. Das Setzen oder Löschen
eines Ladungswertes am Floating-Gate 205 erfolgt in solchen
Ausführungsbeispielen
wie NAND-Speicher-Arrays über
einen Tunnelungsprozess, bekannt unter der Bezeichnung Fowler-Nordheim-Tunnelung,
in dem Elektronen durch die Oxidschicht, die das Floating-Gate 205 vom
Substrat 203 trennen, tunneln. In einem anderen Beispiel wie
einem NOR-Flash-Array erfolgt das Laden des Floating-Gate über ein
Channel-Hot-Electron-(CHE-)Verfahren, in dem Hochspannung zwischen
dem Gate und dem Drain angelegt wird, um die Energie der Elektronen
zu erhöhen,
die den Kanal passieren. Die meisten Flash-Speicherzellen werden als NOR Flash
oder NAND Flash kategorisiert, je nach der Schaltung, die zum Ausführen von
Schreib-, Lese- und Löschvorgängen verwendet
wird.
-
Zum
Schreiben eines Bits in eine NOR-Flash-Speicherzelle oder Speichern
einer Ladung auf ihrem Floating-Gate mit dem Channel-Hot-Electron-Verfahren
wird die Source 201 geerdet und eine Versorgungsspannung
wie 6 Volt wird am Drain 202 angelegt, was eine Abschnürbedingung
an der Drain-Seite des Substratkanals 203 erzeugt. In einem
Ausführungsbeispiel
wird die Drain-Spannung über
eine zum Identifizieren des zu schreibenden Bits verwendete Bitleitung angelegt. Eine
höhere
Spannung wie etwa 12 Volt wird ebenfalls am Steuer-Gate 206 angelegt,
was die Bildung einer Umkehrregion im p-Substrat durch die Anziehung
von Elektronen durch das positiv geladene Steuer-Gate bewirkt. Der
Spannungsunterschied zwischen Source und Drain in Kombination mit
der Umkehrregion im p-Material führt
zu wesentlichem Elektronenstrom zwischen der Source 201 und
dem Drain 202 durch die Umkehrregion des p-Substrats 203,
so dass die kinetische Energie der Elektronen und das von der Steuer-Gate-Spannung
in 206 erzeugte elektrische Feld zum Übertragen von hoch energetischen
oder "heißen" Elektronen über den Isolator
und auf das Floating-Gate 205 führen. Der Strom, der zwischen
der Source und dem Drain fließt, ist
proportional zur Anzahl der Elektronen, die "heiß" werden, so dass
die Anzahl der "heißen" Elektronen das Produkt
aus Stromfluss und Heißelektroneneffizienz
des Gate ist.
-
NOR-
und NAND-Flash-Speicher können auch
mit Fowler-Nordheim-Tunnelung
beschrieben und gelöscht
werden. In einem Beispiel für
das Programmieren einer Zelle mit Fowler-Nordheim-Tunnelung werden
die Source 201 und der Drain 202 geerdet, während das
Steuer-Gate auf eine hohe Spannung von vielleicht 20 Volt gebracht
wird. Die höhere Gate-Spannung
wird bei Fehlen von "heißen" Elektronen benötigt, die
zwischen der Source und dem Drain der Speicherzelle fließen, um
ein Tunneln von Elektronen vom Substratkanal 103 oder der
Source bzw. dem Drain durch den Isolator 205 auf das Floating-Gate 205 zu
bewirken. Die Elektronen, die durch die isolierende Oxidregion über diesen
Fowler-Nordheim-(F-N-)Mechanismus
tunneln, führen
zu einem negativen elektrischen Feld in der Nähe des Floating-Gate.
-
Das
Floating-Gate nimmt dadurch eine negative Ladung an, die dem Effekt
einer positiven Ladung am Steuer-Gate auf die Region des Substrats 203 zwischen
der Source 201 und dem Drain 202 entgegenwirkt,
was die Schwellenspannung der Speicherzelle erhöht, die auf die Wortleitung
angewendet werden muss, um zu einem Leiten über eine Umkehrregion im p-Substratmaterial 203 zu
führen. Wenn
mit anderen Worten die Spannung der Wortleitung auf eine logische
1 oder Hochspannung wie etwa 5 Volt während eines Lesevorgangs gebracht wird,
schaltet die Zelle wegen der höheren
Schwellenspannung als Resultat von auf dem Floating- Gate 105 während des
Lesevorgangs gespeicherten Elektronen nicht ein. Die am Steuer-Gate
angelegte Lesespannung ist höher
als die Schwellenspannung (Vt) einer gelöschten Speicherzelle, aber
nicht hoch genug, um das Leiten über
eine Umkehrregion des Substrats 203 einer Zelle zu ermöglichen,
die beschrieben wurde.
