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Beschreibung der Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen eines
Oxidationsschutzes für Iridium umfassende und in der Glasherstellung
zu verwendende Bauteile und eine Vorrichtung zum Transportieren,
Homogenisieren und/oder Konditionieren einer Glasschmelze, ohne
das dabei neue Blasen gebildet werden.
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Hintergrund der Erfindung
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Für
die Güte eines Glases, beispielsweise eines Displayglases,
ist unter anderem die Abwesenheit von Gaseinschlüssen und
Verfärbungen entscheidend. Weiterhin wird die Güte
eines Glases auch durch dessen Homogenität und die Abwesenheit
von Schlieren und Blasen bestimmt. Toxische oder zumindest gesundheits-
bzw. ökologischbedenkliche Substanzen, wie beispielsweise
Arsen oder Antimon im Glas sollten soweit als möglich vermindert
oder sogar vermieden werden.
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Der
erste Prozessschritt in der Glasherstellung stellt das Einschmelzen
der Ausgangssubstanz in einem Schmelztiegel dar. Um eine Höchstmaß an Homogenität
und Blasenfreiheit zu erzielen, bedarf es gründlicher Durchmischung
und Entgasung des Glasschmelze. Daher schließt sich grundsätzlich dem
Einschmelzen nachfolgend eine Läuterung und Homogenisierung der
Glasschmelze an. Wesentliches Ziel der Läuterung ist die
physikalisch und chemisch in der Schmelze gebundenen Gase aus der Schmelze
zu entfernen. In Abhängigkeit von der zu erzielenden Qualität
kann eine Läuterung auch im Schmelztiegel erfolgen.
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Nach
der Läuterung ist die Glasschmelze im Idealfall blasenfrei.
Während des Transports der Glasschmelze zu einem weiteren
Verarbeitungsschritt sollte ein erneuter Eintrag an Blasen in die Glasschmelze
oder die Neubildung von Blasen in der Glasschmelze vermieden werden,
um eine unerwünschte Qualitätseinbuße
zu vermeiden.
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Für
die Fertigung von Einrichtungen, welche in der Glasschmelzverarbeitung
verwendet werden, wie beispielsweise Wannen, Rinnen, Tiegel, Behälter,
Transportmittel und Werkzeuge werden vielfach Edelmetalle der Platingruppe,
deren Legierungen, Kieselglas oder auch Feuerfestkeramiken verwendet.
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Es
ist bekannt, dass die Verwendung von Quarz oder Keramiken als Wandmaterial
oder als Schmelzkontaktmaterial, beispielsweise einer Transporteinrichtung,
zur Bildung von Blasen und/oder Schlieren in der Glasschmelze und
letztendlich im Glasendprodukt führen kann. Die Schlieren
haben im allgemeinen ihren Ursprung in Glasinhomogenitäten mit
abweichenden optischen Werten.
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Die
Entstehung von Schlieren kann jedoch durch eine Verwendung von Metallen,
wie zum Beispiel Platin oder Platinlegierungen, zum Bau oder zumindest
zur Auskleidung der Bauteile im Schmelzkontaktbereich vermieden
werden.
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Platin
ist jedoch zum einen teuer. Zum anderen haben Bauteile aus Platin
oder Platinlegierungen auch den Nachteil, dass, aufgrund der Korrosivität der
Glasschmelze, geringe Mengen Platin oder andere Legierungsbestandteile
in die Schmelze eingetragen werden, welche sowohl in ionischer Form
als auch fein verteilt in elementarer Form letztendlich im Glasendprodukt
vorliegen. Der Eintrag an ionischem oder elementarem Platin in die
Glasschmelze führt je nach Konzentration und Teilchengröße
im Glasendprodukt zu einer unerwünschten Färbung
und einer verminderten Transmission im sichtbaren Bereich der elektromagnetischen
Strahlung.
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Darüber
hinaus ist es bekannt, dass es zur Bildung von Blasen, insbesondere
Sauerstoffblasen, an der Kontaktfläche des Platins mit
der Schmelze kommt. Somit kommt es in der Transportvorrichtung nach
der eigentlichen Läuterung des Glases zu einer Neubildung
von Blasen und entsprechend zu einem unerwünschten Neu-Blaseneintrag
in die bereits geläuterte Glasschmelze.
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Bekannt
aus verschiedenen Patentschriften sind auch Gefäße
und Anlagen, die als Kontaktmaterial zu einer aufzubewahrenden Schmelze
Iridium oder Iridiumlegierungen verwenden. Iridium und auch zum
Teil Iridiumlegierungen weisen gegenüber den üblicherweise
als Kontaktmaterial für Schmelzen verwendeten Edel- oder
Refraktärmetallen, wie beispielsweise Au, Pt, Rh, Pd, Ru,
Os, W oder Mo, einige deutliche Vorteile auf.
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So
ist Iridium beispielsweise durch seinen Schmelzpunkt von etwa 2450°C
deutlich höher thermisch belastbar als im wesentlichen
alle Edelmetalle und auch die meisten der Refraktärmetalle.
Des weiteren besitzen Bauteile aus Iridium oder auch Iridiumlegierungen
eine hohe mechanische Stabilität, die weit über
der anderer Edelmetalle liegt. Zudem weist Iridium bei gleicher
Temperatur eine wesentlich höhere Korrosionsstabilität
als im wesentlichen alle anderen Edel- oder Refraktärmetalle
auf. Damit stellt Iridium ein geeignetes Kontaktmaterial für
Glasschmelzen im Hochtemperaturbereich, insbesondere in einem Temperaturbereich
von bis zu etwa 2200°C, dar.
