WO2020030403A1 - Verfahren zum biegen von hydrogeformten kühleinrichtungen und gebogene, hydrogeformte kühleinrichtungen - Google Patents
Verfahren zum biegen von hydrogeformten kühleinrichtungen und gebogene, hydrogeformte kühleinrichtungen Download PDFInfo
- Publication number
- WO2020030403A1 WO2020030403A1 PCT/EP2019/069415 EP2019069415W WO2020030403A1 WO 2020030403 A1 WO2020030403 A1 WO 2020030403A1 EP 2019069415 W EP2019069415 W EP 2019069415W WO 2020030403 A1 WO2020030403 A1 WO 2020030403A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- cooling device
- cavity
- bending
- cooling
- medium
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D—WORKING OR PROCESSING OF SHEET METAL OR METAL TUBES, RODS OR PROFILES WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D9/00—Bending tubes using mandrels or the like
- B21D9/15—Bending tubes using mandrels or the like using filling material of indefinite shape, e.g. sand, plastic material
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D—WORKING OR PROCESSING OF SHEET METAL OR METAL TUBES, RODS OR PROFILES WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D26/00—Shaping without cutting otherwise than using rigid devices or tools or yieldable or resilient pads, i.e. applying fluid pressure or magnetic forces
- B21D26/02—Shaping without cutting otherwise than using rigid devices or tools or yieldable or resilient pads, i.e. applying fluid pressure or magnetic forces by applying fluid pressure
- B21D26/053—Shaping without cutting otherwise than using rigid devices or tools or yieldable or resilient pads, i.e. applying fluid pressure or magnetic forces by applying fluid pressure characterised by the material of the blanks
- B21D26/059—Layered blanks
Definitions
- the present invention relates to a method for bending hydroformed
- Cooling devices and curved, hydroformed cooling devices relate to a microlithographic projection exposure system comprising at least one curved, hydroformed cooling device.
- Microlithography is used to manufacture microstructured components, such as integrated circuits or LCDs.
- the microlithography process is carried out in a so-called projection exposure system, which is a
- a substrate e.g. a silicon wafer
- lenses are preferably used as optical elements for the DUV area, i.e. at wavelengths of e.g. 193 nm or 248 nm. lenses are preferably used as optical elements for the DUV area.
- mirrors are used as optical elements for the imaging process due to the lack of suitable translucent refractive materials.
- Hydroformed, preferably plate-shaped, cooling devices are used in EUV and DUV projection exposure systems in order to cool and / or thermally shield components in and around the beam path of microlithographic projection exposure systems. So-called mini environments are formed. Under
- Mini environment means a physical separation or encapsulation of a room volume that is defined as critical in order to create defined environmental conditions. So in an EUV projection exposure system, a mini environment can include the following
- the hydroformed, preferably plate-shaped, cooling devices are preferably designed as so-called pillow plates.
- a thinner stainless steel sheet 102 with a thickness of approximately 1-1.5 mm is placed on a thicker stainless steel sheet 104 with a thickness of 3-4 mm and without gaps clamped, for which so-called hold-down devices are used depending on the machine type.
- the material thickness and the material can vary.
- the plate-shaped sheets 102, 104 are then welded to one another at weld seams 106.
- the welding pattern depends on various factors, such as the desired cooling capacity and the desired flow rates of a cooling medium.
- the welding patterns can be designed differently, with a variety of
- FIG. 3 shows a cooling device 100 with barriers 107.
- a targeted cooling medium flow can be generated by means of the barriers 107. All cavities 108 (not visible in FIG. 3) can thus be supplied with the cooling medium in a defined manner. So-called dead water areas can be avoided by these barriers 107.
- inlet and outlet pipes are attached to the pillow plates.
- the connection points are flared and the cooling connections are welded using fiber or TIG (tungsten inert gas) welding.
- Hydroforming forming by pressure using gas, water or similar media
- the thinner sheet 102 is expanded like a pillow by high pressures and the type of medium used. See Figure 1.
- the thicker (lower) sheet 104 does not deform during the process.
- pressures between 30 and 100 bar are necessary in order to form cavities 108 between the upper plate 102 and the lower plate 104.
- FIG. 1 the arrangement of the weld seams 106 determines the shape of the pillow after hydroforming.
- the pillow plates 100 are not bent after hydroforming because the cavities 108 are created by the
- Arrangement of the weld seams 106 are designed in particular as cooling channels 108, by means of which the bending method can close again (see FIG. 4 in this regard).
- the bending radius 114 plays a major role here. The smaller the bending radius 114 has to be selected, the higher the probability that the cooling channels 108 will inadvertently re-emerge
- FIG. 4 a cooling duct 108, which was arranged at the bending point, has closed again due to the bending.
- the thinner sheet 102 and the thicker sheet 104 are in contact with each other again at the bending point.
- the dashed lines show the contours of the Pillow Plate 100 before bending.
- the solid lines show the contours of the Pillow Plate 100 after bending.
- a curved pillow plate with a bending radius smaller than 50 mm cannot be produced directly by hydroforming.
- the direct hydroforming of curved pillow plates is only possible with very large bending radii from 50 mm and larger.
- the direct process requires extremely high pressures.
- Pre-bent pillow plates with radii smaller than 50 mm cannot be hydroformed economically. If one also assumes that pillow plates with a non-cylindrical shape must be produced for use in microlithographic projection exposure systems, negative molds would have to be produced during the
- Hydroforming can be used because the pre-bent pillow plate wants to return to its original state due to the high pressures in the cooling channels.
- high pressure must be used that cracks can occur in the laser weld seams.
- the hydroformed cooling devices are generally only bent after they have been produced.
- the elements to be cooled must be enclosed at least in some areas by the hydroformed cooling devices. Due to the limited space in microlithographic
- the curved hydroformed cooling devices must have narrow bending radii of less than 100 mm, in particular up to 5 mm.
- the cavities can be filled with sand.
- the sand in the cavity ensures that the hydroformed areas do not contract again and that unwanted barriers for the cooling medium arise. Because the cavities have a lot of gaps due to that
- Laser welding and hydroforming means that cleaning and removing the grains of sand from the cooling circuit is not 100% possible. There is a great risk that these enclosed grains of sand will cause other circuits with smaller cross-sections to be added during operation of the pillow plates, or that filters will become contaminated with the grains of sand.
- the use of an oil mixture as the cooling medium is also problematic, since the risk of contamination would be very great and the oil mixture could only be removed from the cooling channels of the cooling device without any residues with considerable effort.
- this object is achieved by a method for bending a cooling device for microlithographic projection exposure systems with the following steps: provision of the cooling device, which has at least one cavity, in particular a non-curved one;
- the cooling device in such a way that the at least partially solidified medium prevents the cavity from being closed during bending, in particular due to its opposing forces.
- the at least one cavity is produced by hydroforming. This is particularly advantageous since the pillow-like pillow plates can be produced particularly easily by hydroforming.
- the number and arrangement of the cavities are set via the number and arrangement of the weld seams.
