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Gebiet der Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Reinigungsmodul, insbesondere
für eine
EUV-Lithographievorrichtung, mit einer Zufuhr für molekularen Wasserstoff und
einem Glühdraht.
Ferner bezieht sich die vorliegende Erfindung auf eine EUV-Lithographievorrichtung
mit einem solchen Reinigungsmodul bzw. auf ein Projektionssystem
und ein Belichtungssystem für
eine EUV-Lithographievorrichtung mit einem solchen Reinigungsmodul.
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Hintergrund und Stand der
Technik
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In
EUV-Lithographievorrichtungen werden zur Lithographie von Halbleiterbauelementen
reflektive optische Elemente für
den extremen ultravioletten (EUV) bzw. weichen Röntgenwellenlängenbereich
(z. B. Wellenlängen
zwischen ca. 5 nm und 20 nm) wie etwa Photomasken oder Mehrlagenspiegel
eingesetzt. Da EUV-Lithographievorrichtungen
in der Regel mehrere reflektive optische Elemente aufweisen, müssen diese
eine möglichst
hohe Reflektivität
aufweisen, um eine hinreichend hohe Gesamtreflektivität sicherzustellen.
Die Reflektivität
und die Lebensdauer der reflektiven optischen Elemente kann durch Kontamination
der optisch genutzten reflektiven Fläche der reflektiven optischen
Elemente, die aufgrund der kurzwelligen Bestrahlung zusammen mit
Restgasen in der Betriebsatmosphäre
entsteht, reduziert werden. Da üblicherweise
in einer EUV-Lithographievorrichtung mehrere reflektive optische
Elemente hintereinander angeordnet sind, wirken sich auch schon
geringere Kontaminationen auf jedem einzelnen reflektiven optischen
Element in größerem Maße auf die
Gesamtreflektivität
aus.
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Insbesondere
die optischen Elemente einer EUV-Lithographievorrichtung können in
situ mit Hilfe von atomaren Wasserstoff gereinigt werden, der sich mit
insbesondere kohlenstoffhaltiger Kontamination zu flüchtigen
Verbindungen umsetzt. Zur Gewinnung des atomaren Wasserstoffs wird
dabei oft molekularer Wasserstoff an einen aufgeheizten Glühdraht geleitet.
Dazu werden für
den Glühdraht
Metalle bzw. Metalllegierungen mit besonders hohem Schmelzpunkt
verwendet. So genannte Reinigungsköpfe aus Wasserstoffzuleitung
und Glühdraht
sind in der Nähe von Spiegeloberflächen angeordnet,
um sie von Kontamination zu reinigen. Die flüchtigen Verbindungen, die sich
bei der Reaktion des atomaren Wasserstoffs mit der insbesondere
kohlenstoffhaltigen Kontamination bilden, werden mit dem normalen
Vakuumsystem abgepumpt.
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Problematisch
ist bei der bisherigen Herangehensweise, dass einerseits die Reinigungsköpfe relativ
nah an den Spiegeln angeordnet sein sollten, um eine hohe Reinigungseffizienz
zu erhalten. Andererseits sind gerade für den EUV- bzw. weichen Röntgenwellenlängenbereich
optimierte reflektive optische Elemente oft wärmeempfindlich. Ein zu hohes Aufwärmen der
Spiegel während
der Reinigung führt zu
einer Verschlechterung ihrer optischen Eigenschaften. Bisher wird
daher eine Spiegelkühlung während der
Reinigung vorgesehen oder das Reinigen als gepulstes Reinigen mit
Abkühlphasen
durchgeführt.
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Zusammenfassung der Erfindung
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Es
ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die bekannten Reinigungsköpfe dahingehend zu
verbessern, dass eine schonendere Reinigung der optischen Elemente
ermöglicht
wird.