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Daher
wird bzw. werden Iridium oder Iridiumlegierungen aktuell für
Bauteile verwendet, wenn keine Verunreinigungen durch Korrosion
der Bauteile in die Glasschmelze gelangen dürfen, wie in
der
DE 1906717 beschrieben
oder die ausgezeichneten mechanischen und thermomechanischen Eigenschaften des
Iridiums oder der Iridiumbasislegierungen bei hohen Temperaturen,
insbesondere größer als 1600°C, beispielsweise
in einem Glasschmelzofen notwendig sind, wie beispielsweise in der
JP 02022132 A beschrieben.
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Jedoch
besitzt Iridium auch einige Nachteile, welche seine allgemeine und
umfassende Verwendung als Kontaktmaterial für Glasschmelzen
einschränken. Insbesondere seine Unbeständigkeit
gegenüber Sauerstoff bei hohen Temperaturen, bei größer
als etwa 1000°C, unter Bildung von flüchtigen Oxiden
bildet dabei das Haupthindernis. So gut somit Behältnisse
auf Ihrer Innenseite durch den Kontakt mit der aufzubewahrenden
Schmelze vor einer Oxidation durch Sauerstoff geschützt
sind, so problematisch ist der dauerhafte Schutz vor Oxidation auf
der schmelzabgewandten Außenseite.
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Mit
dem Oxidationsschutz von Behältnissen aus Iridium oder
Iridiumlegierungen beschäftigen sich viele Patentschriften.
So werden in den Schriften
DE
1906717 ,
JP
02022132 A und
WO
2005/007589 A1 für die Außenseite der
Behältnisse aus Iridium oxidationsstabile Schutzschichten
aus Rh, Pt, Pd, Ru, Al
2O
3,
CaO, CeO
2, Cr
2O
3, Al
2O
3,
MgO, SiO
2, HfO
2,
ThO
2, ZrO
2, Mullit,
Zirkon und/oder Spinell vorgeschlagen.
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Schutzschichten,
wie die vorgeschlagenen, können in intaktem Zustand die
Anforderungen an den Schutz vor Sauerstoff erfüllen. Jedoch
ist die zeitliche Stabilität solcher Beschichtungen begrenzt. So
diffundieren sämtliche Edelmetalle ineinander. Das führt
nach und nach zu einer Abschwächung der Schutzwirkung.
Aufgebrachte oxidische Schutzschichten platzen nach und nach ab.
Vor allem bei Temperaturwechseln aufgrund der unterschiedlichen Ausdehnungskoeffizienten
werden solche Schutzschichten leicht beschädigt.
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Weitere
Patentschriften, wie beispielsweise die
JP 2002167674 A , beschreiben
spezielle Sandwichstrukturen, welche einerseits den Schmelzkontakt
durch Iridium andererseits aber durch ihren schichtartigen Aufbau
und die Verwendung von Ir/Pt-Legierungen eine langandauernde Oxidationsstabilität
der Außenseite gewährleisten sollen. Die mechanische
Stabilität solcher Sandwichaufbauten ist aber weniger gut
als die von reinem Iridium. Zudem sind solche Strukturen aufgrund
ihrer Komplexität aufwendig herzustellen und daher teuer.
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Die
Verwendung von reinen Refraktärmetallen, welche lediglich
an der Schmelzkontaktfläche mit Iridium beschichtet sind,
ist beispielsweise in der
US 6632086
B1 beschrieben. Hier ist die mechanische Stabilität
aufgrund der Verwendung von Refraktärmetallen gut. Die
Langzeitstabilität der lediglich dünnen Iridiumschicht
ist jedoch ausgesprochen begrenzt. Eine, wie auch immer aufgebrachte,
Iridiumschicht besitzt im Gegensatz zu Vollmaterial in der Regel
auch nicht die hohe Widerstandsfähigkeit gegenüber
korrosiven Schmelzen.
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Allgemeine Beschreibung der
Erfindung
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Vor
diesem Hintergrund ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung,
eine Vorrichtung und ein entsprechendes Verfahren bereitzustellen,
welche die oben genannten Nachteile des Standes des Technik vermindern.
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Dies
umfasst dabei insbesondere das Ziel, in der Glasschmelze die Neubildung
von Blasen, vorzugsweise die Neubildung von Sauerstoffblasen, nach
der Läuterung, zumindest zu reduzieren.
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Insbesondere
sollen das Verfahren und die Vorrichtung einen wirksamen Schutz
für Iridium umfassende Bauteile vor einer Oxidation durch
den Luftsauerstoff in den für Iridium kritischen Temperaturbereichen
gewährleisten.
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Ferner
sollen das Verfahren und die Vorrichtung wirtschaftlich sinnvoll
und kostengünstig anwendbar sein.
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Dies
umfasst dabei insbesondere das Ziel, die vorliegende Erfindung in
bereits im Betrieb befindliche Anlagen nachträglich einbauen
zu können.
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Gelöst
wird diese Aufgabe bereits durch die Vorrichtung und das Verfahren
gemäß den Merkmalen der unabhängigen
Ansprüche. Vorteilhafte Ausführungsformen sind
Gegenstand der jeweiligen Unteransprüche.
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In
einer ersten Ausführungsform umfasst die vorliegende Erfindung
eine Vorrichtung zum vorzugsweise kontinuierlichen Transportieren
und/oder Konditionieren einer Glasschmelze, umfassend eine einen
Raum zur Aufnahme einer Glasschmelze definierende erste Anordnung.
Die Vorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, dass in der ersten Anordnung wenigstens
eine Wand oder eine Begrenzung angeordnet ist, welche zumindest
abschnittsweise Iridium umfasst und sowohl eine einem Außenraum
der ersten Anordnung zugewandte Seite des Iridium umfassenden Abschnitts
der Wand als auch eine einem Innenraum der ersten Anordnung zugewandte
Seite des Iridium umfassenden Abschnitts der Wand zumindest bereichsweise
eine Schmelzkontaktfläche aufweisen. Die Vorrichtung ist
dabei insbesondere zum Ausführen des erfindungsgemäßen
und nachfolgend beschriebenen Verfahrens geeignet. Unter der Konditionierung
einer Glasschmelze wird beispielsweise verstanden, die Temperatur
der Schmelze schnell und möglichst präzise einzustellen.