- a bending radius of less than 100 mm, preferably less than 50 mm, is maintained during bending. This is particularly advantageous since, for the use of the cooling device in microlithographic projection exposure systems, small bending radii from less than 50 mm to only 5 mm are necessary due to the limited installation space.
- the cryogenic medium has a mixture of water and at least one active component and / or a solution of at least one active component in water.
- the active component contains at least one surfactant, in particular secondary alcohol ethoxylate, and / or at least one salt, in particular
- the aforementioned cryogenic medium is advantageous over the use of pure water, since the liquid cryogenic medium solidifies when cooling down due to the action of the active component in ice crystals with a smaller grain size than when cooling down, in particular pure, deionized water.
- the solidified cryogenic medium is more plastically deformable than frozen pure, deionized water.
- the solidified cryogenic medium breaks into smaller fragments than frozen pure water, in particular frozen pure, deionized water, when the cooling device is bent.
- the active component has secondary alcohol ethoxylate, potassium phosphate, sodium silicate and at the same time sodium salt in a total amount of 15 grams per liter of mixture.
- the cooling device is cooled down by immersion in liquefied gas, in particular in liquid nitrogen. This is advantageous because the
- Cooling device with the cryogenic medium cools down very quickly and the cryogenic medium solidifies uniformly.
- the bending takes place along a bending device.
- Bending device can be a bending machine, that is, a forming machine tool.
- the cooled cooling device comprising the solidified cryogenic medium, is in the Bending machine bent from its original shape around a fitting.
- the desired bending radius can be set by selecting the fitting.
- the cooling device filled with the solidified cryogenic medium is heated in such a way that the cryogenic medium liquefies again and the liquefied cryogenic medium can be removed from the at least one cavity in the cooling device at least almost without residue.
- the cooling medium preferably the cooling water, can flow particularly well through the cooling channels.
- the above-mentioned object is also achieved by a curved, hydroformed, at least one cavity cooling device, produced by the aforementioned method.
- the cooling device has two or more cavities which are connected to one another. This is particularly advantageous since the pillow-like structure of the cooling device is formed by the plurality of cavities. The cooling medium can flow through the entire cooling device evenly due to the pillow-like structure.
- the at least one cavity is formed by two sheets welded together, in particular by a thinner sheet and a thicker sheet.
- the side of one of the sheets, in particular the thicker sheet, facing a beam path in the microlithographic projection exposure system is corrugated. This is particularly advantageous since the fluting reduces the spread of scattered light in the beam path.
- the bending radius is less than about 100 mm, preferably less than about 50 mm. This is advantageous since the curved pillow plates with such small bending radii also with the very limited installation space in microlithographic
- Projection exposure systems can be used.
- the cooling device is for cooling and / or thermal
- microlithographic projection exposure system arranged. This is advantageous because thereby defined environments can be created in the sense of the aforementioned mini environments.
- the above-mentioned object is also achieved by a microlithographic projection exposure system with an illumination device and a
- Projection objective solved wherein the projection exposure system has at least one curved hydroformed cooling device.
- Figure 1 shows a schematic representation of a section of an unbent
- Cooling device in a sectional view from the prior art.
- Figure 2 shows a schematic representation of an unbent cooling device in plan view from the prior art.
- Figure 3 shows a schematic representation of an unbent cooling device in plan view from the prior art.
- Figure 4 shows a schematic representation of a section of a curved
- Cooling device in sectional view with added cavity in the area of the bend.
- FIG. 5 shows a schematic illustration of a section of a curved cooling device according to the invention in a sectional view with a cavity in the region of the bend, the cavity being filled with a solidified cryogenic medium.
- FIG. 6 shows a schematic illustration of a section of a curved cooling device according to the invention in a sectional view with a cavity in the region of the bend, the cavity being freed from the cryogenic medium.
- FIG. 7 shows a further schematic illustration of a section of a
- Curved cooling device in a sectional view with a cavity in the region of the bend, the cavity being freed from the cryogenic medium.
- FIG. 8 shows the process steps for producing a curved cooling device according to the invention.
- FIG. 9 shows an EUV system which has several curved cooling devices according to the invention.
- FIG. 10 shows a DUV system which can have curved cooling devices according to the invention.
- FIGS 1, 2 and 3 show schematic representations of essentially unbent cooling devices 100 from the prior art. These figures have already been described in more detail in the introduction to the description.
- Figure 4 shows a schematic representation of a section of a curved
- Cooling device 100 wherein the cooling device 100 was not filled with a cryogenic medium 110 before bending.
- the bending radius 114 is in the range from 100 mm to 5 mm.
- the solid lines show the contours of the cooling device 100 after the bending.
- the dashed lines show the contours of the cooling device 100 before bending. It can be seen that the cavity 108 has at least partially clogged in the curved region.
- the cooling medium not shown in the figures, preferably the cooling water, can no longer flow in this added area.
- Figure 5 shows a schematic representation of a section of a curved
- Cooling device 100 wherein the cooling device 100 had been filled according to the invention with a cryogenic medium 110 before bending.
- the cryogenic medium 110 has solidified and also keeps the cavity 108 open in the bent region when it is bent.
- the bending radius 114 is in the range from 100 mm to 5 mm.
- Figure 6 shows a schematic representation of a section of the curved
- the cryogenic medium 110 has been removed.
- the cavity 108 is also open in the curved area.
- the bending radius 114 is in the range from 100 mm to 5 mm.
- Figure 7 shows a schematic representation of a section of the curved
- Cooling device 100 from FIG. 6 the side of the thicker sheet 104 facing a beam path in the microlithographic projection exposure system is provided with a corrugation 112 in FIG.
- FIG. 8 shows the method for producing a cooling device 100 according to the invention.
- the essentially unbent cooling device 100 having at least one cavity 108 is provided.
- the at least one cavity 108 was produced by hydroforming.
- This unbent cooling device 100 is shown in FIGS. 1, 2 and 3, which were described in more detail in the introduction to the description.
- the at least one cavity 108 is filled with a liquid, cryogenic medium 110, at least in an area of the cooling device 100 that is to be bent.
- the cooling device 100 is cooled down in such a way that the cryogenic medium 110 located in the cavity 108 cools below its melting temperature and at least partially solidifies in the process.
- the cryogenic medium 110 is a mixture of water and at least one active component and / or a solution of at least one active component in water, the active component being at least one surfactant, in particular secondary alcohol ethoxylate, and / or at least one salt, in particular potassium phosphate, sodium silicate or sodium salt having.
- the cooling device 100 is cooled down by immersion in liquefied gas, in particular in liquid nitrogen.
- the cooling device 100 is bent.
- the at least partially solidified cryogenic medium 110 prevents the cavity 108 from being closed during bending.
- the curved cooling device 100 filled with the at least partially solidified cryogenic medium 110 is heated such that the cryogenic medium 110 liquefies again and the liquefied cryogenic medium 100 at least almost
- Telescope mirror 305 and a second telescope mirror 306 arranged.