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Diese
Aufgabe wird durch ein Reinigungsmodul mit einer Zufuhr für molekularen
Wasserstoff, einer Vorrichtung zum Erzeugen von atomarem Wasserstoff
und einer Ableitung für
atomaren und/oder molekularen Wasserstoff gelöst, bei dem die Ableitung mindestens
eine Krümmung
mit einem Krümmungswinkel
von weniger als 120 Grad aufweist, die Ableitung auf ihrer Innenfläche ein
Material aufweist, das eine geringe Rekombinationsrate für atomaren Wasserstoff
aufweist und die Zufuhr an ihrem der Vorrichtung zum Erzeugen von
atomarem Wasserstoff zugewandten Ende aufgeweitet geformt ist.
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Bevorzugt
wird das Reinigungsmodul in EUV-Lithographievorrichtungen zur Reinigung
von optischen Elementen eingesetzt. Speziell optische Elemente auf
der Grundlage von Mehrlagensystemen sind oft wärmeempfindlich und werden vorteilhafterweise
mit den beschriebenen Reinigungsmodulen gereinigt. Ein weiterer
bevorzugter Einsatzort sind Messstände, in denen zu Testzwecken
die Verhältnisse
innerhalb einer EUV-Lithographievorrichtung
simuliert werden.
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Über die
Ableitung kann der an der Vorrichtung zum Erzeugen von atomarem
Wasserstoff entstandene atomare Wasserstoff, gegebenenfalls zusammen
mit übrigem
molekularen Wasserstoff, von der Vorrichtung zum Erzeugen von atomarem
Wasserstoff auf ein zu reinigendes Objekt geleitet werden. Bevorzugt
ist die Vorrichtung zum Erzeugen von atomarem Wasserstoff als Heizelement,
insbesondere als Glühdraht
ausgebildet. insbesondere bei der Ausbildung als Heizelement oder
Glühdraht
verhindert die Krümmung
der Ableitung eine direkte Sichtlinie vom heißen Heizelement oder Glühdraht auf
das reinigende Objekt. Dadurch wird wirksam der Wärmeeintrag
aufgrund von Strahlung und von Konvektion vom Heizelement oder Glühdraht auf
das zu reinigende Objekt verringert. Die Wahrscheinlichkeit, dass
das zu reinigende Objekt, z. B. ein Spiegel für die EUV-Lithographie während des
Reinigens durch zu großen
Wärmeeintrag
beschädigt
wird, wird dadurch wesentlich reduziert. Auch die Kontamination durch
Abdampfprodukte vom Heizelement oder Glühdraht wird effektiv gemindert.
Gleichzeitig wird durch die spezielle Ausgestaltung der Ableitung
mit einem Material auf ihrer Innenfläche mit einer geringen Rekombinationsrate
für atomaren
Wasserstoff gewährleistet,
das trotz der räumlichen
Trennung der Vorrichtung zum Erzeugen von atomarem Wasserstoff von
dem zu reinigenden Objekt über
die Ableitung eine hinreichende Konzentration an atomaren Wasserstoff
zur Verfügung
gestellt wird, um eine effiziente Reinigung durchführen zu
können.
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Dies
wird auch durch die besondere Ausgestaltung der Zufuhr für molekularen
Wasserstoff unterstützt.
In dem sie an ihrem der Vorrichtung zum Erzeugen von atomarem Wasserstoff
zugewandten Ende aufgeweitet geformt ist, kann sichergestellt werden,
dass der Vorrichtung zum Erzeugen von atomarem Wasserstoff über ihre
gesamte Flächenausdehnung
ein kontinuierlicher Strom an molekularem Wasserstoff zugeleitet
wird, der in atomaren Wasserstoff aufgespalten werden kann. Insbesondere
bei der Ausformung der Vorrichtung zum Erzeugen von atomarem Wasserstoff
als Heizelement oder Glühdraht
wird dadurch die Heizleistung des Heizelements oder Glühdrahtes
effizient genutzt und die Produktionsrate für atomaren Wasserstoff erhöht.
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Die
Verwendung einer Ableitung, um den atomaren Wasserstoff, gegebenenfalls
gemischt mit molekularen Wasserstoff an die zu reinigende Stelle zu
transportieren, hat ferner den Vorteil, dass andere Komponenten,
die ebenfalls keinem zu hohen Wärmeeintrag
ausgesetzt werden sollten oder nicht mit zu hohen Wasserstoffkonzentrationen
in Kontakt kommen sollten, ebenfalls weniger gefährdet sind.