-
Speicherzellen
wie diejenige von 2 sind typischerweise in Arrays
angeordnet, die über
Wortleitungen und Bitleitungen adressiert werden, wie in der 3 dargestellt.
Die 3 zeigt einen Teil eines AND-Flash-Speicher-Array,
wobei jede der dargestellten Speicherzellen über eine Bitleitung und eine Wortleitung
adressierbar ist.
-
Die
Bitleitung 301 ist mit einer Reihe von Floating-Gate-Speicherzellen 302 gekoppelt,
wie eine parallele Kette von 32 Speicherzellen. Die Reihe von Speicherzellen
ist an der anderen Seite der Reihe mit der Source-Leitung 303 verbunden
und kann selektiv von der Source-Leitung 303 und der Bitleitung 301 durch
Leitungswahltransistoren 304 getrennt werden.
-
Die
Speicherzellen werden in einem Beispiel durch Bereitstellen entsprechender
Spannungen auf den Source- und Bitleitungen der Reihe der zu programmierenden
Zelle und durch Anlegen der entsprechenden Spannung an der Wortleitung
der zu programmierenden Zelle beschrieben. Zum Durchführen eines
Lesevorgangs wird die Wortleitung der gewählten Zelle auf High gebracht,
während
ein Leseverstärker
auf Leitung eines Signals durch die Source- und Bitleitungen der
parallelen Kette von Zellen einschließlich der gewählten Zelle über die Wortleitung
prüft.
In einem ausführlicheren
Beispiel wird eine an der Source-Leitung anliegende Spannung bei
Anlegen einer Lesespannung an der Wortleitung der gelesenen Zelle
nur zur Wortleitung geleitet, wenn die Zelle nicht programmiert
ist.
-
Der
Leseverstärker 102 in
der 1 umfasst in einem Ausführungsbeispiel eine Anzahl
von separaten, mit den verschiedenen Bitleitungen eines Speicher-Array wie dasjenige
in der 3 gekoppelten Verstärkern, so dass die einzelnen
Leseverstärkerelemente
zum Verstärken
des Stromflusses verwendet werden, der in den Bitleitungen vorliegt. Wenn
der Flash-Speicher mit niedrigen Spannungen, hoher Geschwindigkeit
und unter Verwendung sehr kleiner Zellgeometrie betrieben wird,
kann der fließende
Strom relativ klein sein und das schnelle und zuverlässige Erkennen
eines Stromflussunterschieds zwischen einer programmierten und einer
nicht programmierten Flash-Speicherzelle kann schwierig sein.
-
Einige
Systemleseverstärker
lösen dieses Problem
durch Verwenden einer Integrationsschaltung, die eine Ladung vom
empfangenen Stromfluss über
einen gewissen Zeitraum akkumuliert, so dass der über den
gewissen Zeitraum akkumulierte Strom den durchschnittlichen Stromflusswert
während
der Integration anzeigt. Der Integrator ist typischerweise so eingestellt,
dass er eine ausreichende Zeit läuft, um
genügend
Ladung zum zuverlässigen
Anzeigen des Werts des Stromflusses zu akkumulieren, so dass zuverlässig der
Zustand eines Speicherbits durch Akkumulieren von in den Integrator über die Speicher-Array-Bitleitung
fließenden
Strom gelesen werden kann. Der Zeitraum wird oft durch ein Taktsignal,
etwa ein Systemtakt, gesteuert, wie im Beispiel des Stands der Technik
von 4 dargestellt ist.
-
Die 4 zeigt
eine Integrationsschaltung entsprechend dem Stand der Technik. Ein
Zellenstrom 401 fließt
zu einer Integrationsschaltung 402, in welcher der Strom über einen
vom Systemtakt 403 festgelegten Zeitraum akkumuliert wird.