- a grazing incidence mirror 307 is arranged in the light path, which directs the radiation striking it onto an object field in the object plane of a projection objective comprising six mirrors 351-356.
- a reflective structure-bearing mask 321 is arranged on a mask table 320, which is imaged with the aid of the projection objective in an image plane in which a substrate 361 coated with a light-sensitive layer (photoresist) is located on a wafer table 360.
- the force frame 380 which essentially carries the mirrors of the projection objective, and the sensor frame 370, which essentially serves as a reference for the position of the mirrors of the projection objective, are shown roughly schematically.
- Some curved pillow plates 100 which essentially enclose the EUV beam path, are shown as examples. The bending of the pillow plates 100 is not shown in FIG. 9 for reasons of clarity.
- DUV stands for "deep ultraviolet” (deep ultraviolet, DUV) and denotes a wavelength of the working light between 30 and 250 nm.
- the DUV projection exposure system 400 has a DUV light source 406.
- An ArF excimer laser for example, can be provided as the DUV light source 406
- Radiation 408 in the DUV range is emitted at 193 nm, for example.
- the beam shaping and illuminating device 402 shown in FIG. 10 directs the DUV radiation 408 to a photomask 420.
- the photomask 420 is designed as a transmissive optical element and can be arranged outside the beam shaping and illuminating device 402 and the projection objective 404.
- the photomask 420 has a structure which is imaged on the wafer 424 or the like, reduced in size by means of the projection objective 404.
- the projection objective 404 has a plurality of lenses 428, 440 and / or mirrors 430 for imaging the photomask 420 on the wafer 424.
- Individual lenses 428, 440 and / or mirrors 430 of the projection objective 404 can be arranged symmetrically to the optical axis 426 of the projection objective 404.
- the number of lenses and mirrors of the DUV projection exposure system 400 are not as shown Number is limited. More or fewer lenses and / or mirrors can also be provided.
- the mirrors are usually curved on their front for beam shaping.
- An air gap between the last lens 440 and the wafer 424 can be replaced by a liquid medium 432, which has a refractive index> 1.
- the liquid medium 432 can be high-purity water, for example. Such a structure is also called
- Immersion lithography denotes and has an increased photolithographic resolution.
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Biegen einer Kühleinrichtung für mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlagen mit den Schritten: - Bereitstellen der mindestens einen Hohlraum (108) aufweisenden, insbesondere ungebogenen, Kühleinrichtung (100); - Befüllen des mindestens einen Hohlraums (108) mit einem flüssigen kryogenen Medium (110) zumindest in einem zu biegenden Bereich der Kühleinrichtung (100); - Herabkühlen der Kühleinrichtung (100) derart, dass das sich im Hohlraum (108) befindliche Medium (110) unter seine Schmelztemperatur abkühlt und hierbei zumindest teilweise erstarrt; - Biegen der Kühleinrichtung (100) derart, dass das zumindest teilweise erstarrte Medium (110) ein Verschließen des Hohlraumes (108) beim Biegen verhindert.
Description
Verfahren zum Biegen von hydrogeformten Kühleinrichtungen und gebogene, hydrogeformte Kühleinrichtungen
Hintergrund der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Biegen von hydrogeformten
Kühleinrichtungen und gebogene, hydrogeformte Kühleinrichtungen. Zudem betrifft die Erfindung eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage aufweisend mindestens eine gebogene, hydrogeformte Kühleinrichtung.
Mikrolithographie wird zur Herstellung mikro strukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise oder LCDs, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt, welche eine
Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv aufweist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) wird hierbei mittels des
Projektionsobjektiv auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (=Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z.B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
In für den DUV-Bereich ausgelegten Projektionsobjektiven, d.h. bei Wellenlängen von z.B. 193 nm bzw. 248 nm, werden vorzugsweise Linsen als optische Elemente für den
Abbildungsprozess verwendet.
In für den EUV-Bereich ausgelegten Projektionsobjektiven, d.h. bei Wellenlängen von z.B. etwa 13 nm oder 7 nm, werden mangels Verfügbarkeit geeigneter lichtdurchlässiger refraktiver Materialien Spiegel als optische Elemente für den Abbildungsprozess verwendet.
In EUV- und DUV-Projektionsbelichtungsanlagen werden hydrogeformte, vorzugsweise plattenförmige, Kühleinrichtungen eingesetzt, um Komponenten im und um den Strahlengang von mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlagen zu Kühlen und/oder thermisch Abzuschirmen. Hierbei werden sogenannte Minienvironments gebildet. Unter
Minienvironment versteht man eine physikalische Abtrennung oder Kapselung eines als kritisch festgelegten Raumvolumens, um definierte Umweltbedingungen herzustellen. So
kann in einer EUV- Projektionsbelichtungsanlage ein Minienvironment u.a. folgende
Aufgaben/Funktionen haben:
-Abschirmung des sogenannten Sensorrahmens vor Wärme, die von Streulicht, den Spiegel- Aktuatoren, den Sensoren und/oder dem erwärmten Wasserstoff im System stammt.
-Einhausung des Strahlengangs zum Kontaminationsschutz von optischen Flächen, insbesondere von Spiegeln.
Die hydrogeformten, vorzugsweise plattenförmigen, Kühleinrichtungen sind vorzugsweise als sogenannte Pillow Plates ausgebildet. Die Begriffe hydrogeformte, vorzugsweise
plattenförmige, Kühleinrichtung und Pillow Plate werden im Folgenden synonym verwendet. Die Herstellung von Pillow Plates ist aus dem Stand der Technik bekannt und wird deshalb im Folgenden an Hand der Figuren 1, 2 und 3 nur kurz beschrieben:
Typischerweise (siehe hierzu auch Figur 1) wird für die Herstellung von einseitig profilierten Pillow Plates 100 ein dünneres Edelstahlblech 102 mit einer Stärke von ca. 1-1,5 mm auf ein dickeres Edelstahlblech 104 mit einer Stärke von 3-4 mm gelegt und spaltfrei verspannt, wozu je nach Maschinentyp sogenannte Niederhalter verwendet werden. Je nach Anwendung können die Materialstärken und auch der Werkstoff variieren. Anschließend werden die plattenförmigen Bleche 102, 104 an Schweißnähten 106 miteinander verschweißt. Hierbei ist das Schweißmuster abhängig von verschiedenen Faktoren, wie zum Beispiel von der gewünschten Kühlleistung und den gewünschten Durchflussmengen eines Kühlmediums. Die Schweißmuster können unterschiedlich ausgelegt werden, wobei eine Vielzahl von
Variationen möglich ist. So ist in Figur 2 ein einfaches regelmäßiges Schweiß muster gezeigt. Die runden Schweißnähte 106 verschweißen das obere Blech 102 mit dem unteren Blech 104 (in Figur 2 nicht erkennbar) und sorgen für die benötigte Druckstabilität im Betrieb. Die Anordnung der Schweißnähte 106 bedingt in wie weit sich Hohlräume 108, insbesondere Kühlkanäle, Hydroformen (siehe nächster Absatz) lassen. Figur 3 zeigt eine Kühleinrichtung 100 mit Barrieren 107. Mittels der Barrieren 107 kann ein gezielter Kühlmediumstrom erzeugt werden. Alle Hohlräume 108 (in Figur 3 nicht erkennbar) können so definiert mit dem Kühlmedium versorgt werden. Sogenannte Totwasserbereiche können durch diese Barrieren 107 vermieden werden.