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Ferner
bezieht sich die Erfindung auf eine EUV-Lithographievorrichtung
mit mindestens einem zuvor beschriebenen Reinigungsmodul. Außerdem bezieht
sich die vorliegende Erfindung auf ein Projektionssystem für eine EUV-Lithographievorrichtung bzw.
auf ein Belichtungssystem für
eine EUV-Lithographievorrichtung, die mindestens ein solches Reinigungsmodul
aufweisen.
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Es
sei darauf hingewiesen, dass das Reinigungsmodul sich insbesondere
auch dafür
eignet, Masken für
die EUV-Lithographievorrichtung zu reinigen.
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Kurze Beschreibung der Figuren
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Die
vorliegende Erfindung soll unter Bezugnahme auf ein bevorzugtes
Ausführungsbeispiel
näher erläutert werden.
Dazu zeigen
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1 schematisch
eine Ausführungsform
einer EUV-Lithographievorrichtung
mit erfindungsgemäßen Reinigungsmodulen;
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2 schematisch
eine erste Ausführungsform
eines Reinigungsmoduls;
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3 schematisch
eine zweite Ausführungsform
eines Reinigungsmoduls; und
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4 schematisch
eine spezielle Ausgestaltung der Ausweitung der Wasserstoffzufuhr
und des Glühdrahtes
eines Reinigungsmoduls.
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Ausführliche Beschreibung der Erfindung
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In 1 ist
schematisch eine EUV-Lithographievorrichtung 10 dargestellt.
Wesentliche Komponenten sind das Strahlformungssystem 11,
das Beleuchtungssystem 14, die Photomaske 17 und
das Projektionssystem 20. Die EUV-Lithographievorrichtung 10 wird
unter Vakuumbedingungen betrieben, damit die EUV-Strahlung in ihrem
Inneren möglichst wenig
absorbiert wird.
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Als
Strahlungsquelle 12 kann beispielsweise eine Plasmaquelle
oder auch ein Synchrotron dienen. Die austretende Strahlung im Wellenlängenbereich
von etwa 5 nm bis 20 nm wird zunächst
im Kollimator 13b gebündelt.
Außerdem
wird mit Hilfe eines Monochromators 13a durch Variation
des Einfallswinkels die gewünschte
Betriebswellenlänge
herausgefiltert. Im genannten Wellenlängenbereich sind der Kollimator 13b und
der Monochromator 13a üblicherweise
als reflektive optische Elemente ausgebildet. Kollimatoren sind
häufig
schalenförmig
ausgebildete reflektive optische Elemente, um einen fokussierenden
bzw. kollimierenden Effekt zu erreichen. An der konkaven Fläche findet
die Reflexion der Strahlung statt, wobei zur Reflexion häufig kein
Mehrlagensystem auf der konkaven Fläche verwendet wird, da ein möglichst
breiter Wellenlängenbereich
reflektiert werden soll. Das Herausfiltern eines schmalen Wellenlängenbandes
durch Reflexion geschieht am Monochromator, oft mit Hilfe einer
Gitterstruktur oder eines Mehrlagensystems.
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Der
im Strahlformungssystem 11 in Hinblick auf Wellenlänge und
räumliche
Verteilung aufbereitete Betriebsstrahl wird dann in das Beleuchtungssystem 14 eingeführt. Im
in 1 dargestellten Beispiel weist das Beleuchtungssystem 14 zwei
Spiegel 15, 16 auf, die im vorliegenden Beispiel
als Mehrlagenspiegel ausgestaltet sind. Die Spiegel 15, 16 leiten den
Strahl auf die Photomaske 17, die die Struktur aufweist,
die auf den Wafer 21 abgebildet werden soll. Bei der Photomaske 17 handelt
es sich ebenfalls um ein reflektives optisches Element für den EUV- und
weichen Wellenlängenbereich,
das je nach Herstellungsprozess ausgewechselt wird. Mit Hilfe des Projektionssystems 20 wird
der von der Photomaske 17 reflektierte Strahl auf den Wafer 21 projiziert
und dadurch die Struktur der Photomaske auf ihn abgebildet. Das
Projektionssystem 20 weist im dargestellten Beispiel zwei
Spiegel 18, 19 auf, die im vorliegenden Beispiel
ebenfalls als Mehrlagenspiegel ausgestaltet sind. Es sei darauf
hingewiesen, dass sowohl das Projektionssystem 20 als auch
das Beleuchtungssystem 14 ebenso jeweils nur einen oder
auch drei, vier, fünf
und mehr Spiegel aufweisen können.