Der Integrator 402 beginnt mit dem Akkumulieren von Ladung
an einem bestimmten Punkt im Systemtakt und läuft für eine Anzahl von Taktübergängen wie
etwa drei Zyklen, bis die Integration abgeschlossen ist, und die akkumulierte
Ladung wird in einem Spannungsnachverarbeitungsmodul 404 verarbeitet,
um zu ermitteln, ob die gelesene Speicherzelle programmiert oder nicht
programmiert ist. Dieser Ansatz hat bestimmte Nachteile, etwa dass
die Zeit in minimalen Einheiten der Hälfte einer Taktperiode definiert
wird, und die Zuverlässigkeit
eines Systemtakts, der einige Taktungsabweichungen in einen Speicherlesezyklus
einbringen kann.
-
Ein
Ausführungsbeispiel
der Erfindung stellt daher eine selbsttaktende Integrationsschaltung
bereit, wie sie zum Lesen des Zustands einer Speicherzelle oder
zum Durchführen
anderer Integrationsfunktionen verwendet werden kann. Dies gewährleistet
eine bessere Kontrolle über
die Integrationszeit, was zu einer möglicherweise schnelleren Ermittlung des
integrierten Signalpegels und zu einer besseren Gesamtsystemleistung
führt.
-
Die 5 zeigt
ein Taktdiagramm zur Darstellung eines Flash-Speicherlesezyklus gemäß einem
Ausführungsbeispiel
der Erfindung. Das Diagramm stellt eine typische Datenlesephase
einschließlich
Adressdekodierung 501, Signalentwicklung und -verarbeitung 502 und
Datenverarbeitung oder -verriegelung 503 dar. Das Diagramm
stellt in relativen Begriffen dar, dass die Signalakkumulation im
Integrator der zeitaufwändigste
Teil des Speicherzellenleseprozesses ist, da relativ niedrige Eingangsströme von der
gelesenen Speicherzelle über
die Bitleitung empfangen werden. Dies zeigt, warum ein Management
der Signalentwicklungszeit zum Reduzieren oder Minimieren der gesamten
Lesezeit und Verbessern der Systemleistung ist.
-
6 zeigt
ein Taktungsdiagramm zur Darstellung eines selbsttaktenden Integrationsverstärkers gemäß einem
Ausführungsbeispiel
der Erfindung. In diesem Beispiel ist für den Integrator ein Referenzzellenstrom
verfügbar
und wird in der Integrationsleseverstärkerschaltung integriert, bis
eine bestimmte Referenzspannung erreicht ist. In diesem Beispiel
startet die Integration am Beginn der Signalentwicklungsstufe 601 und
fährt fort,
bis die Referenzspannung Vstop erreicht ist. Das Erreichen der Referenzspannung
definiert das Ende der Signalentwicklungsstufe und die für die Signalentwicklungsstufe 601 erforderliche
Zeit ist die Zeit, die zum Integrieren der Bitleitungssignale von
der Speicherzelle zum Ermitteln des Zustands der gelesenen Zelle
verwendet wird. Dieses System und dieses Verfahren gewährleisten
eine zuverlässige
Ermittlung der erforderlichen Leseverstärkerintegrationszeit zum Erzeugen
des gewünschten
Ausgabesignals und zum zuverlässigen
Lesen des Zustands einer Speicherzelle oder eines anderen Schwachstromsignals.
-
Die
Referenzspannung Vstop wird mit verschiedenen Kriterien in verschiedenen
Ausführungsbeispielen
der Erfindung ermittelt, einschließlich der Gewährleistung
einer ausreichenden Signalentwicklung in der Integrationsschaltung
und der Bereitstellung eines geeigneten Signals für die Nachverarbeitungsschaltung,
die das integrierte Signal zum Ermitteln des programmierten oder
nicht programmierten Zustands der Speicherzelle verwendet.
-
7 stellt
ein schematisches Diagramm eines selbsttaktenden Integrationsdifferenzverstärkers gemäß einem
Ausführungsbeispiel
der Erfindung dar. Der in der Bitleitung der gelesenen Speicherzelle fließende Strom
wird mit der Schaltung in 701 gekoppelt und zieht Strom
durch den Transistor 702. Die Transistoren 703 und 704 sind
mit einer Spannungsversorgung 705 gekoppelt und bilden
einen Stromspiegel. Der gespiegelte Zellenstrom wird im Integrationskondensator 706 integriert,
der vor jedem Integrationszyklus vom Entladetransistor 707 in
einen ungeladenen Zustand rückgesetzt
wird.