Nach dem Schweißvorgang werden Ein- und Auslassrohre an die Pillow Plates angebracht. Hierzu werden die Anschlussstellen aufgebördelt und die Kühlanschlüsse mittels Faser- oder WIG (Wolfram-Inert-Gas)-Schweißen verschweißt. Anschließend wird mittels dem sog.
Hydroformen (Umformung durch Druck mittels Gas, Wasser oder ähnlichen Medien) die Kühlkanalgeometrie erzeugt. Während des Hydroformens wird durch hohe Drücke und durch die Art des verwendeten Mediums das dünnere Blech 102 kissenartig aufgeweitet. Siehe hierzu Figur 1. Das dickere (Unter-) Blech 104 verformt sich während des Vorgangs nicht. Je nachdem welches Schweißmuster verwendet wird, sind Drücke zwischen 30 und 100 bar notwendig, um Hohlräume 108 zwischen dem oberen Blech 102 und dem unteren Blech 104 auszubilden. In der Figur 1 kann man erkennen, dass die Anordnung der Schweißnähte 106 die Kissenform nach dem Hydroformen bedingt. Im Allgemeinen werden die Pillow Plates 100 nach dem Hydroformen nicht gebogen, da sich die Hohlräume 108, die durch die
Anordnung der Schweißnähte 106 insbesondere als Kühlkanäle 108 ausgebildet sind, durch das Biegeverfahren wieder verschließen können (siehe hierzu Figur 4). Hierbei spielt der Biegeradius 114 eine große Rolle. Je kleiner der Biegeradius 114 gewählt werden muss, desto höher ist die Wahrscheinlichkeit, dass sich die Kühlkanäle 108 ungewollt wieder
verschließen. In der Figur 4 hat sich ein Kühlkanal 108, der an der Biegestelle angeordnet war, durch das Biegen wieder verschlossen. Das dünnere Blech 102 und das dickere Blech 104 sind an der Biegestelle wieder in Kontakt miteinander. Die gestrichelten Linien zeigen die Konturen der Pillow Plate 100 vor dem Biegen. Die durchgezogenen Linien zeigen die Konturen der Pillow Plate 100 nach dem Biegen.
Eine gebogene Pillow Plate mit einem Biegeradius kleiner 50 mm lässt sich nicht direkt durch Hydroformen herstellen. Das direkte Hydroformen von gebogenen Pillow Plates ist erst mit sehr großen Biegeradien ab 50 mm und größer möglich. Zudem erfordert das direkte Verfahren extrem hohe Drücke. Vorgebogene Pillow Plates mit Radien kleiner 50 mm lassen sich gar nicht wirtschaftlich Hydroformen. Geht man zudem davon aus, dass für den Einsatz in mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlagen Pillow Plates mit einer nicht zylindrischen Form hergestellt werden müssen, müssten Negativformen während des
Hydroformens verwendet werden, da sich die vorgebogene Pillow Plate durch die hohen Drücke in den Kühlkanälen in den Ursprungszustand zurückbewegen möchte. Beim direkten Hydroformen gebogener Pillow Plates muss zudem ein derart hoher Druck verwendet werden, dass es zu Rissen in den Laserschweißnähten kommen kann.
Auf Grund der vorgenannten Probleme werden die hydrogeformten Kühleinrichtungen im Allgemeinen erst nach ihrer Herstellung gebogen. Die zu kühlenden Elemente müssen zumindest bereichsweise von den hydrogeformten Kühleinrichtungen umschlossen werden.
Auf Grund des eingeschränkten Bauraumes in mikrolithographischen
Projektionsbelichtungsanlagen müssen die gebogenen hydrogeformten Kühleinrichtungen enge Biegeradien kleiner 100 mm, insbesondere bis zu 5 mm, aufweisen.
Um beim Biegen der Kühleinrichtungen die hydrogeformten Hohlräume offen zu halten, kann man die Hohlräume mit Sand füllen. Der Sand im Hohlraum sorgt beim Biegen dafür, dass sich die hydrogeformten Bereiche nicht wieder zuziehen und ungewollte Barrieren für das Kühlmedium entstehen. Da die Hohlräume sehr viele Spalte bedingt durch das
Laserschweißen und das Hydroformen aufweisen, ist das Reinigen und Entfernen der Sandkörner aus dem Kühlkreislauf nicht zu 100% möglich. Die Gefahr, dass durch diese eingeschlossenen Sandkörner im Betrieb der Pillow Plates andere Kreisläufe mit kleineren Querschnitten zugesetzt werden oder auch dass Filter mit den Sandkörnern kontaminiert werden, ist sehr groß. Auch die Verwendung eines Ölgemisches als Kühlmedium ist problematisch, da die Kontaminationsgefahr sehr groß wäre und das Ölgemisch nur mit erheblichem Aufwand wieder rückstandsfrei aus den Kühlkanälen der Kühleinrichtung entfernt werden könnte.
Angesichts der oben beschriebenen Probleme stellt sich die Aufgabe, ein Verfahren zum Biegen einer hydrogeformten Kühleinrichtung und eine gebogene hydrogeformte
Kühleinrichtung zur Verfügung zu stellen, die die oben genannten Probleme lösen.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch ein Verfahren zum Biegen einer Kühleinrichtung für mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlagen mit den folgenden Schritten gelöst: -Bereitstellen der mindestens einen Hohlraum aufweisenden, insbesondere ungebogenen, Kühleinrichtung ;
-Befüllen des mindestens einen Hohlraums mit einem flüssigen kryogenen Medium zumindest in einem zu biegenden Bereich der Kühleinrichtung;
-Herabkühlen der Kühleinrichtung derart, dass das sich im Hohlraum befindliche Medium unter seine Schmelztemperatur abkühlt und hierbei zumindest teilweise erstarrt;
-Biegen der Kühleinrichtung derart, dass das zumindest teilweise erstarrte Medium insbesondere durch dessen Gegenkräfte ein Verschließen des Hohlraumes beim Biegen verhindert.
In einer Ausführungsform wird der mindestens eine Hohlraum durch Hydroformen hergestellt. Dies ist besonders vorteilhaft, da sich durch Hydroformen die kissenartigen Pillow Plates besonders einfach herstellen lassen. Die Anzahl und die Anordnung der Hohlräume werden über die Anzahl und die Anordnung der Schweißnähte eingestellt.