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Im
Rahmen der vorliegenden Erfindung liegt zudem auch ein Verfahren
zum Erzeugen eines Oxidationsschutzes für eine Iridium
umfassende Wand oder ein Bauteil, wobei eine einen Raum zur Aufnahme
einer Glasschmelze definierende erste Anordnung bereitgestellt wird.
Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, dass in oder innerhalb
der ersten Anordnung wenigstens eine zumindest abschnittsweise Iridium
umfassende Wand angeordnet wird und sowohl eine dem Außenraum
der ersten Anordnung zugewandte Seite des Iridium umfassenden Abschnitts
der Wand als auch eine dem Innenraum der ersten Anordnung zugewandte
Seite des Iridium umfassenden Abschnitts der Wand zumindest bereichsweise
mit der Glasschmelze bedeckt oder eingehüllt werden. Das
erfindungsgemäße Verfahren ist vorzugsweise zur
Ausführung auf der erfindungsgemäßen
Vorrichtung geeignet.
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Die
vorliegende Erfindung beansprucht eine weitere Vorrichtung zum,
vorzugsweise kontinuierlichen, Transportieren, Homogenisieren und/oder Konditionieren
einer Glasschmelze, umfassend eine einen Raum zur Aufnahme einer
Glasschmelze definierende erste Anordnung, welche dadurch gekennzeichnet
ist, dass in der ersten Anordnung wenigstens eine Wand, welche zumindest
abschnittsweise Iridium umfasst, als Verkleidung zumindest eines
Abschnitts einer Innenseite der ersten Anordnung angeordnet ist
und wenigstens eine einem Innenraum der ersten Anordnung zugewandte
Seite des Iridium umfassenden Abschnitts der Wand zumindest bereichsweise
eine Schmelzkontaktfläche aufweist. In einer Ausführungsform
weist die dem Außenraum der ersten Anordnung zugewandte
Seite des Iridium umfassenden Abschnitts der Wand zumindest bereichsweise
eine Schmelzkontaktfläche auf.
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Darüber
hinaus beansprucht die vorliegende Erfindung noch ein weiteres Verfahren
zum Erzeugen eines Oxidationsschutzes für eine Iridium
umfassende Wand, wobei eine einen Raum zur Aufnahme einer Glasschmelze
definierende erste Anordnung bereitgestellt wird. Das Verfahren
ist dadurch gekennzeichnet, dass in der ersten Anordnung wenigstens
eine zumindest abschnittsweise Iridium umfassende Wand angeordnet
wird, welche zumindest einen Abschnitt einer Innenseite der ersten
Anordnung verkleidet und die dem Innenraum der ersten Anordnung
zugewandte Seite des Iridium umfassenden Abschnitts der Wand zumindest
bereichsweise mit der Glasschmelze bedeckt wird. Das erfindungsgemäße
Verfahren ist insbesondere zur Ausführung auf der erfindungsgemäßen
Vorrichtung geeignet.
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Als
eine Wand im Sinne der vorliegenden Anmeldung wird dabei nicht nur
eine seitliche Begrenzung oder eine Seitenwand verstanden sondern auch
ein Boden und/oder eine Decke. Unter der beschriebenen Glasschmelze
wird auch eine Schmelze verstanden, welche letztendlich nicht zur
Herstellung eines Glases sondern auch zur Herstellung einer Glaskeramik
verwendet wird. Der Iridium umfassende Abschnitt ist insbesondere
keine, beispielsweise mittels eines Abscheideverfahrens, aufgebrachte Schicht.
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Dabei
ist die Wand in einer bevorzugten Ausführungsform zumindest
ein Bestandteil einer einen Raum zur Aufnahme der Glasschmelze definierenden
zweiten Anordnung, welche in oder innerhalb der ersten Anordnung
positioniert oder angeordnet ist. Sowohl die erste Anordnung als
auch die zweite Anordnung können dabei beispielsweise in
Form einer Wanne, einer nach oben geschlossenen Rinne, eines Behälters
oder einer Röhre ausgebildet sein. In einer Ausführungsform
gestaltet oder bildet die genannte Wand vollständig oder
im wesentlichen vollständig die den Raum zur Aufnahme der
Glasschmelze definierende zweite Anordnung. In einer weiteren Ausführungsform
ist oder wird sogar die Wand und/oder die zweite Anordnung im wesentlichen
vollständig oder vollständig durch den Iridium
umfassenden Abschnitt gebildet.
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In
einer Ausführungsform ist die zweite Anordnung zumindest
abschnittsweise von der ersten Anordnung beabstandet. Durch diese
Beabstandung bildet sich in den betreffenden Bereichen zwischen der
ersten Anordnung und der zweiten Anordnung zumindest abschnittsweise
ein Zwischenraum aus. Um eine mögliche Oxidation des Iridium
umfassenden Abschnitts der Anlage zu vermeiden, ist der Zwischenraum
in einer Ausführungsform mit der Glasschmelze füllbar.
Während des Betriebs der Anlage ist der Zwischenraum zumindest
abschnittsweise oder vollständig mit der Glasschmelze gefüllt.
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Somit
weisen sowohl die dem Außenraum der ersten Anordnung zugewandte
Seite der zweiten Anordnung als auch die gegenüberliegende
Seite, d. h. die dem Innenraum der ersten Anordnung zugewandte Seite
der zweiten Anordnung, zumindest bereichsweise eine Schmelzkontaktfläche
auf. Unter einer Schmelzkontaktfläche wird die Oberfläche
eines Bauteils oder einer Wand verstanden, welche mit der Schmelze
oder Glasschmelze in Kontakt steht oder kommt.