-
An
der anderen Seite der Schaltung ist ein Referenzzellenstromtransistor 708 mit
einer Referenzzelle gekoppelt und leitet den Referenzzellenstrom,
wobei die Referenzzelle an der Schwelle zwischen einer programmierten
und nicht programmierten Flash-Speicherzelle leitet. Die Transistoren 709 und 710 bilden
einen Stromspiegel, der den Referenzzellenstrom zum Integrationskondensator 711 spiegelt.
Der Integrationskondensator wird vom Entladetransistor 712 zwischen
Lesevorgängen
in den ungeladenen Zustand rückgesetzt,
der in einigen Ausführungsbeispielen
vom gleichen Entladesignal gesteuert wird wie der Integratorentladetransistor 707,
um zwischen den Integrationsschaltungen Gleichförmigkeit in den Lade-/Entladecharakteristiken
zu gewährleisten.
-
Die
Schaltung von 7 integriert den in der Bitleitung 701 im
linken Teil der Schaltung vorliegenden Speicherzellenstrom und integriert
den durch eine Referenzzelle im rechten Teil der Schaltung fließenden Strom.
Die Referenzzelle ist so konfiguriert, dass sie beim Schwellenwert
zwischen einem programmierten und einem nicht programmierten Zustand
leitet, und legt den Referenz- oder Schwellenwert zum Ermitteln
des Zustands von anderen Speicherzellen fest. Der Strom Iref der
Referenzzelle wird mit dem von den Transistoren 708, 709 und 710 gebildeten
Stromspiegel gespiegelt, so dass sich der geleitete Strompegel der
Referenzzelle im Transistor 710 widerspiegelt. Dieser Strom
wird ebenfalls in einem vom Kondensator 711 und Transistor 712 gebildeten
Integrator integriert, so dass der Kondensator den als Iref durch
den Transistor 710 fließenden Strom akkumuliert. Die
Kapazitanz des Transistors 712 ist ein Teil der Integrationskapazitanz,
ist aber typischerweise vernachlässigbar
im Vergleich zur Kapazitanz des Integrationskondensators 711.
-
Im
Laufe der Zeit wird der Unterschied zwischen der im Integrationskondensator 711 akkumulierten
Spannung vom Referenzzellenstrom und der im Integrationskondensator 706 akkumulierten
Spannung vom Speicherzellenstrom deutlicher und kann in einer Komparatorschaltung 713 zum
Ermitteln des Zustands der gelesenen Speicherzelle verwendet werden.
Es bleibt aber die Frage, wie lange die Integrationskondensatoren
Ladung akkumulieren müssen,
bevor eine zuverlässige
Auswertung erfolgen kann. Wenn die gewählte Zeit zu kurz ist, ist
die Gültigkeit
des Integratorvergleichs nicht zuverlässig, und wenn die gewählte Zeit
länger
als nötig
ist, wird die Speicherlesezeit unnötig verlängert, was zu einer schlechten
Speicherleistung führt.
-
Dieses
Ausführungsbeispiel
der Erfindung verwendet daher eine Schaltung zum Verfolgen der akkumulierten
Spannung 714 zum Verfolgen der in wenigstens dem Referenzintegrationskondensator 711 oder
dem Speicherzellenkondensator 706 akkumulierten Spannung
und stoppt den Integrationsteil des Lesezyklus, wenn eine definierte
Stoppspannung erreicht ist. In einem solchen Beispiel verfolgt die
Spannungsverfolgungsschaltung 714 die im Integrationskondensator 711 akkumulierte
Spannung, bis die Spannung die Stoppspannung erreicht, wie in Verbindung
mit 6 dargestellt und erläutert. Die jeweiligen Spannungen
vom Integrationskondensator 711 und vom Integrationskondensator 706 werden
dann am Komparator eingespeist, der ein digitales Ausgabesignal
erzeugt, das davon abhängt,
welcher Integrationskondensator eine höhere Spannung während der
Integrationszeit akkumuliert hat. Das Ausgabesignal vom Komparator 713 wird
verriegelt und als der erkannte Ausgabezustand der gelesenen Speicherzelle
bereitgestellt.