In einer Ausführungsform wird beim Biegen ein Biegeradius von weniger als 100 mm, vorzugsweise von weniger als 50 mm, eingehalten. Dies ist besonders vorteilhaft, da für den Einsatz der Kühleinrichtung in mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlagen auf Grund des begrenzten Bauraums kleine Biegeradien von unter 50 mm bis hin zu nur 5 mm notwendig sind.
In einer Ausführungsform weist das kryogene Medium ein Gemisch aus Wasser und mindestens einer aktiven Komponente und/oder eine Lösung mindestens einer aktiven Komponente in Wasser auf. Dabei enthält die aktive Komponente mindestens ein Tensid, insbesondere Sekundäralkoholethoxylat, und/oder mindestens ein Salz, insbesondere
Kaliumphosphat, Natriumsilikat oder Natriumsalz. Das vorgenannte kryogene Medium ist gegenüber dem Einsatz von reinem Wasser vorteilhaft, da das flüssige kryogene Medium beim Herabkühlen durch die Wirkung der aktiven Komponente in Eiskristalle mit kleinerer Korngröße erstarrt als beim Herabkühlen von insbesondere reinem, deionisierten Wasser. Das erstarrte kryogene Medium ist besser plastisch verformbar als gefrorenes reines, deionisiertes Wasser. Das erstarrte kryogene Medium zerbricht beim Biegen der Kühleinrichtung in kleinere Bruchstücke als gefrorenes reines Wasser, insbesondere gefrorenes reines, deionisiertes Wasser. In einer besonders bevorzugten Ausführungsform weist die aktive Komponente Sekundäralkoholethoxylat, Kaliumphosphat, Natriumsilikat und zugleich Natriumsalz in einer Gesamtmenge von 15 Gramm pro Liter Gemisch auf.
In einer Ausführungsform erfolgt das Herabkühlen der Kühleinrichtung durch Eintauchen in verflüssigtes Gas, insbesondere in Flüssigstickstoff. Dies ist vorteilhaft, da sich die
Kühleinrichtung mit dem kryogenen Medium sehr schnell abkühlt und das kryogene Medium hierbei gleichmäßig erstarrt.
In einer Ausführungsform erfolgt das Biegen entlang einer Biegevorrichtung. Die
Biegevorrichtung kann eine Biegemaschine sein, also eine umformende Werkzeugmaschine. Die herabgekühlte Kühleinrichtung, aufweisend das erstarrte kryogene Medium, wird in der
Biegemaschine aus seiner Ursprungsform um ein Formstück gebogen. Durch die Wahl des Formstücks kann der gewünschte Biegeradius eingestellt werden.
In einer Ausführungsform wird nach dem Schritt des Biegens die mit dem erstarrten kryogenen Medium befüllte Kühleinrichtung derart erwärmt, daß das kryogene Medium sich wieder verflüssigt und das verflüssigte kryogene Medium zumindest nahezu rückstandsfrei aus dem mindestens einen Hohlraum in der Kühleinrichtung entfernt werden kann. Dies ist vorteilhaft, da in der Folge beim Einsatz der Pillow Plates das Kühlmedium, vorzugsweise das Kühlwasser, die Kühlkanäle besonders gut durchströmen kann.
Erfindungsgemäß wird die eingangs genannte Aufgabe auch durch eine gebogene, hydrogeformte, mindestens einen Hohlraum aufweisende Kühleinrichtung, hergestellt nach dem vorgenannten Verfahren, gelöst.
In einer Ausführungsform weist die Kühleinrichtung zwei oder mehr Hohlräume auf, die untereinander in Verbindung stehen. Dies ist besonders vorteilhaft, da durch die Mehrzahl der Hohlräume die kissenartige Struktur der Kühleinrichtung gebildet wird. Das Kühlmedium kann durch die kissenartige Struktur die gesamte Kühleinrichtung gleichmäßig durchströmen.
In einer Ausführungsform ist der mindestens eine Hohlraum durch zwei miteinander verschweißte Bleche, insbesondere durch ein dünneres Blech und ein dickeres Blech gebildet. Die einem Strahlengang in der mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage zugewandte Seite eines der Bleche, insbesondere des dickeren Blechs, ist geriffelt. Dies ist besonders vorteilhaft, da durch die Riffelung die Ausbreitung von Streulicht im Strahlengang reduziert wird.
In einer Ausführungsform ist der Biegeradius kleiner als etwa 100 mm, vorzugsweise kleiner als etwa 50 mm. Dies ist vorteilhaft, da die gebogenen Pillow Plates mit derart kleinen Biegeradien auch bei dem stark begrenzten Bauraum in mikrolithographischen
Projektionsbelichtungsanlagen verwendet werden können.
In einer Ausführungsform ist die Kühleinrichtung zur Kühlung und/oder thermischen
Abschirmung von Komponenten im und/oder um einen Strahlengang in der
mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage angeordnet. Dies ist vorteilhaft, da
dadurch definierte Umgebungen im Sinne der vorgenannten Minienvironments geschaffen werden können.
Erfindungsgemäß wird die eingangs genannte Aufgabe auch durch eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit einer Beleuchtungseinrichtung und einem
Projektionsobjektiv gelöst, wobei die Projektionsbelichtungsanlage mindestens eine gebogene hydrogeformte Kühleinrichtung aufweist.
Kurze Beschreibung der Figuren
Verschiedene Ausführungsbeispiele werden im Folgenden anhand der Figuren näher erläutert. Die Figuren und die Größenverhältnisse der in den Figuren dargestellten Elemente
untereinander sind nicht als maßstäblich zu betrachten. Vielmehr können einzelne Elemente zur besseren Darstellbarkeit und zum besseren Verständnis übertrieben groß oder verkleinert dargestellt sein.
Figur 1 zeigt eine schematische Darstellung eines Ausschnittes einer ungebogenen
Kühleinrichtung in Schnittansicht aus dem Stand der Technik.
Figur 2 zeigt eine schematische Darstellung einer ungebogenen Kühleinrichtung in Draufsicht aus dem Stand der Technik.
Figur 3 zeigt eine schematische Darstellung einer ungebogenen Kühleinrichtung in Draufsicht aus dem Stand der Technik.
Figur 4 zeigt eine schematische Darstellung eines Ausschnittes einer gebogenen
Kühleinrichtung in Schnittansicht mit zugesetztem Hohlraum im Bereich der Biegung.
Figur 5 zeigt eine schematische Darstellung eines Ausschnittes einer erfindungsgemäßen, gebogenen Kühleinrichtung in Schnittansicht mit einem Hohlraum im Bereich der Biegung, wobei der Hohlraum mit einem erstarrten kryogenem Medium gefüllt ist.
Figur 6 zeigt eine schematische Darstellung eines Ausschnittes einer erfindungsgemäßen, gebogenen Kühleinrichtung in Schnittansicht mit einem Hohlraum im Bereich der Biegung, wobei der Hohlraum von dem kryogenen Medium befreit ist.
Figur 7 zeigt eine weitere schematische Darstellung eines Ausschnittes einer
erfindungsgemäßen, gebogenen Kühleinrichtung in Schnittansicht mit einem Hohlraum im Bereich der Biegung, wobei der Hohlraum von dem kryogenen Medium befreit ist.