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In
einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird die
Glasschmelze in zumindest einen ersten Volumenstrom, den sogenannten
Hauptstrom, und einen zweiten Volumenstrom, den sogenannten Nebenstrom,
aufgeteilt. Die Aufteilung in den ersten und den zweiten Volumenstrom
erfolgt dabei in einem Verhältnis zweiter Volumenstrom
zu erstem Volumenstrom von etwa 0,0001 zu 0,5 oder bevorzugt von
etwa 0,001 zu 0,2. In einer besonders bevorzugten Ausführungsform
erfolgt die Aufteilung in einem Verhältnis von etwa 0,01
zu 0,1.
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Der
erste Volumenstrom befindet sich in dem durch die zweite Anordnung
definierten Raum. Dabei wird in einer Ausführungsform der
erste Volumenstrom in den durch die zweite Anordnung definierten Raum
geführt oder gelenkt. Vorzugsweise werden oder sind die
Innenwände der zweiten Anordnung im wesentlichen vollständig
durch die Schmelze bedeckt. Sofern die Innenseite der zweiten Anordnung im
wesentlichen vollständig bedeckt ist, stellt diese somit
im wesentlichen vollständig eine Schmelzkontaktfläche
dar. Der erste Volumenstrom wird den nachfolgenden Verarbeitungsschritten
oder den weiterverarbeitenden Verfahrensschritten zugeführt.
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Der
zweite Volumenstrom wird dagegen in den durch die ersten und die
zweite Anordnung gebildeten Zwischenraum geführt, wobei
vorzugsweise die Außenseite der zweiten Anordnung im wesentlichen
vollständig bedeckt wird und somit im wesentlichen vollständig
eine Schmelzkontaktfläche darstellt. Dieser zweite Volumenstrom
stellt somit alleine und/oder in Verbindung mit den Wänden
der ersten Anordnung den Schutz oder die Hülle der Außenseite der
zweiten Anordnung, insbesondere des Iridium umfassenden Abschnitts
der zweiten Anordnung, bereit. Folglich stellt in dieser Ausführungsform
die Schmelze selbst sowohl für die Innenseite als auch die
Außenseite des Iridium umfassenden Abschnitts einen wirksamen
Schutz oder eine Schutzhülle bereit.
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Die
vorliegende Erfindung kann dabei ein statisches und/oder ein dynamisches
System beinhalten. In einem statischen System wird der genannte
Zwischenraum im wesentlichen nur einmalig, beispielsweise bei der
Inbetriebnahme der Anlage, gefüllt. Nachdem der Zwischenraum
gefüllt ist, verbleibt der zweite Volumenstrom im wesentlichen
im Stillstand. Um das Einfließen nicht zu behindern, können entsprechende Öffnungen
eingebracht sein, um ein Entweichen der in dem Zwischenraum vorhandenen Luft
zu ermöglichen.
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In
der dynamischen Ausführungsform wird die Glasschmelze vorzugsweise
kontinuierlich aufgeteilt und entsprechend auch der zweite Volumenstrom
dem Zwischenraum vorzugsweise kontinuierlich zu- und abgeführt.
Da dieser zweite Volumenstrom in Kontakt mit den Wänden
der ersten Anordnung kommt und dadurch, je nach Materialeigenschaft
der Wand mit unerwünschten Bestandteilen, verunreinigt
werden kann, wird dieser nicht den nachfolgenden Verfahrensschritten
zugeführt. Eine weitere Verwendung des zweiten Volumenstroms
in weiteren oder anderen Anwendungen mit geringeren qualitativen
Anforderungen ist jedoch möglich. Weiterhin kann der genannte
Nebenstrom auch einen eigenen Kreislauf bilden.
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Um
eine mögliche Oxidation des Iridium umfassenden Abschnitts
der Anlage zu vermeiden, ist in einer weiteren Ausführungsform
in dem Zwischenraum zumindest abschnittsweise eine definierte Atmosphäre
anlegbar oder angelegt. Die definierte Atmosphäre wird
mittels eines Fluids, insbesondere eines Gases, vorzugsweise Stickstoff,
eines Edelgases, vorzugsweise Argon oder Helium und/oder eines Formiergases,
vorzugsweise Formiergas (95/5) oder (90/10) erzeugt. Diese definierte
Atmosphäre bildet eine Art fluiden, vorzugsweise gasförmigen, Vorhang,
welcher dynamisch oder statisch ausgebildet sein kann.
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Als
Ergänzung oder als Alternative liegt die zweite Anordnung
zumindest abschnittsweise an der ersten Anordnung an. Die erste
Anordnung und die zweite Anordnung besitzen somit aneinander liegende
Stirn- oder Grenzflächen.
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In
einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist wenigstens
ein Teil der zweiten Anordnung, welcher sich insbesondere entlang
der Breite und/oder der Länge der zweiten Anordnung erstreckt,
derart bemessen, so dass dieser Teil bei Raumtemperatur mit einem
entsprechenden Teil der ersten Anordnung. eine Art Spielpassung
oder eine Art Übermaßpassung bildet. Im Detail
wird die Spielpassung oder Übermaßpassung zwischen
der Außenseite der Wände der zweiten Anordnung
und der Innenseite der Wände der ersten Anordnung gebildet.
Ein Zustand bei Raumtemperatur liegt beispielsweise im initialen
Zustand, d. h. beim Einbau der zweiten Anordnung und somit vor der
Inbetriebnahme der Anlage, vor.