-
Die
Genauigkeit der akkumulierten Integrationsspannung hängt nicht
nur von sehr ähnlichen Transistor-
und Kondensatorcharakteristiken ab, sondern auch von anderen Faktoren
wie Entzerrung der Kondensatorspannungen vor Beginn der Integration. Dies
kann in einigen Ausführungsbeispielen über eine
Entzerrerschaltung (nicht dargestellt) erreicht werden, die zum
Koppeln der Kondensatoren miteinander oder zum Koppeln dieser geeignet
ist, so dass das gleiche Potential über jedem Kondensator vorliegt,
bevor die Integration beginnt. In einem Ausführungsbeispiel werden die Transistoren 707 und 712 eingeschaltet,
bis die Integration beginnt, wobei beide Klemmen von beiden Kondensatoren 706 und 711 wirksam
mit der Masse gekoppelt werden, so dass keine Ladung in den Kondensatoren
gespeichert wird.
-
Kondensatorcharakteristiken
wie äquivalenter
Reihenwiderstand und äquivalente
Reiheninduktivität
können
ebenfalls die Reaktion des Kondensators beeinflussen. Ein Minimieren
dieser Parameter unterstützt
den Kondensator beim effizienteren Empfangen einer Ladung, aber
ein Anpassen dieser Parameter zwischen den zwei Kondensatoren ist
vielleicht wichtiger, als dies gewährleistet, dass die Kondensatoren
mit gleicher Geschwindigkeit laden, wenn sie den gleichen Schaltungsbedingungen
ausgesetzt sind. Andere Kondensatorparameter wie dielektrische Absorption
können
zu einem gewissen Grad in sehr empfindlichen Anwendungen insoweit problematisch
sein, als eine dielektrische Absorption bewirkt, dass der Kondensator
etwas Ladung in seinem dielektrischen Material behält, auch
nachdem der Kondensator entladen wurde. Wenn die Kondensatoren 706 und 711 eine
wesentliche dielektrische Absorption aufweisen, kann der Entzerrungs-
oder Entladeprozess ggf. nicht dazu führen, dass beide Kondensatoren
keine Ladung aufweisen, wenn ein Kondensator eine geringe Ladung
durch dielektrische Absorption behalten hat und der andere Kondensator
nicht.
-
Es
können
sich auch die Kapazitanz, der äquivalente
Reihenwiderstand oder andere Charakteristiken von Kondensatoren ändern, wenn
sich die Temperatur des Kondensators ändert. Thermische Schwankungen
von Kondensatorcharakteristiken sind bei Halbleitervorrichtungen
nicht ungewöhnlich, wenn
die Halbleitervorrichtung in Betrieb ist und sich das Substrat oder
das Die, auf dem die Schaltung ausgebildet ist, erwärmt. Obgleich
eine kleine Änderung
der Charakteristiken toleriert werden kann, wenn die Änderung
gleichermaßen
im Referenzkondensator 711 und im Zellenstromkondensator 706 auftritt,
sind Unterschiede in den Charakteristiken zwischen den Kondensatoren
unerwünscht.
Die Kondensatoren werden daher bevorzugt in unmittelbarer Nähe montiert,
etwa in der gleichen integrierten Schaltung oder auf dem gleichen
Substrat, unter Verwendung der gleichen Halbleiterprozesse. Das
Gewährleisten,
dass die Parameter der Kondensatoren genau abgestimmt sind, führt dazu,
dass der Stromfluss von den jeweiligen Stromspiegeln in der 7 sehr
schnell und genau akkumulieren kann, was zu einem sehr schnellen
verwertbaren Ergebnis führt.
-
Ebenso
sind die Charakteristiken der Referenzzelle vorzugsweise ähnlich wie
die Charakteristiken der Speicherzellen im Flash-Speicher-Array.
In einem Ausführungsbeispiel
ist die Referenzzelle eine Speicherzelle, die auf einen Zwischenzustand
oder halbprogrammierten Zustand programmiert ist, und sie definiert
eine Schwelle, wobei ober- oder unterhalb von der Schwelle andere
Speicherzellen als programmiert oder nicht programmiert betrachtet
werden. Hier befindet sich die Schwellenspannung für die Referenzzelle
zwischen den Schwellenspannungen für die gelöschten Zellen und die programmierten Zellen,
um eine schnelle und genaue Ermittlung zu ermöglichen, ob eine Zelle programmiert
oder nicht programmiert ist.
-
In
einem ausführlicheren
Beispiel wird eine Stoppspannung von etwa 0,7 Volt basierend auf
einem prognostizierten Referenzzellenstrom von etwa 10 Mikroampere
und einem Differenzstrom von plus oder minus 1 Mikroampere für eine programmierte oder
nicht programmierte Referenzzelle festgelegt, wie in 8 dargestellt.