Figur 8 zeigt die Verfahrensschritte zur Herstellung einer erfindungsgemäßen, gebogenen Kühleinrichtung .
Figur 9 zeigt ein EUV-System, das mehrere erfindungsgemäße, gebogene Kühleinrichtungen aufweist.
Figur 10 zeigt ein DUV-System, das erfindungsgemäße, gebogene Kühleinrichtungen aufweisen kann.
Bester Weg zur Ausführung der Erfindung
Die Figuren 1, 2 und 3 zeigen schematische Darstellungen von im Wesentlichen ungebogenen Kühleinrichtungen 100 aus dem Stand der Technik. Diese Figuren wurden bereits in der Beschreibungseinleitung näher beschrieben.
Figur 4 zeigt eine schematische Darstellung eines Ausschnittes einer gebogenen
Kühleinrichtung 100, wobei die Kühleinrichtung 100 vor dem Biegen nicht mit einem kryogenen Medium 110 befüllt war. Der Biegeradius 114 liegt dabei im Bereich von 100 mm bis 5 mm. Die durchgezogen Linien zeigen die Konturen der Kühleinrichtung 100 nach dem Biegen. Die gestrichelten Linien zeigen die Konturen der Kühleinrichtung 100 vor dem Biegen. Man kann erkennen, dass sich im gebogenen Bereich der Hohlraum 108 zumindest teilweise zugesetzt hat. Das nicht in den Figuren gezeigte Kühlmedium, vorzugsweise das Kühlwasser, kann in diesem zugesetzten Bereich nicht mehr fließen.
Figur 5 zeigt eine schematische Darstellung eines Ausschnittes einer gebogenen
Kühleinrichtung 100, wobei die Kühleinrichtung 100 vor dem Biegen erfindungsgemäß mit einem kryogenen Medium 110 befüllt worden war. Das kryogene Medium 110 ist erstarrt und hält den Hohlraum 108 beim Biegen auch in dem gebogenen Bereich offen. Der Biegeradius 114 liegt dabei im Bereich von 100 mm bis 5 mm.
Figur 6 zeigt eine schematische Darstellung eines Ausschnittes der gebogenen
Kühleinrichtung 100 aus Figur 5. In Figur 6 ist das kryogene Medium 110 entfernt. Der Hohlraum 108 ist auch im gebogenen Bereich offen. Der Biegeradius 114 liegt dabei im Bereich von 100 mm bis 5 mm.
Figur 7 zeigt eine schematische Darstellung eines Ausschnittes der gebogenen
Kühleinrichtung 100 aus Figur 6. Zusätzlich zu Figur 6 ist in Figur 7 die einem Strahlengang in der mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage zugewandte Seite des dickeren Blechs 104 mit einer Riffelung 112 versehen.
Figur 8 zeigt das Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen Kühleinrichtung 100.
Im ersten Schritt Sl erfolgt das Bereitstellen der mindestens einen Hohlraum 108 aufweisenden, im Wesentlichen ungebogenen, Kühleinrichtung 100. Der mindestens eine Hohlraum 108 wurde durch Hydroformen hergestellt. Diese ungebogene Kühleinrichtung 100 ist in den Figuren 1, 2 und 3 dargestellt, die in der Beschreibungseinleitung näher beschrieben wurden.
Im zweiten Schritt S2 wird der mindestens eine Hohlraum 108 mit einem flüssigen, kryogenen Medium 110, zumindest in einem zu biegenden Bereich der Kühleinrichtung 100, befüllt.
Im dritten Schritt S3 wird die Kühleinrichtung 100 derart herabgekühlt, dass das sich im Hohlraum 108 befindliche, kryogene Medium 110 unter seine Schmelztemperatur abkühlt und hierbei zumindest teilweise erstarrt. Das kryogene Medium 110 ist ein Gemisch aus Wasser und mindestens einer aktiven Komponente und/oder eine Lösung mindestens einer aktiven Komponente in Wasser, wobei die aktive Komponente mindestens ein Tensid, insbesondere Sekundäralkoholethoxylat, und/oder mindestens ein Salz, insbesondere Kaliumphosphat, Natriumsilikat oder Natriumsalz aufweist. Das Herabkühlen der Kühleinrichtung 100 erfolgt durch Eintauchen in verflüssigtes Gas, insbesondere in Flüssigstickstoff.
Im vierten Schritt S4 wird die Kühleinrichtung 100 gebogen. Das zumindest teilweise erstarrte kryogene Medium 110 verhindert ein Verschließen des Hohlraumes 108 beim Biegen. Beim Biegen wird ein Biegeradius 114 von weniger als 100 mm, vorzugsweise weniger als 50 mm, eingehalten. Siehe hierzu die Figur 5.
Im fünften Schritt S5 wird die mit dem zumindest teilweise erstarrten kryogenen Medium 110 befüllte, gebogene Kühleinrichtung 100 derart erwärmt, daß sich das kryogene Medium 110 wieder verflüssigt und das verflüssigte kryogene Medium 100 zumindest nahezu
rückstandsfrei aus dem mindestens einen Hohlraum 108 entfernt werden kann. Das
Endergebnis zeigen die Figuren 6 und 7.
Gemäß Figur 9 weist eine Beleuchtungseinrichtung in einer für EUV ausgelegten
mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage 300 einen Feldfacettenspiegel 303 und einen Pupillenfacettenspiegel 304 auf. Auf den Feldfacettenspiegel 303 wird das Ficht einer Fichtquelleneinheit, welche eine Plasmalichtquelle 301 und einen Kollektorspiegel 302
umfasst, gelenkt. Im Lichtweg nach dem Pupillenfacettenspiegel 304 sind ein erster
Teleskopspiegel 305 und ein zweiter Teleskopspiegel 306 angeordnet. Im Lichtweg nachfolgend ist ein Grazing- incidence Spiegel 307 angeordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf ein Objektfeld in der Objektebene eines sechs Spiegel 351-356 umfassenden Projektionsobjektivs lenkt. Am Ort des Objektfeldes ist eine reflektierende strukturtragende Maske 321 auf einem Maskentisch 320 angeordnet, die mit Hilfe des Projektionsobjektivs in eine Bildebene abgebildet wird, in welcher sich ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes Substrat 361 auf einem Wafertisch 360 befindet. Grob schematisch sind der Kraftrahmen 380, der im Wesentlichen die Spiegel des Projektionsobjektives trägt, und der Sensorrahmen 370, der im Wesentlichen als Referenz für die Position der Spiegel des Projektionsobjektives dient, dargestellt. Exemplarisch sind einige gebogene Pillow Plates 100, die im Wesentlichen den EUV-Strahlengang umschließen, dargestellt. Die Biegung der Pillow Plates 100 ist aus Gründen der Übersichtlichkeit in der Figur 9 nicht dargestellt.
