DE102007044544A1 - Applikationsschiene mit Abdichtungsrand an der Wirkstoffkammer für den Ober- und Unterkiefer - Google Patents

Abstract

Für speichellösliche Wirkstoffe sind die bisherigen Applikationsschienen zur Exposition von Wirkstoffen auf die Zahnflächen nicht einsetzbar. Der in den letzten Jahren in der Fachliteratur immer wieder bestätigte, die Zahnsubstanz positiv unterstützende Einfluß freier Kalziumionen läßt technische Veränderungen an den Applikationsschienen nötig erscheinen, die den Einsatz speichellöslicher Wirkstoffe erlauben. Ein einfacher Arbeitsschritt in der Vorbereitung des Arbeitsmodells, der das Entstehen eines Abdichtungsrandes zur Folge hat, ermöglicht bei der Anwendung dieser Applikationsschienen in der Praxis neben dem Einsatz neuer speichellöslicher Wirkstoffe für alle anderen bekannten Wirksubstanzen einen wirtschaftlicheren, weil verlustärmeren Einsatz.

Description

• Es ist bekannt, dass durch Auftragen verschiedener Wirkstoffe auf die Zahnsubstanz ernährungsbedingte Veränderungen des Zahnschmelzes wie Demineralisationen teilweise wieder zurückgeführt werden können und sich der Zahnschmelz mittels der angewendeten Wirkstoffe – beispielsweise der handelsüblichen Fluorid-Gele wieder zu remineralisieren in der Lage ist. Die Wirkung aller handelsüblichen Wirkstoffe für die Zahnsubstanz ist proportional der Expositionszeit. Applikationschienen sind bisher eine der empfohlenen Methoden diese Wirkstoffe an den Zahnflächen als dem Ort ihrer Einwirkung zu deponieren. Bei den bisher verwendeten Schienen wird im herkömmlichen zahntechnischen Platzhalterverfahren am vorgesehenen Ober- oder Unterkiefermodell ein gewünschtes Expositionsareal für einen Wirkstoff (zum Beispiel das Gebiet der Zahnhälse für den Wirkstoff Fluorid-Gel) durch Modellieren auf dem Gipsabdruck markiert (1 und 2). Die Größe der Modellation entspricht der gewünschten Grösse der Applikationskammer und damit der späteren gewünschten Portionsgröße des Wirkstoffes, welcher in diesem Bereich zur lokalen Anwendung kommen soll. Herkömmlich erfolgt nun auf diesem Modell – z. B. durch Tiefziehverfahren – die Erstellung der Schiene (siehe 4 bis 6). Durch einen kleinen zusätzlichen Arbeitsschritt wird jetzt für einen Dichtungsrand, der das gewünschte Expositionsareal umschliessen soll, die Voraussetzung auf dem Arbeitsmodell geschaffen. Dazu erfolgt in gleichbleibender Tiefe zur Oberfläche des Arbeitsmodells mit einem rotierenden instrument – dicht dem Rand der Modellation der Applikationskammer folgend – die Präparation einer 0,5 mm tiefen Rille, welche die gesamte Modellation gleichmässig umschließt (3 und 9).
• Nun dringen im nächsten Arbeitsschritt – z. B. beim Tiefziehverfahren – die auf das Modell aufgebrachten Schienenbestandteile in die Tiefe der Präparation ein und lassen so um die Wirkstoffkammer einen aus der übrigen Innenfläche der Schiene erhaben erscheinenden Rand entstehen (siehe 10). Dieser schließt später in der Mundhöhle den Wirkstoffkammerinhalt als Abdichtungsrand vor dem umgebenden Mundmilieu ab. In Abhängigkeit von der Elastizität des verwendeten Schienenmaterials sowie der Art und Tiefe der Präparation kann so durch den gleichmäßigen Verlauf des Dichtungsrandes der Austritt der Wirkstoffe verhindert werden. Mit Silikon ist eine zusätzliche, ergänzende Abdichtung möglich.
• In einem Foto ist eine Darstellung einer 0,5 mm Erhebung in der Innenseite einer Kunststoffschiene kaum möglich, daher wurde auf ein Foto der allgemein bekannten Applikationsschienen verzichtet. Auf die folgenden 4 bis 6 (schematische Darstellung der Herstellung einer herkömmlichen Applikationsschiene) und 7–10 schematische Darstellung der Herstellung einer Applikationsschiene mit Abdichtungsrand) sei jedoch verwiesen.

Claims (1)

1. Durch einen Dichtungsrand an der Wirkstoffkammer gekennzeichnete Applikationsschienen des Ober- und Unterkiefers, deren Aufgabe es ist Zahnflächen substanzstärkend zu beeinflussen, gekennzeichnet dadurch, daß bei Verwendung herkömmlicher Werkstoffe – z. B. Tiefziehschienen – eine am Arbeitsmodell durchgeführte Präparation um die Modellation der Wirkstoffkammer herum zu einem erhabenen Rand in der Innenseite der fertiggestellten Schiene führt und welche damit eine effizientere Applikation von allgemeinen Wirkstoffen erlaubt und auch erstmalig eine Anwendung von speichellöslichen Wirkstoffen in Aussicht stellt. Mit Silikon kann diese Abdichtung zusätzlich ergänzt werden.