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Bei
einer Spielpassung ist der Teil der zweiten Anordnung mit Spiel
innerhalb der ersten Anordnung angeordnet, leicht einzuschieben
und/oder gerade noch verschiebbar ohne geklemmt zu sein. Bei einer Übermaßpassung
sind die genannten Teil unter leichtem Druck ineinander fügbar,
nicht ohne erheblichen Kraftaufwand gegeneinander verschiebbar und/oder
wieder ausbaubar. In beiden Fällen liegt somit zwischen
dem genannten Teil der zweiten Anordnung und dem genannten Teil
der ersten Anordnung oder zwischen der ersten Anordnung und der
zweiten Anordnung bei Raumtemperatur, insbesondere im initialen
Zustand der Anlage, keine stoffschlüssige Verbindung vor.
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Bei
Betriebstemperatur, insbesondere in einem kritischen Temperaturbereich
für Iridium, dehnt sich das entsprechende Teil der zweiten
Anordnung aus und liegt derart an dem entsprechenden Teil der ersten
Anordnung an, so dass zwischen der Außenseite des Teils
der zweiten Anordnung und der Innenseite des entsprechenden Teils
der ersten Anordnung kein Spalt oder im wesentlichen kein Spalt
mehr ausgebildet ist.
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Dabei
kann die Außenseite des Teils der zweiten Anordnung und
die Innenseite des entsprechenden Teils der ersten Anordnung gasdicht,
insbesondere in einem Verbund, aneinanderliegen, so dass eine Oxidation
des Iridium umfassenden Abschnitts durch den Luftsauerstoff ausgeschlossen werden
kann. Sofern ein Verbund vorliegt, kann dieser auch als ein stoffschlüssiger
Verbund vorliegen, der bei einer beispielsweise nach der Inbetriebnahme
erfolgten Abkühlung, zum Beispiel auf Raumtemperatur, weiterhin
vorliegt.
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In
dieser Ausführungsform stellt die Wand der ersten Anordnung
oder die erste Anordnung einen Schutz oder eine Schutzhülle
für die Außenseite des Iridium umfassenden Abschnitts
der zweiten Anordnung bereit, während für die
Innenseite des Iridium umfassenden Abschnitts der zweiten Anordnung die
Schmelze selbst einen wirksamen Schutz oder eine Schutzhülle
bereitstellt.
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Sofern
die Außenseite des Teils der zweiten Anordnung und die
Innenseite des entsprechenden Teils der ersten Anordnung oder die
aneinanderliegenden Stirnfläche der ersten und der zweiten
Anordnung nicht gasdicht aneinanderliegen und eine Oxidation des
Iridium umfassenden Abschnitts möglich ist, so kann zwischen
die Stirnflächen eine definierte Atmosphäre erzeugt
oder eingeleitet werden. Diese definierte Atmosphäre bildet
eine Art fluiden, vorzugsweise gasförmigen, Vorhang, welcher
dynamisch oder statisch ausgebildet sein kann. Zu den Bestandteilen
einer solchen definierten Atmosphäre sei auf die vorstehenden
Textpassagen verwiesen.
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Der
Iridium umfassende Abschnitt weist einen Anteil an Iridium von etwa
50 Gew.% bis 100 Gew.%, bevorzugt von etwa 90 Gew.% bis etwa 100 Gew.%,
besonders bevorzugt von größer als etwa 99 Gew.%
bis 100% Gew.% (Gewichtsprozent) auf. Somit liegt der Iridium umfassende
Abschnitt je nach seiner Zusammensetzung als Iridium oder als Iridiumlegierung
vor. Es sei darauf hingewiesen, dass selbst reines Iridium noch
weitere Bestandteile als Verunreinigungen aufweisen kann. Liegt
der Iridium umfassende Abschnitt als Legierung vor, so weist dieser
beispielsweise zumindest noch Platin, Rhodium, Palladium und/oder
Zirkonium oder wenigstens zwei dieser Elemente als weitere Bestandteile
auf. Die hier genannten Bestandteile sind beispielhaft zu verstehen
und beschränken sich keinesfalls auf die genannte Auswahl.
Gemäß der Erfindung weist der Iridium umfassende
Abschnitt eine Dicke von etwa 0,1 mm bis etwa 10 mm, bevorzugt von
etwa 0,2 mm bis etwa 5 mm, besonders bevorzugt von etwa 0,3 mm bis
etwa 1 mm auf.
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Auf
der einen Seite wird durch das Einhüllen oder Verkapseln
des Iridium umfassenden Abschnitts ein Kontakt des Iridiums mit
der Umgebung, insbesondere mit dem Luftsauerstoff der Atmosphäre
verhindert, so dass insbesondere sogar bei hohen Temperaturen, siehe
dazu nachfolgend, eine Stabilität des Iridiums oder des
Iridium umfassenden Abschnitts gewährleistet werden kann.
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Auf
der anderen Seite ist bei der Verwendung von Iridium als wesentlicher
Bestandteil der Schmelzkontaktfläche oder als Bestandteil
der Verkleidung der ersten Anordnung, die Neubildung von Blasen
nach der Läuterung an der Wand der Vorrichtung zum Transportieren
und/oder Konditionieren, insbesondere im Vergleich zu Platin oder
Platinlegierungen, zumindest reduziert. In einem Erklärungsansatz
wird dieser Effekt auf eine hemmende Wirkung des Iridiums hinsichtlich
der Diffusion von Wasserstoff zurückgeführt.
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Zudem
ist die Bildung von Schlieren durch die metallische Oberfläche
der Schmelzkontaktfläche oder der Verkleidung, insbesondere
im Gegensatz zu einer aus Quarz oder Keramik aufgebauten Schmelzkontaktfläche,
zumindest reduziert.
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Neben
der höheren thermischen Belastbarkeit weist bzw. weisen
Iridium oder Iridium-Legierungen ferner noch eine wesentlich höhere
chemische Beständigkeit gegenüber Glasschmelzen
auf als Platin oder Platin-Legierungen. In vorteilhafter Weise ist selbst
bei hohen Temperaturen der Angriff der Glasschmelzen auf das Metall äußerst
gering. Zudem hat im Glas gelöstes Iridium keinen wesentlichen
färbenden Einfluss im sichtbaren Wellenlängenbereich
und bewirkt somit keine wesentliche Verfärbung der Gläser.
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In
einer Ausführungsform stellt im wesentlichen die gesamte
Oberfläche des Iridium umfassenden Abschnitts, insbesondere
der zweiten Anordnung, eine Schmelzkontaktfläche dar oder
ist eine Schmelzkontaktfläche und steht vorzugsweise mit der
Umgebung nicht in Kontakt.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform stellt im wesentlichen
die gesamte Oberfläche des Iridium umfassenden Abschnitts
eine Schmelzkontaktfläche für Glasschmelzen in
für das Iridium temperaturkritischen Bereichen dar. Der
kritische Temperaturbereich liegt für Iridium bei einer
Temperatur von größer 1000°C, da es ab
dieser Temperatur nicht mehr oxidationsstabil gegenüber
Sauerstoff ist. Solche Temperaturen oder Temperaturbereiche sind,
in Abhängigkeit von der zu verarbeitenden Glasschmelze,
unter anderem insbesondere auch beim Transportieren, Homogenisieren
und/oder Konditionieren einer Glasschmelze von Relevanz.
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Der
Temperaturbereich einer mit der vorliegenden Erfindung zu verarbeitenden
Glasschmelze definiert sich vorliegend über die zu erzielende
Viskosität der Glasschmelze. Die Viskosität liegt
in einem Bereich von etwa 108 dPas bis etwa
101 dPas, bevorzugt von etwa 104 dPas
bis etwa 102 dPas. Die bevorzugte Viskosität
liegt für ein Displayglas, wie beispielsweise das AF37,
in einem Temperaturbereich von etwa 1300°C bis etwa 1700°C.
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Je
nach Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung erfolgt eine Halterung
der zweiten Anordnung durch eine Montage oder Fixierung an der ersten
Anordnung. Sofern jedoch die zweite Anordnung nicht durch die erste
Anordnung getragen oder gehalten werden kann oder soll, erfolgt
die Befestigung der ersten Anordnung an dritte, insbesondere nicht
mit der Schmelze in Kontakt stehende, Bauteile. Bei der Ausführung
dieses Übergangsbereichs sollte dabei beachtet werden,
dass sowohl eine Oxidation von Iridium durch den Luftsauerstoff
als auch eine Kontamination der Schmelze durch das Material des Übergangsbereiches
vermieden werden.
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Um
eine Beeinträchtigung dieses Übergangsbereichs
oder der Glasschmelze selbst zu vermeiden, ist die zweite Anordnung,
insbesondere der Iridium umfassende Abschnitt der zweiten Anordnung,
zumindest abschnittsweise, insbesondere in dem Übergangsbereich
zur umgebenden Atmosphäre, kühlbar oder gekühlt
ausgestaltet. Dadurch soll die Temperatur in diesem Bereich auf
einen unkritischen Wert für Iridium von unter etwa 1000°C
gehalten werden. In einer weiteren Ausführungsform ist
die zweite Anordnung, insbesondere der Iridium umfassende Abschnitt
der zweiten Anordnung, zumindest bereichsweise, insbesondere in
dem Übergangsbereich zur umgebenden Atmosphäre,
derart kühlbar ausgestaltet oder gekühlt, so dass
sich eine Skullkruste auf der Oberfläche des gekühlten
Bereichs der zweiten Anordnung ausbildet. Diese Skullkruste bildet
eine Schutzhülle aus erstarrter Schmelze und somit aus
arteigenenem Material, wodurch eine Kontamination der Schmelze vermieden
wird. Entsprechend können für den Übergangsbereich
auch andere Materialien verwenden werden, da diese nicht in Kontakt
mit der Schmelze treten. In einer weiteren Ausführungsform
weist die zweite Anordnung zumindest bereichsweise, insbesondere
in dem Übergangsbereich zur umgebenden Atmosphäre,
einen verringerten Anteil an Iridium, insbesondere gegenüber
dem Iridium umfassenden Abschnitt der zweiten Anordnung, auf, so
dass dieser Übergangsbereich oxidationsstabil, insbesondere
gegenüber dem Luftsauerstoff, ist. Der Übergangsbereich
weist dabei einen Anteil an Iridium von weniger als etwa 50 Gew.%,
bevorzugt von weniger als etwa 30 Gew.%, besonders bevorzugt von
weniger als etwa 10% Gew.% auf.
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Die
erste Anordnung oder die Wand der ersten Anordnung umfasst ein feuerfestes
Material, vorzugsweise eine Feuerfestkeramik, wie beispielsweise
Quarzal, und/oder Kieselglas. Unter einem feuerfesten Material wird
dabei insbesondere ein Material verstanden, welches eine mit Iridium
oder einer Iridiumlegierung zumindest vergleichbare oder sogar höhere
Temperaturstabilität aufweist. Ein Quarzal ist eine siliziumreiche
Keramik. Die erste Anordnung oder die Wand der ersten Anordnung
umfasst dabei zumindest SiO2, CaO, CeO2, Cr2O3,
Al2O3, MgO, HfO2, ThO2r ZrO2 und/oder TiO2 oder
eine Mischung oder eine Verbindung von zumindest zwei der genannten
Oxide.
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Der
Anlage, in der die erfindungsgemäße Vorrichtung
und/oder das erfindungsgemäße Verfahren eingesetzt
ist bzw. sind, insbesondere der ersten und/oder der zweiten Anordnung,
kann eine Entnahmeeinrichtung, beispielsweise eine Homogenisierungseinrichtung,
nachgeschaltet sein. Als Materialien umfasst die Entnahmeeinrichtung
Metall, Edelmetall, Keramik und/oder Glas. Zudem kann der Anlage,
in der die erfindungsgemäße Vorrichtung oder das
erfindungsgemäße Verfahren eingesetzt ist bzw. sind,
insbesondere der ersten und/oder der zweiten Anordnung, eine Einschmelzeinrichtung
und/oder eine Läutereinrichtung vor- oder nachgeschaltet
sein. Mögliche Materialien für die Einschmelz-
oder die Läutereinrichtung umfassen ebenso Metall, Edelmetall,
Keramik und/oder Glas.
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Die
zweite Anordnung, insbesondere der Iridium umfassende Abschnitt,
und/oder die Schmelze wird konduktiv, vorzugsweise mittels direkter
Widerstandsbeheizung, beheizt. Als Alternative oder als Ergänzung
der konduktiven Beheizung wird die zweite Anordnung, insbesondere
der Iridium umfassende Abschnitt, und/oder die Schmelze induktiv
beheizt. Weiterhin als Alternative oder als Ergänzung zu
den beiden vorstehend benannten Beheizungen wird die zweite Anordnung,
insbesondere der Iridium umfassende Abschnitt, und/oder die Schmelze
mittels Strahlung beheizt.
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Sofern
nicht ausdrücklich Vorrichtungsmerkmale angegeben sind,
entsprechen die genannten Verfahrensmerkmale ebenso Mitteln, welche
zur Ausführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens ausgebildet oder geeignet sind.
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Die
Vorrichtung und das Verfahren gemäß der vorliegenden
Erfindung sind insbesondere geeignet zum Herstellen oder Verarbeiten
von Gläsern wie z. B. Borat- und Lanthanboratgläser,
Phosphatgläser, Schwermetall-Phosphatgläser, Fluorid-Phosphatgläser,
Fluoridgläser, Aluminatgläser, aber auch Borosilkatgläser,
Zinksilikatgläser, Aluminosilikatgläsern, Alumoborosilikatgläser,
bismuth-, und germaniumhaltigen Gläsern oder Gläsern
mit niedrigem Gehalt an polyvalenten Ionen, insbesondere mit einem
Ionenanteil unter 0,01 Gew.-%. Anwendungen finden die genannten
Gläser beispielsweise in optischen Abbildungs- und Belichtungssystemen,
optischen Systemen zur Datenübertragung, optischen Systemen
zur Datenspeicherung, optischen Filtersystemen, Systemen zur Lichtübertragung
und/oder Displayanwendungen, in optischen Glaselementen. Die hier
genannten Gläser und Anwendungen sind beispielhaft zu verstehen
und beschränken sich keinesfalls auf die genannte Auswahl.
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Weiterhin
liegt im Rahmen der vorliegenden Erfindung auch ein Glas, vorzugsweise
ein Display-Glas, welches gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren
oder mittels der erfindungsgemäßen Vorrichtung
herstellbar, insbesondere hergestellt, ist.
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Das
vorstehend genannte Glas zeichnet sich dadurch aus, dass der Einfluß von
möglichen Blaseneinschlüssen vermindert ist, welche
beispielsweise bei der Verwendung von Platin als Hauptbestandteil eines
Systems zum Transportieren, Homogenisieren und/oder Konditionieren
auftreten können. Vorzugsweise weist das Glas keine Blasen
mit einem Blasendurchmesser von größer als etwa
50 μm, bevorzugt von größer als 25 μm,
besonders bevorzugt von größer als 10 μm
auf. Der Blaseneinschluß wird beispielsweise mittels einer
visuellen Untersuchung festgestellt. Dabei wird das Glas mit einer
Unterseite auf einem schwarzen Untergrund plaziert und von der Seite
beleuchtet. Von Oberseite des Glases in Richtung des schwarzen Untergrundes
wird das Glas betrachtet. Die Blasen werden als helle Punkte sichtbar.
Die Größe der Blasen wird mittels einer Skala unter
einem Mikroskop bestimmt. Der Blasendurchmesser im Sinne der vorliegenden
Erfindung kann beispielsweise als Durchmesser einer als kugelförmig
angenommenen Blase bestimmt werden. Auch die längste Erstreckung
der Blase kann zur Bestimmung des Blasendurchmessers herangezogen
werden.
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Neben
einer verbesserten Blasenqualität zeichnen sich die gemäß des
erfindungsgemäßen Verfahrens oder mittels der
erfindungsgemäßen Vorrichtung hergestellten Gläser
durch keinen oder zumindest einen verminderten Eintrag an toxischen oder
gesundheits- oder ökologischbedenklicher Substanzen oder
an unerwünschten färbenden Substanzen, wie beispielsweise
elementarem oder ionischem Platin, aus. Im wesentlichen haben die
vorstehend genannten Substanzen ihren Ursprung in der Verwendung
entsprechender Läutermittel und/oder unter Umständen
auch in einem Eintrag durch das Wandmaterial, welche in Kontakt
mit der Schmelze steht. Demnach weisen die Gläser einen
Eintrag oder Anteil an Arsen von weniger als 0,3 Gew.%, bevorzugt
von weniger als 0,03 Gew.%, besonders bevorzugt von weniger als
0,005 Gew.%, einen Eintrag oder Anteil an Blei von weniger als 0,1
Gew.%, bevorzugt von weniger als 0,01 Gew.%, besonders bevorzugt
von weniger als 0,005 Gew.% und/oder einen Eintrag oder Anteil an
Antimon von weniger als 0,5 Gew.%, bevorzugt von weniger als 0,1
Gew.%, besonders bevorzugt von weniger als 0,025 Gew.% (Gewichtsprozent)
auf. Darüber zeichnet sich das Glas durch einen Anteil
an Platin von weniger als etwa 50 ppm, bevorzugt von weniger als
etwa 20 ppm, besonders bevorzugt von weniger als etwa 10 ppm aus.