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Sowohl
das Strahlformungssystem 11 als auch das Beleuchtungssystem 14 und
das Projektionssystem 20 sind als Vakuumkammern ausgestaltet,
da insbesondere die Mehrlagenspiegel 15, 16, 18, 19 nur
im Vakuum betrieben werden können.
Ansonsten würde
sich auf ihrer reflektiven Fläche
zu viel Kontamination ablagern, die zu einer zu starken Verschlechterung
ihrer Reflektivität
führen
würde.
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Bereits
vorhandene Kontamination kann mit Hilfe von Reinigungsmodulen auf
der Basis vom atomaren Wasserstoff entfernt werden. Wie im in 1 dargestellten
Beispiel sind dazu stellvertretend drei Reinigungsmodule 23, 25, 27 vorgesehen.
Das Reinigungsmodul 23 ragt mit seiner Ableitung 24 in
die Vakuumkammer des Strahlformungssystems 11 hinein, um
Kontamination auf den Monochromator 13a zu entfernen. Das
Reinigungsmodul 27 ragt mit seiner Ableitung 28 in
die Vakuumkammer des Projektionssystems 20 hinein, um die
Oberfläche
des Spiegels 19 zu reinigen. Durch bewegliche Anordnung der
Ableitung 28 lässt
sich das Reinigungsmodul 27 auch für die Reinigung des Spiegels 18 verwenden.
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Es
sei darauf hingewiesen, dass auch im Bereich der Photomaske 17 ein
Reinigungsmodul zu dessen Reinigung angeordnet werden kann.
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Im
Falle des Beleuchtungssystems 14 sind die Spiegel 15, 16 in
einer Kapselung 22 eingeschlossen, die eine Vakuumkammer
mit eigener Mikroumgebung innerhalb der Vakuumkammer des Beleuchtungssystems 14 definiert.
Das Einkapseln der Spiegel 15, 16 hat den Vorteil,
dass kontaminierende Substanzen von außerhalb der Kapselung 22 daran gehindert
werden, bis zu den Spiegeln 15, 16 vorzudringen
und ihre Oberfläche
zu kontaminieren. Außerdem
gelangen kaum Wasserstoffatome, die zu Reinigungszwecken von dem
Reinigungsmodul 25 über
die Ableitung 26 in die Kapselung 22 geleitet werden,
nach außerhalb
der Kapselung 22. Dadurch ist es möglich, im Beleuchtungssystem 14 außerhalb der
Kapselung 22 Komponenten einzusetzen, die Materialien aufweisen,
die eine höhere
Reaktionsrate mit insbesondere atomaren Wasserstoff aufweisen und
ansonsten vom atomaren Wasserstoff angegriffen würden, was zu einer geringeren
Lebensdauer dieser Komponenten führen
würde.
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Es
sei darauf hingewiesen, dass eine Kapselung mit Reinigungsmodul,
wie hier im Zusammenhang mit dem Beleuchtungssystem 14 beschrieben, in
gleicher Weise im Projektionssystem 20 zum Einkapseln eines
oder mehrerer der dortigen Spiegel 18, 19 vorgesehen
sein kann. Ebenso kann auch im Beleuchtungssystem 14 mindestens
ein Reinigungsmodul vorgesehen sein, das wie im Projektionssystem 20 außerhalb
der Vakuumkammer, die das Beleuchtungssystem 14 definiert,
angeordnet sein kann, so dass nur seine Zuleitung in die Vakuumkammer
hineinragt. Ferner können
mehrer Reinigungsmodule für eine
Vakuumkammer vorgesehen sein, die in beliebigen Kombinationen vollständig in
der Vakuumkammer, bis auf die Ableitung außerhalb der Vakuumkammer, ggf.
bis auf die Ableitung außerhalb
einer Kapselung und/oder ggf. vollständig in einer Kapselung angeordnet
sind.