Fig. 10 zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Projektionsbelichtungsanlage 400, welche eine Strahlformungs- und Beleuchtungseinrichtung 402 und ein Projektionsobjektiv 404 umfasst. Dabei steht DUV für„tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 und 250 nm.
Die DUV- Projektionsbelichtungsanlage 400 weist eine DUV-Lichtquelle 406 auf. Als DUV- Lichtquelle 406 kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher
Strahlung 408 im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emittiert.
Die in Fig. 10 dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungseinrichtung 402 leitet die DUV- Strahlung 408 auf eine Photomaske 420. Die Photomaske 420 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Strahlformungs- und Beleuchtungseinrichtung 402 und des Projektionsobjektivs 404 angeordnet sein. Die Photomaske 420 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionsobjektives 404 verkleinert auf einen Wafer 424 oder dergleichen abgebildet wird.
Das Projektionsobjektiv 404 weist mehrere Linsen 428, 440 und/oder Spiegel 430 zur Abbildung der Photomaske 420 auf den Wafer 424 auf. Dabei können einzelne Linsen 428,440 und/oder Spiegel 430 des Projektionsobjektivs 404 symmetrisch zur optischen Achse 426 des Projektionsobjektivs 404 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen und Spiegel der DUV- Projektionsbelichtungsanlage 400 nicht auf die dargestellte
Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen und/oder Spiegel vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt. Ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 440 und dem Wafer 424 kann durch ein flüssiges Medium 432 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 aufweist. Das flüssige Medium 432 kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als
Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf.
Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alternative
Ausführungsformen, z.B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungsformen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind, und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äquivalente beschränkt ist.
Bezugszeichenliste
100 insbesondere plattenförmige Kühleinrichtung (=Pillow Plate) 102 dünneres Blech
104 dickeres Blech
106 Schweißnaht
107 Barriere
108 Hohlraum(=Kühlkanal)
110 kryogenes Medium
112 Riffelung
114 Biegeradius
300 EUV-Projektionsbelichtungsanlage (=EUV-System)
301 bis 360 Teile der EUV-Projektionsbelichtungsanlage 370 Sensorrahmen
380 Kraftrahmen
400 DUV-Projektionsbelichtungsanlage (=DUV-System)
402 bis 440 Teile der DUV-Projektionsbelichtungsanlage
Claims
1. Verfahren zum Biegen einer Kühleinrichtung für mikrolithographische
Projektionsbelichtungsanlagen mit den Schritten:
-Bereitstellen der mindestens einen Hohlraum (108) aufweisenden, insbesondere
ungebogenen, Kühleinrichtung (100);
-Befüllen des mindestens einen Hohlraums (108) mit einem flüssigen kryogenen Medium (110) zumindest in einem zu biegenden Bereich der Kühleinrichtung (100);
-Herabkühlen der Kühleinrichtung (100) derart, dass das sich im Hohlraum (108) befindliche Medium (110) unter seine Schmelztemperatur abkühlt und hierbei zumindest teilweise erstarrt;
-Biegen der Kühleinrichtung (100) derart, dass das zumindest teilweise erstarrte Medium (110) ein Verschließen des Hohlraumes (108) beim Biegen verhindert.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der mindestens eine Hohlraum (108) durch
Hydroformen hergestellt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei beim Biegen ein Biegeradius (114) von weniger als etwa 100 mm, vorzugsweise von weniger als etwa 50 mm, eingehalten wird.
4. Verfahren nach einem der vorigen Ansprüche, wobei das Medium (110) ein Gemisch aus Wasser und mindestens einer aktiven Komponente und/oder eine Lösung mindestens einer aktiven Komponente in Wasser aufweist, wobei die aktive Komponente mindestens ein Tensid, insbesondere Sekundäralkoholethoxylat, und/oder mindestens ein Salz, insbesondere Kaliumphosphat, Natriumsilikat oder Natriumsalz aufweist.
5. Verfahren nach einem der vorigen Ansprüche, wobei das Herabkühlen der Kühleinrichtung (100) durch Eintauchen in verflüssigtes Gas, insbesondere in Flüssigstickstoff, erfolgt.
6. Verfahren nach einem der vorigen Ansprüche, wobei nach dem Schritt des Biegens die mit dem zumindest teilweise erstarrten Medium (110) befüllte Kühleinrichtung (100) derart erwärmt wird, daß das Medium (110) sich wieder verflüssigt und das verflüssigte Medium (110) zumindest nahezu rückstandsfrei aus dem mindestens einen Hohlraum (108) entfernt wird.
7. Gebogene, mindestens einen Hohlraum (108) aufweisende Kühleinrichtung (100), hergestellt nach dem Verfahren nach Anspruch 6.
8. Kühleinrichtung nach Anspruch 7, wobei die Kühleinrichtung (100) zwei oder mehr Hohlräume (108), die untereinander in Verbindung stehen, aufweist.
9. Kühleinrichtung nach Anspruch 7 oder 8, wobei der mindestens eine Hohlraum (108) durch zwei miteinander verschweißte Bleche, insbesondere durch ein dünneres Blech (102) und ein dickeres Blech (104) gebildet wird.
10. Kühleinrichtung nach Anspruch 9, wobei die einem Strahlengang in der
mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage zugewandte Seite eines der Bleche, insbesondere des dickeren Blechs (104), eine Riffelung (112) aufweist.
11. Kühleinrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, wobei der Biegeradius (114) kleiner als etwa 100 mm, vorzugsweise kleiner als etwa 50 mm, ist.
12. Kühleinrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 11, wobei die Kühleinrichtung (100) zur Kühlung und/oder thermischen Abschirmung von Komponenten im und/oder um einen Strahlengang in der mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (300, 400) angeordnet ist.
13. Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage für den DUV-Bereich (400) oder für den EUV-Bereich (300), aufweisend mindestens eine gebogene, insbesondere
hydrogeformte, Kühleinrichtung (100) nach einem der Ansprüche 7 bis 12.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201980051628.5A CN112534355A (zh) | 2018-08-07 | 2019-07-18 | 液压成形冷却装置的弯曲方法和弯曲的液压成形冷却装置 |
US17/167,554 US20210154722A1 (en) | 2018-08-07 | 2021-02-04 | Method for bending hydroformed cooling devices and bent hydroformed cooling devices |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102018213189.9A DE102018213189A1 (de) | 2018-08-07 | 2018-08-07 | Verfahren zum Biegen von hydrogeformten Kühleinrichtungen und gebogene, hydrogeformte Kühleinrichtungen |
DE102018213189.9 | 2018-08-07 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
US17/167,554 Continuation US20210154722A1 (en) | 2018-08-07 | 2021-02-04 | Method for bending hydroformed cooling devices and bent hydroformed cooling devices |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2020030403A1 true WO2020030403A1 (de) | 2020-02-13 |
Family
ID=67396935
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/EP2019/069415 WO2020030403A1 (de) | 2018-08-07 | 2019-07-18 | Verfahren zum biegen von hydrogeformten kühleinrichtungen und gebogene, hydrogeformte kühleinrichtungen |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210154722A1 (de) |
CN (1) | CN112534355A (de) |
DE (1) | DE102018213189A1 (de) |
WO (1) | WO2020030403A1 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102020131383A1 (de) * | 2020-11-26 | 2022-06-02 | Carl Zeiss Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Inspektion einer Schweißnaht in einer Baugruppe eines optischen Systems für die Mikrolithographie |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1751146A1 (de) * | 1967-04-14 | 1972-02-10 | Nat Res Dev | Aus mit Einpressungen versehenen Platten gebildete Stapelanordnung fuer Waermeaustauscher |
DE3218662A1 (de) * | 1982-05-18 | 1983-11-24 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren und vorrichtung zum biegen von rohren |
EP1469578A2 (de) * | 2003-04-18 | 2004-10-20 | ASML Holding N.V. | Kühlsystem für eine Antriebsspule |
DE102009045193A1 (de) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
CN107716665A (zh) * | 2017-11-25 | 2018-02-23 | 徐州新南湖科技有限公司 | 一种工业设备u型冷却细铜管制备方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3343250A (en) * | 1964-04-22 | 1967-09-26 | Douglas Aircraft Co Inc | Multiple tube forming method |
US3546917A (en) * | 1968-09-30 | 1970-12-15 | T O Paine | Technique of elbow bending small jacketed transfer lines |
DE3039693A1 (de) * | 1980-10-21 | 1982-04-29 | Gunnar 7770 Überlingen Larsson | Verfahren und vorrichtung zum herstellen von waermetauscherelementen, wie heizkoerpersegmenten, kuehlschlangen etc. |
US5813266A (en) * | 1995-10-31 | 1998-09-29 | Greenville Tool & Die Company | Method of forming and piercing a tube |
JP2001105038A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-17 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 板型ヒートパイプの曲げ加工方法 |
US20050268687A1 (en) * | 2004-05-10 | 2005-12-08 | Endress + Hauser Flowtec Ag | Manufacturing a curved measuring tube for a vibratory measurement pickup |
JP2006212695A (ja) * | 2005-02-07 | 2006-08-17 | Toyota Motor Corp | 液圧成形装置および液圧成形方法 |
JP2009072804A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Fujifilm Corp | 金属製パイプの曲げ加工方法 |
US8631671B2 (en) * | 2011-04-14 | 2014-01-21 | GM Global Technology Operations LLC | Internal mandrel and method |
DE102011075465B4 (de) * | 2011-05-06 | 2013-09-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102014102974A1 (de) * | 2014-03-06 | 2015-09-10 | Thyssenkrupp Steel Europe Ag | Verfahren zur individualisierten Anpassung der Form von Bauteilen |
-
2018
- 2018-08-07 DE DE102018213189.9A patent/DE102018213189A1/de not_active Ceased
-
2019
- 2019-07-18 CN CN201980051628.5A patent/CN112534355A/zh active Pending
- 2019-07-18 WO PCT/EP2019/069415 patent/WO2020030403A1/de active Application Filing
-
2021
- 2021-02-04 US US17/167,554 patent/US20210154722A1/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1751146A1 (de) * | 1967-04-14 | 1972-02-10 | Nat Res Dev | Aus mit Einpressungen versehenen Platten gebildete Stapelanordnung fuer Waermeaustauscher |
DE3218662A1 (de) * | 1982-05-18 | 1983-11-24 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren und vorrichtung zum biegen von rohren |
EP1469578A2 (de) * | 2003-04-18 | 2004-10-20 | ASML Holding N.V. | Kühlsystem für eine Antriebsspule |
DE102009045193A1 (de) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
CN107716665A (zh) * | 2017-11-25 | 2018-02-23 | 徐州新南湖科技有限公司 | 一种工业设备u型冷却细铜管制备方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
PIPER M ET AL: "Numerical investigation of turbulent forced convection heat transfer in pillow plates", INTERNATIONAL JOURNAL OF HEAT AND MASS TRANSFER, PERGAMON PRESS, GB, vol. 94, 17 December 2015 (2015-12-17), pages 516 - 527, XP029362663, ISSN: 0017-9310, DOI: 10.1016/J.IJHEATMASSTRANSFER.2015.11.014 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20210154722A1 (en) | 2021-05-27 |
CN112534355A (zh) | 2021-03-19 |
DE102018213189A1 (de) | 2020-02-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102008064504B4 (de) | Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie | |
EP1141781B1 (de) | Hochaperturiges projektionsobjektiv mit minimalem blendenfehler | |
DE102019217530A1 (de) | Optisches element und verfahren zum herstellen eines optischen elements | |
DE102018208783A1 (de) | Verfahren zur Temperierung eines Spiegels einer Projektionsbelichtungsanlage und Spiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage | |
DE102012211256A1 (de) | Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie | |
DE102017221420A1 (de) | Euv-beleuchtungssystem und verfahren zum erzeugen einer beleuchtungsstrahlung | |
DE19833481A1 (de) | Optisches Projektionssystem, dieses verwendende Belichtungsvorrichtung und Belichtungsverfahren | |
DE60303173T2 (de) | Katoptrisches Projektionssystem, Belichtungsvorrichtung und Herstellungsprozess mit deren Verwendung | |
DE102020204669A1 (de) | Baugruppe eines optischen Systems | |
WO2020030403A1 (de) | Verfahren zum biegen von hydrogeformten kühleinrichtungen und gebogene, hydrogeformte kühleinrichtungen | |
DE102019209265A1 (de) | Blende, optisches system und lithographieanlage | |
DE102006021334B3 (de) | Polarisationsbeeinflussendes optisches Element sowie Verfahren zu dessen Herstellung sowie optisches System und mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit einem solchen Element | |
EP4291929A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines mehrteiligen spiegels einer projektionsbelichtungsanlage für die mikrolithographie | |
DE102022210205A1 (de) | Adaptiver Spiegel mit temperierten Aktuatoren | |
DE102017207726A1 (de) | Baugruppe zur Kühlung eines optischen Elements, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage | |
WO2022179735A1 (de) | Optisches element zur reflexion von strahlung und optische anordnung | |
DE102020206695A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Reduktion von Vibrationen bedingt durch Gasblasen im Temperierfluid in mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlagen | |
DE102006028242A1 (de) | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage | |
DE102020210769A1 (de) | Optisches Element, optische Anordnung und Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements | |
DE102011079450A1 (de) | Optische Anordnung mit Degradationsunterdrückung | |
DE102020205188A1 (de) | Spiegel für ein optisches System | |
DE102019204345A1 (de) | Verfahren zum herstellen eines optischen elements | |
DE102018214437A1 (de) | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik | |
DE102021211181A1 (de) | EUV-Projektionsoptik | |
DE10233828A1 (de) | Optische Komponente umfassend ein Material mit einem Nulldurchgang der thermischer Längsausdehnung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 19742568 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2019742568 Country of ref document: EP Effective date: 20210309 |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 19742568 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |