DE102007054438A1

DE102007054438A1 - Chirurgische Vaporisationselektrode mit Elektrodenkopf

Info

Publication number: DE102007054438A1
Application number: DE102007054438A
Authority: DE
Inventors: Pieter Brommersma
Original assignee: Olympus Winter and Ibe GmbH
Current assignee: Olympus Winter and Ibe GmbH
Priority date: 2007-11-13
Filing date: 2007-11-13
Publication date: 2009-05-20
Also published as: US8265727B2; US20090125021A1; CN101433470B; CN101433470A; JP2009119247A

Abstract

Eine chirurgische Vaporisationselektrode (1) mit einem Elektrodenkopf (2), der eine Arbeitsfläche (6) aufweist und der an wenigstens einer Anschlussstelle (10) an einen mit einem Isoliermantel (4) umhüllten Zuleitungsdraht (3) angeschlossen ist, ist dadurch gekennzeichnet, dass ein die Anschlussstelle (10) umgebender Oberflächenbereich (7) des Elektrodenkopfes (2) mit einer Keramikabdeckung (8) versehen ist.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vaporisationselektrode der im Oberbegriff des Anspruches 1 genannten Art.
Gattungsgemäße Elektroden, wie sie aus der DE 295 21 028 U1 bekannt sind, werden unter Wasser, z. B. in der Blase, zur Vaporisation verwendet. Dabei werden sie unter Hochfrequenzbeaufschlagung mit ihrer Arbeitsfläche gegen eine Gewebeoberfläche gebracht und erhitzen diese bis zur Karbonisierung des Gewebes.
Bei älterer Technik, bei der in schlecht leitfähiger Flüssigkeit gearbeitet wurde, mußte der Hochfrequenzstrom, mit dem die Elektrode beaufschlagt wurde, bei Kontakt mit dem Gewebe durch dieses bis zu einer äußeren Neutralelektrode fließen. Das Gewebe wurde durch Stromfluß erhitzt.
Bei neuerer Technik wird in gut leitfähiger Flüssigkeit gearbeitet, wobei der Strom von der Arbeitsfläche der Vaporisationselektrode durch die Flüssigkeit zu einer in der Nähe angeordneten Returnelektrode fließt. Ein sich über der Arbeitsfläche bildendes Plasma erhitzt das Gewebe.
Dabei treten allerdings Probleme auf, da das Plasma sich an allen elektrisch leitenden Oberflächen der Vaporisationselektrode bilden kann, also nicht nur an der Arbeitsfläche, sondern auch an sonstigen Oberflächenbereichen, weshalb der Zuleitungsdraht durch seinen Isoliermantel geschützt ist, um nicht zur Plasmabildung beizutragen.
Allerdings ist der Isoliermantel empfindlich. Er ist wegen seiner komplizierten Montage zumindest im elektrodenseitigen Endbereich des Zuleitungsdrahtes aus Kunststoff ausgeführt, der thermisch empfindlich ist. Ein sich in der Nähe des Isoliermantels bildendes Plasma führt zur Zerstörung des Isoliermaterials.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht daher darin, bei einer gattungsgemäßen Vaporisationselektrode deren Zerstörungen durch Plasma zu verhindern.
Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen des Kennzeichnungsteils des Anspruches 1 gelöst.
Erfindungsgemäß ist der Oberflächenbereich des Elektrodenkopfes, der die Anschlussstelle des Zuleitungsdrahtes umgibt, mit einer Keramikabdeckung versehen. Die Keramikabdeckung verhindert in den abgedeckten Oberflächenbereichen des Elektrodenkopfes eine Plasmabildung, verhindert also eine Plasmabildung im Bereich der Anschlussstelle des Zuleitungsdrahtes. Damit wird der empfindliche Isoliermantel geschützt und es kommt nicht zu den gefürchteten Zerstö rungen, die letztlich die gesamte Vaporisationselektrode unbrauchbar machen können. Sind an einem Elektrodenkopf mehrere Zuleitungsdrähte angeschlossen, so sind diese in entsprechender Weise mit getrennten oder einer gemeinsamen Keramikabdeckung zu versorgen.
Vorteilhaft sind dabei die Merkmale des Anspruches 2 vorgesehen. Bei dieser Ausführungsform mit einer gewölbten Arbeitsfläche kann der Elektrodenkopf z. B. pilzförmig oder plattenförmig ausgebildet sein. Seine flache Rückseite, auf der die Anschlussstelle liegt, kann von einer einfach konstruierten ebenen Keramikscheibe abgedeckt sein, die dort die Plasmabildung verhindert.
Vorteilhaft sind die Merkmale des Anspruches 3 vorgesehen. Bei der Ausführungsform läuft der Zuleitungsdraht durch eine Bohrung der Keramikabdeckung. Seine Isolierummantelung kann an dieser Stelle enden und wird hervorragend gegen Plasmabildung geschützt. Ist der Elektrodenkopf an mehrere Zuleitungsdrähte angeschlossen, so kann eine gemeinsame Keramikabdeckung mit mehreren Löchern verwendet werden.
In der Zeichnung ist die Erfindung beispielsweise und schematisch dargestellt. Es zeigen:
1 eine Seitenansicht des distalen Endbereiches einer Vaporisationselektrode,
2 einen Schnitt nach Linie 2-2 in 1 und
3 eine geschnittene Ausschnittsvergrößerung im Bereich des Elektrodenkopfes der 1.
Die Figuren zeigen eine chirurgische Vaporisationselektrode 1 mit einem Elektrodenkopf 2, der aus geeignet hochtemperaturfestem Metall besteht. Dem Elektrodenkopf 2 wird Spannung über einen Zuleitungsdraht 3 zugeführt, der im Endbereich in der Nähe des Elektrodenkopfes 2 mit einer Isolierummantelung 4 aus Kunststoff versehen ist. Der Zuleitungsdraht 3 ist, wie 3 zeigt, an einer Anschlussstelle 10 am Elektrodenkopf 2 angeschlossen, beispielsweise gelötet oder geschweißt.
In dem in den 1–3 dargestellten Ausführungsbeispiel ist der Elektrodenkopf 2 als Pilzelektrode mit starkgewölbter Arbeitsfläche 6 ausgebildet. Seine Rückseite 7 ist eben ausgebildet und mit einer Keramikscheibe 8 abgedeckt, die in einer Bohrung 9 vom Zuleitungsdraht 3 durchlaufen wird.
Die Keramikscheibe 8 umgibt also die Anschlussstelle 10 des Zuleitungsdrahtes 3 und schützt in diesem Bereich die den Zuleitungsdraht 3 umgebende Isolierummantelung 4, da Plasmabildung auf der Rückseite 7 durch die abdeckende Keramikscheibe 8 verhindert wird.
Wie 1 zeigt, verläuft bei der dargestellten Ausführungsform der Zuleitungsdraht 3 mit seiner Isolierummantelung 4 im Endbereich in der Nähe des Elektrodenkopfes 2 abgewinkelt. Im Abstand zum Elektrodenkopf 2 läuft der Zuleitungsdraht 3 mit seiner Isolierummantelung 4 in ein Schutzrohr 5 ein, in dem er in geeigneter Formgebung weiterläuft. Einzelheiten dieser üblichen Konstruktionsweise sind beispielsweise der eingangs genannten DE 295 21 028 U1 zu entnehmen.
Wie 2 zeigt, ist der einzige Elektrodenkopf 2 mit zwei jeweils mit Isoliermantel 4 versehenen Zuleitungsdrähten 3 angeschlossen, die jeweils in einem Schutzrohr 5 weiterlaufen. Dies hat jedoch nur mechanisch-konstruktive Gründe.
Die beiden Zuleitungsdrähte sind an dieselbe Spannung angeschlossen. Ein einziger Zuleitungsdraht 3 würde ausreichen.
Aus konstruktiven Gründen und insbesondere aus Montagegründen muß der Isoliermantel 4 insbesondere im Endbereich des Zuleitungsdrahtes 3 zwischen dem Schutzrohr 5 und dem Elektrodenkopf 2 aus Kunststoff bestehen, der empfindlich gegen sehr hohe Temperaturen ist.
Die erfindungsgemäße Vaporisationselektrode 1 wird in leitfähiger Flüssigkeit verwendet, beispielsweise bei Arbeit in der Blase zur Prostataresektion unter Verwendung von mit Salz angereichertem Spülwasser. Dabei fließt der Strom von dem Elektrodenkopf 2 durch das umgebende Spülwasser zu einer in der Nähe im Spülwasser angeordneten Neutralektrode. Über der im Ausführungsbeispiel einer Pilzelektrode stark gewölbten Arbeitsfläche 6 des Elektrodenkopfes 2 bildet sich dabei ein extrem heißes Plasma aus, das sehr wirkungsvoll Gewebe karbonisieren kann, jedoch auch auf andere Gegenstände, wie beispielsweise das Kunststoffmaterial der Isolierummantelung 4, zerstörend wirkt. Ist jedoch der Isoliermantel 4 erst einmal in der Nähe des Elektrodenkopfes ein Stück weit zerstört, so bildet sich auch dort Plasma aus, das dann sehr schnell den gesamten Rest des Isoliermantels 4 zerstört. Dann ist aus elektrischen Gründen und auch aus Sicherheitsgründen das Arbeiten mit der Vaporisationselektrode 1 nicht mehr möglich.
Die Erfindung läßt, wie dies insbesondere 3 zeigt, die Arbeitsfläche 6 des Elektrodenkopfes 2 frei, deckt jedoch die übrigen nicht zur Arbeit dienenden Oberflächenbereiche des Elektrodenkopfes 2 mit der Keramikscheibe 8 ab, die dort eine Plasmabildung verhindert. Die Plasmabildung wird also insbesondere im Bereich der Isolierummantelung 4 verhindert.
Bei der dargestellten Ausführungsform mit zwei Zuleitungsdrähten 3 ist die Keramikscheibe mit zwei Bohrungen 9 versehen und umgibt, gegen Plasma schützend, beide Zuleitungsdrähte 3 mit ihren jeweiligen Isolierummantelungen 4.
An Stelle der dargestellten Knopfelektrode mit gewölbter Arbeitsfläche 6 kann auch eine andere zur Vaporisation geeignete Elektrode verwendet werden, die z. B. plattenförmig flach ausgebildet ist, wobei also auch die Arbeitsfläche flach ist.
Im dargestellten Ausführungsbeispiel einer pilzförmigen Elektrode 2 ist deren Rückseite 7 eben. Zu ihrer Abdeckung reicht eine einfache ebene Keramikscheibe 8. Diese wird in Bohrungen 9 von den Zuleitungsdrähten 3 durchlaufen. Die Isolierummantelung 4 endet an der Keramikscheibe 8.
Bei der dargestellten Konstruktion kann sich Plasma nur auf der gewölbten Arbeitsfläche 6 ausbilden, also in einem definierten Bereich, mit dem gearbeitet wird. Alle anderen Bereiche der Vaporisationselektrode 1 und insbesondere die Zuleitungsdrähte 3 bleiben isoliert und frei von Plasmabildung.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

- DE 29521028 U1 [0002, 0019]

Claims

Chirurgische Vaporisationselektrode (1) mit einem Elektrodenkopf (2), der eine Arbeitsfläche (6) aufweist und der an wenigstens einer Anschlussstelle (10) an einen mit einem Isoliermantel (4) umhüllten Zuleitungsdraht (3) angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet, dass ein die Anschlusstelle (10) umgebender Oberflächenbereich (7) des Elektrodenkopfes (2) mit einer Keramikabdeckung (8) versehen ist.
Vaporisationselektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrodenkopf (2) eine gewölbte Arbeitsfläche (6) und eine ebene Rückseite (7) ausbildet, auf der die Anschlussstelle (10) liegt, wobei die Rückseite (7) von einer Keramikscheibe (8) abgedeckt ist.
Vaporisationselektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Zuleitungsdraht (3) eine Bohrung (9) der Keramikabdeckung (8) durchläuft.