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Es
sei darauf hingewiesen, dass im vorliegenden Beispiel nur drei Reinigungsmodule 23, 25, 27 vorgesehen
sind. Je nach Anforderungen an die Reinigungswirkung können auch
für jedes
einzelne optische Element ein oder mehrere Reinigungsmodule vorgesehen
werden. Im vorliegenden Beispiel sind außerdem die Schutzmodule 23, 25, 27 bis
auf ihre Ableitungen 24, 26, 28 nicht
in derselben Vakuumkammer wie die jeweils zu reinigende Optik angeordnet.
Dies könnte
auch vorgesehen sein. Aber durch eine Anordnung des Teils des Reinigungsmoduls,
der jeweils den Glühdraht
zur Generierung des atomaren Wasserstoffes aufweist, außerhalb
der Vakuumkammer, in der sich unmittelbar das zu reinigende optische
Element befindet, kann deutlicher der Wärmeeintrag über Strahlung und Konvektion
auf das zu reinigende optische Element verringert werden.
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Alle
drei in 1 gezeigten Reinigungsmodule 23, 25, 27 weisen
Ableitungen 24, 26, 28 auf, die mindestens
einmal um höchstens
120 Grad gekrümmt
sind. Im vorliegenden Beispiel sind sie zweifach um etwa 90 Grad
gekrümmt.
Dadurch wird eine direkte Sichtlinie zwischen dem Glühdraht und
dem zu reinigenden optischen Element vermieden und der Wärmeeintrag über Strahlung
und Konvektion vermindert. Ein weiterer Vorteil der Verlagerung
des Teils des Schutzmoduls, der den Glühdraht beinhaltet, liegt darin,
dass auch übrige
Komponenten innerhalb der EUV-Lithographievorrichtung
einem geringeren Wärmeeintrag
ausgesetzt werden. Dies hat z. B. Vorteile für die gesamte mechanische Struktur,
die zur genauen Ausrichtung der Spiegel im Strahlengang notwendig
ist. Es müssen
nun weniger Korrekturen aufgrund von Wärmeausdehnung der mechanischen
Komponenten durchgeführt
werden, was insgesamt zu einer besseren Abbildungscharakteristik der
EUV-Lithographievorrichtung führt.
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Die
Reinigungsmodule 23, 25, 27 können übrigens
auch dafür
genutzt werden, die Vakuumkammer, in die jeweils ihre Ableitung 24, 26, 28 hineinragt,
mit molekularem Wasserstoff zu spülen, wenn grade keine Reinigung
durchgeführt
wird und der jeweilige Glühdraht
daher nicht angeschaltet ist. Über die
Wasserstoffspülung
wird verhindert, dass kontaminierende Substanzen, wie z. B. Kohlenwasserstoffe
an den Kollimator 13b oder den Monochromator 13a bzw.
die EUV-Spiegel 18, 19, 15, 16 kommen und
sich dort als Kontamination auf den optisch genutzten Flächen ablagern.
Die Spülung
kann auch während
des Betriebes der EUV-Lithographievorrichtung 10 durchgeführt werden.
Dabei führt
die EUV-Strahlung dazu, dass ein Teil des molekularen Wasserstoffes
in atomaren Wasserstoff aufgespalten wird, der seinerseits mit bereits
vorhandener Kontamination zu flüchtigen
Verbindungen reagieren kann. Diese werden über die ohnehin für jede Vakuumkammer
vorgesehene Pumpensysteme (nicht dargestellt) abgepumpt.