In diesem Graph zeigt die Kurve 801, wie der Integrationskondensator 711 von 7 mit
der Zeit ansteigt, wenn ein Strom von etwa 10 Mikroampere durch
die Referenzzelle fließt
und durch den Stromspiegel als Iref gespiegelt wird. In einem Ausführungsbeispiel,
in dem ein Unterschied von plus oder minus 1 Mikroampere zwischen
einer programmierten Zelle und einer nicht programmierten Zelle
im Vergleich zur Referenzzelle vorliegt, wird der Unterschied in
der im Referenzintegrationskondensator 711 und den programmierten
und nicht programmierten Zellen akkumulierten Spannung mit der Zeit
zunehmend deutlicher, wie durch die Kurven 802 und 803 dargestellt.
-
Die
Kurve 802 stellt die im Zellenstromintegrationskondensator 707 vorliegende
Spannung bei einem Speicherzellenbitleitungsstrom von 1 Mikroampere über dem
Referenzzellenstrom dar, was in diesem Beispiel einem Bitleitungsstrom
von 11 Mikroampere im Vergleich zu einem Referenzzellenstrom von
10 Mikroampere entspricht. Der Unterschied in der im Referenzzellenintegrationskondensator 711 und
dem Speicherzellenintegrationskondensator 707 akkumulierten
Spannung überschreitet
nach etwa 3 Nanosekunden 50 mV; zu diesem Zeitpunkt kann der Unterschied
zwischen den im Komparator in 713 vorlegenden Spannungen
sicher als der Zustand der gelesenen Speicherzelle gelesen werden.
Andere Beispiele verwenden einen Unterschied der akkumulierten Spannung
größer oder
kleiner als 50 mV, was typischerweise zu einer von den etwa 0,7
Volt in diesem Beispiel abweichenden Stoppspannung und einer entsprechend
anderen Integrationszeit führt.
-
In
einem anderen Beispiel, in dem der Unterschied zwischen dem nicht
programmierten und programmierten Speicherzellenstrom plus oder
minus 7 Mikroampere im Vergleich zum Referenzzellenstrom von 10
Mikroampere beträgt,
wird ein nutzbarer Ausgabespannungsunterschied von größer als
die in diesem Beispiel gewünschten
50 mV erst nach einem Bruchteil einer Nanosekunde verfügbar. Die
im Speicherzellenintegrationskondensator akkumulierte Spannung,
wenn die Speicherzelle in einem programmierten Zustand ist und 17
Mikroampere leitet, ist in Kurve 804 dargestellt, und die
im Speicherzellenintegrationskondensator akkumulierte Spannung, wenn
die Speicherzelle in einem nicht programmierten Zustand ist und
nur 3 Mikroampere leitet, ist in Kurve 805 dargestellt.
Beide diese Kurven weichen sehr schnell von der im Integrationskondensator
vorliegenden Spannung ab wie in Kurve 801 dargestellt, was
ein schnelles und genaues Erkennen des Zustands der Speicherzelle
mit einer Integrationszeit von einem Bruchteil einer Nanosekunde
und einer Stoppspannung von etwa 0,2 Volt ermöglicht.
-
Obgleich
die beispielhafte Differenzintegrationsleseverstärker-Topologie in 7 zum
Lesen des programmieren Zustand in einem Flash-Speicher-Array verwendet
wird, wenden andere Ausführungsbeispiele
der Erfindung ähnliche
Ausführungsbeispiele der
Erfindung auf andere Anwendungen an, einschließlich andere Sensoren oder
Instrumentierungsvorrichtungen, Kommunikationssysteme und Datenspeichervorrichtungen,
biomedizinische Vorrichtungen und Sensoren und Hochgeschwindigkeits-Analog/Digital-Wandler.
Obwohl hierin bestimmte Ausführungsbeispiele
dargestellt und beschrieben wurden, weiß der Fachmann, dass jede Anordnung,
die den gleichen Zweck, die gleiche Struktur oder die gleiche Funktion
erreicht, statt der dargestellten Ausführungsbeispiele verwendet werden
kann. Diese Anmeldung soll jegliche Adaptionen oder Variationen der
hierin beschriebenen Ausführungsbeispiele
der Erfindung abdecken. Daher soll die Erfindung nur durch die Ansprüche und
den vollen Umfang derer Äquivalente
beschränkt
sein.