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Besonders
vorteilhaft ist das Konzept der Wasserstoffspülung, wenn optische Elemente
wie im dargestellten Beispiel die Spiegel 15, 16 des
Beleuchtungssystems 14 in einer separaten Kapselung 22 in
ihrer eigenen Mikroumgebung eingeschlossen sind. Der durch die Ableitung 26 zugeführte Wasserstoff
dient zur Spülung
und gleichzeitig zur Aufrechterhaltung eines Überdruckes gegenüber dem
Bereich außerhalb
der Kapselung von bevorzugt etwa 0,01 mbar bis 0,5 mbar. Der Überdruck
dient dazu, zu verhindern, dass kontaminierende Substanzen in das Innere
der Kapseln 22 eindringen. Um den Überdruck effizient aufrechtzuerhalten,
sind für
die Zuführung von
anderen Gasen wie etwa dem atomaren oder den molekularen Wasserstoff
nur kleine Zuleitungsquerschnitte erlaubt, was durch die Ableitungen
der hier vorgeschlagenen Reinigungsmodule problemlos eingehalten
werden kann. Um den Überdruck
zu steuern, kann bei Bedarf das Verhältnis von molekularem zu atomarem
Wasserstoff durch die Temperatur des Glühdrahtes und den Gasdruck geregelt
werden bzw. in Phasen zwischen zwei Reinigungen der Glühdraht und
damit der atomare Wasserstoff ganz abgeschaltet werden.
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In 2 ist
schematisch der Aufbau eines Reinigungsmoduls für den Einsatz in EUV-Lithographievorrichtungen
oder Messständen,
in denen die Verhältnisse
innerhalb von EUV-Lithographievorrichtungen zu Testzwecken simuliert
werden bzw. vorbereitende Messungen an Komponenten durchgeführt werden,
bevor sie in EUV-Lithographievorrichtungen eingesetzt
werden, dargestellt. Dabei werden die Reinigungsmodule zur Reinigung
beliebiger Komponenten, insbesondere optischer Komponenten wie etwa
u. a. Spiegeln und Masken verwendet.
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In
einem Gehäuse 204 ist
ein Glühdraht 210 angeordnet.
Als Material für
den Glühdraht 210 eignen
sich insbesondere Metalle und Metalllegierungen mit sehr hohem Schmelzpunkt,
so dass der Glühdraht
auf entsprechend hohe Temperaturen aufgeheizt werden kann. Bei hohen
Temperaturen erhöht
sich die Produktionsrate von atomarem Wasserstoff. Der Glühdraht 210 kann
beispielsweise aus Wolfram sein, mit dem sich Temperaturen um ca. 2000°C erreichen
lassen. In das Gehäuse 204 mündet eine
Zufuhr 206 für
die Zufuhr von molekularem Wasserstoff. An ihrem dem Glühdraht 210 zugewandten
Ende weitet sich die Zuleitung 206 auf, so dass der Glühdraht in
seiner gesamten Länge
mit molekularen Wasserstoff beaufschlagt wird und damit seine Heizleistung
für die
Umwandlung von molekularen in atomaren Wasserstoff optimal genutzt wird.
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Von
dem Gehäuse 204 geht
die Ableitung 212 ab, um den atomaren und/oder molekularen Wasserstoff
in die Vakuumkammer 200 zu transportieren, in der das zu
reinigende optische Element 202 angeordnet ist. Die Ableitung 212 ist
mehrfach gekrümmt
mit Krümmungswinkeln
von weniger als 120°C.
Dadurch wird eine direkte Sichtlinie zwischen Glühdraht 210 und zu
reinigendem optischen Element 202 vermieden, die zu einem
erhöhten
Wärmeeintrag
aufgrund von Strahlung und Konvektion führen würde. Auch die Kontamination
der zu reinigenden Fläche
durch Abdampfprodukte vom Glühdraht, z.
B. Wolfram, wird effektiv gemindert.
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Als
zusätzliche
Maßnahme
gegen den unerwünschten
Wärmeeintrag
bei der Reinigung mit atomaren Wasserstoff ist im in 2 dargestellten
Beispiel im direkt an das Gehäuse 204 anschließenden Bereich
der Ableitung 212 eine Kühlung 224 vorgesehen.
Gerade im Bereich der Ableitung 212, der sich in der Nachbarschaft
des Glühdrahtes 210 befindet, kann
das durch die Ableitung 212 transportierte Gas wesentlich
durch die Kühlung 24 abgekühlt werden.
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Um
eine gute Kühlwirkung
zu erreichen, ist die Ableitung 212 im vorliegenden Beispiel
aus Metall. Damit einerseits die Innenfläche der Ableitung nicht vom
atomaren Wasserstoff angegriffen wird und in Hydride umgesetzt wird
und andererseits die Rekombinationsrate des atomaren Wasserstoffes
in molekularen Wasserstoff möglichst
gering ist, ist die Innenfläche
der Ableitung 212 mit einem Material beschichtet, das eine
geringere Kombinationsrate für atomaren
Wasserstoff aufweist. Besonders bevorzugt sind Beschichtungen mit
Polytetrafluorethylen oder mit Phosphorsäure. Besonders niedrige Rekombinationsraten
wurden bei einer Beschichtung mit Siliziumdioxid beobachtet. Auf
Metalloberflächen kann
eine Siliziumdioxidschicht beispielsweise aufgebracht werden, indem
man Perhydropolysilazan als Precursor verwendet und diese Perhydropolysilazanschicht
an Luftatmosphäre
und bei Temperaturen von etwa 130°C
oder mehr oxidieren lässt.
Durch die spezielle Beschichtung der Innenfläche der Ableitung 212 wird
gewährleistet,
dass ein Maximum der am Glühdraht 212 erzeugten
Wasserstoffatome die Strecke durch die Ableitung 212 durchläuft und
der zu reinigenden Oberfläche
des optischen Elementes 202 zugeführt werden kann. Dieser Effekt
wird durch die Kühlung 224 noch
verstärkt.
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Die
Gestalt und die Ausmaße
der Ableitung 212 werden übrigens in Abhängigkeit
der jeweils tatsächlichen
geometrischen Gegebenheiten möglichst so
gewählt,
dass die Ableitung 212 im Bereich der zu reinigenden Fläche mündet, um
die gewünschte
Reinigungswirkung zu erreichen. Auch der oder die Krümmungswinkel
können
in Abhängigkeit
von den geometrischen Gegebenheiten gewählt werden.
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In 3 ist
eine weitere Ausgestaltung eines Reinigungsmoduls beispielhaft dargestellt.
Gegenüber
dem in 2 dargestellten Ausführungsbeispiel unterscheidet
sich das in 3 gezeigte Reinigungsmodul insbesondere
in Bezug auf die Ausgestaltung der Ableitung 312. In dem
in 3 dargestellten Beispiel handelt es sich bei der
Ableitung 312 im Wesentlichen um eine mehrfach gebogene,
doppelwandige und wassergekühlte
Glaskapillare, deren Ausmaße
an die konkreten geometrischen Gegebenheiten angepasst sind. Alternativ
zu Glas kann die Ableitung 312 auch aus Quarz gefertigt
sein. Besonders bevorzugt ist Quarzglas. Sowohl Quarz als auch Glas weisen
eine besonders geringe Rekombinationsrate für atomaren Wasserstoff auf.
Der Bereich zwischen den beiden Wandungen der Ableitung 312 wird
als Kühlung 324 benutzt,
indem dort ein Kühlmedium, bevorzugt
Wasser durchgeleitet wird. Durch die Kühlung des transportierten Gases über einen
wesentlichen Teil der Länge
der Ableitung 312 kann der Wärmeeintrag in das zu reinigende
optische Element 312 während
der Reinigung mit atomaren Wasserstoff besonders gut minimiert werden.
Um die am Glühdraht 310 entstehenden
Wasserstoffatome in möglichst
hohem Umfang durch die Ableitung 312 bis zum zu reinigenden
optischen Element 312 zu bringen, ist die Ableitung 312 an
ihrem dem Glühdraht zugewandten
Ende 314 trichterförmig
aufgeweitet. Dadurch wird die Wahrscheinlichkeit erhöht, dass
ein am Glühdraht 310 entstandenes
Wasserstoffatom den Weg in die Zuleitung 312 findet.
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Eine
weitere Besonderheit des in 3 dargestellten
Beispieles besteht darin, dass die Ableitung 312 an ihrem
in die Vakuumkammer 300 hineinragenden Ende ein Gelenk 316 aufweist,
um das Endstück 318 der
Ableitung 312 beweglich zu gestalten. Indem das Endstück 318 beweglich
relativ zur zu reinigenden Fläche
des optischen Elementes 312 ist, können auch Bereiche des zu reinigenden
optischen Elementes 302 erreicht werden, die sonst abgeschattet
wären.
Es ist nun also eine selektive Reinigung einzelner Flächen bzw.
Flächenelementen
möglich, beispielsweise
in Abhängigkeit
von gemessener oder berechneter lokaler Kontaminationsbelastung.
In einer Weiterentwicklung des in 3 gezeigten
Beispiels kann die Ableitung zusätzlich
verschiebbar ausgestaltet sein, um beispielsweise zu ermöglichen, das
Endstück 318, über das
die zur Reinigung notwendigen Wasserstoffatome zur Verfügung gestellt werden,
in den Strahlengang zu schieben. Dadurch können während der Reinigungsphasen
noch mehr verschiedene Flächenelemente
erreicht werden und unmittelbar mit atomaren Wasserstoff beaufschlagt werden.
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Eine
weitere Fortbildung der hier erläuterten Reinigungsmodule
zur Erhöhung
der Reinigungseffizienz durch Erhöhung der Produktionsrate für atomaren
Wasserstoff ist in 4 dargestellt. Dabei ist der Glühdraht 410 über eine
Fläche
verteilt. Im in 4 dargestellten Beispiel weist
der Glühdraht 410 dazu mehrere
Windungen auf. Angepasst an die vom Glühdraht 410 aufgespannte
Fläche
ist auch die Zuleitung 406 für den molekularen Wasserstoff
flächig aufgeweitet.
Die Aufweitung 408 ist in Art eines Duschkopfes mit einer
Abschlussplatte 402 abgeschlossen. Die Abschlussplatte 422 weist
eine Vielzahl von Öffnungen 422 auf,
durch die der molekulare Wasserstoff durchtritt und auf den Glühdraht 410 zuströmt, wo er
in atomaren Wasserstoff aufgespalten wird. Im Gegensatz zu einer
flächigen
Aufweitung 408 ohne Abschlussplatte 402 hat dies
den Vorteil, dass beim Austritt aus den kleinen Öffnungen 422 die Wasserstoffmoleküle beschleunigt
werden und dadurch zielgerichtet auf den Glühdraht 410 zuströmen.
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- 10
- EUV-Lithographievorrichtung
- 11
- Strahlformungssystem
- 12
- EUV-Strahlungsquelle
- 13a
- Monochromator
- 13b
- Kollimator
- 14
- Beleuchtungssystem
- 15
- erster
Spiegel
- 16
- zweiter
Spiegel
- 17
- Maske
- 18
- dritter
Spiegel
- 19
- vierter
Spiegel
- 20
- Projektionssystem
- 21
- Wafer
- 22
- Kapselung
- 23
- Reinigungsmodul
- 24
- Ableitung
- 25
- Reinigungsmodul
- 26
- Ableitung
- 27
- Reinigungsmodul
- 28
- Ableitung
- 200
- Vakuumkammer
- 202
- optisches
Element
- 204
- Gehäuse
- 206
- Zufuhr
- 208
- Aufweitung
- 210
- Glühdraht
- 212
- Ableitung
- 224
- Kühlung
- 300
- Vakuumkammer
- 302
- optisches
Element
- 304
- Gehäuse
- 306
- Zufuhr
- 308
- Aufweitung
- 310
- Glühdraht
- 312
- Ableitung
- 314
- Aufweitung
- 316
- Gelenke
- 318
- Endstück
- 324
- Kühlung
- 406
- Zufuhr
- 408
- Aufweitung
- 410
- Glühdraht
- 420
- Abschlussplatte
- 422
- Öffnung