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Die
vorliegende Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen
im einzelnen beschrieben, wobei die Merkmale der unterschiedlichen Ausführungsbeispiele
miteinander kombinierbar sind. Hierzu wird auf die beigefügten
Zeichnungen Bezug genommen. Dazu beziehen sich die gleichen Bezugszeichen
in den einzelnen Zeichnungen auf gleiche Teile.
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1 zeigt
beispielhaft einzelne Prozessschritte oder Prozessvorrichtungen
in der Glasherstellung.
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2.a zeigt beispielhaft den schematischen Querschnitt
eines Iridiumsystems mit geschlossener Schmelzoberfläche
des Hauptstroms und indirekter Strahlungsheizung.
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2.b zeigt eine Schnittdarstellung des Iridiumsystems
aus 2.a entlang der Schnittlinie
S.
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3.a zeigt beispielhaft den schematischen Querschnitt
eines Iridiumsystems mit geschlossener Schmelzoberfläche
des Hauptstroms und direkter induktiver Beheizung.
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3.b zeigt eine Schnittdarstellung des Iridiumsystems
aus 3.a entlang der Schnittlinie
S.
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4.a zeigt beispielhaft den schematischen Querschnitt
eines weiteren Iridiumsystems mit offener Schmelzoberfläche
des Hauptstroms und indirekter Strahlungsheizung.
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4.b zeigt eine Schnittdarstellung des Iridiumsystems
aus 4.a entlang der Schnittlinie
S.
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5.a zeigt beispielhaft den schematischen Querschnitt
eines weiteren Iridiumsystems mit geschlossener Schmelzoberfläche
des Hauptstroms und direkter induktiver Beheizung.
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5.b zeigt eine Schnittdarstellung des Iridiumsystems
aus 5.a entlang der Schnittlinie
S.
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6.a zeigt beispielhaft einen schematischen Querschnitt
eines Iridiumsystems mit definierter Atmosphäre.
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6.b zeigt eine Schnittdarstellung des Iridiumsystems
aus 6.a entlang der Schnittlinie
S.
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Detaillierte Beschreibung
der Erfindung
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1 zeigt
beispielhaft einen Ausschnitt einzelner Prozessschritte in der Glasherstellung
und entsprechende Prozesseinrichtungen zum Schmelzen, Transportieren,
Läutern, Homogenisieren und/oder Konditionieren einer Schmelze 1,
vorzugsweise einer Glasschmelze 1 oder einer Glaskeramikschmelze.
Es ist ein schematischer Querschnitt eines Iridiumsystems mit offener
Schmelzoberfläche des Hauptstroms der Glasschmelze und
Strahlungsbeheizung dargestellt.
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Der
erste Prozessschritt in der Glasherstellung stellt das Einschmelzen
der Ausgangssubstanz, des sogenannten Gemenges, in einem Schmelztiegel 2 dar.
Um eine Höchstmaß an Homogenität und Blasenfreiheit
zu erzielen schließt sich im allgemeinen dem Einschmelzen
nachfolgend die Läuterung der Glasschmelze 1 an.
Dies kann in einem getrennten Behälter erfolgen oder auch
in dem Schmelztiegel 2 selbst. Ein wesentliches Ziel der
Läuterung ist die physikalisch und chemisch in der Schmelze
gebundenen Gase aus der Schmelze 1 zu entfernen. Nach Abschluss
der Läuterung soll eine Neubildung von Blasen in der Schmelze
zumindest reduziert oder verhindert werden. Dem Schmelztiegel 2 und/oder der
Läutereinrichtung 2 schließt sich je
nach Ausführungsform eine Läuter- und/oder Konditionier- und/oder
Transporteinrichtung 3 an, über welche die Glasschmelze 1 einer
Homogenisierungseinrichtung 4 und letztendlich einem Speiser 5 zugeführt
wird. Nachfolgend wird die vorliegende Erfindung beispielhaft an
einem Schmelztiegel 2 und einer Läutereinrichtung 2 und
an einer Konditionier- und/oder Transporteinrichtung 3 illustriert.
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Im
weiteren zeigen die 2.a bis 6.b jeweils
einen detaillierten Ausschnitt der in 1 dargestellten
Anlage in verschiedenen Ausführungsformen. Die Wände
eines Bauteils 20, 30 sind je nach Ausführungsform
als Seitenwände 21, 31, Boden 22, 32 und/oder
Decke 23, 33 ausgestaltet. Die erste Anordnung 20 und
die zweite Anordnung 30 zur Aufnahme der Glasschmelze 1 erstrecken
sich in 1 über den Einschmelz-
und Läuterbereich 2, den Transport- und/oder Konditionierbereich 3 und
den Homogenisierungsbereich 4.
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Die
erste Anordnung 20 zur Aufnahme einer Schmelze 1 wird
im Einschmelz- und Konditionierbereich 2 durch die seitlichen
Wände 21 und den Boden 22 des Schmelztiegels 2 und
der Läutereinrichtung 2, im Transport- und/oder
Konditionierbereich 3 durch die nicht sichtbaren seitlichen
Wände 21 und den Boden 22 der Transport-
und/oder Konditioniereinrichtung 3 und im Homogenisierungsbereich 4 durch
die seitlichen Wände 21 und den Boden 22 der
Homogenisierungseinrichtung 4 gebildet. Je nach Ausführungsform
kann bzw. können die erste Anordnung 20 und die
zweite Anordnung 30 zudem noch eine Decke 23, 33 aufweisen.
Die erste Anordnung 20, insbesondere die Wände 21,
der Boden 22 und/oder die Decke 23 der ersten
Anordnung 20, wird bzw. werden durch feuerfeste Materialien 8 gebildet.
Entsprechend wird die erste Anordnung 20 nachfolgend auch als
Feuerfestbauteil 20 bezeichnet.
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Die
in den 2.a, 2.b. 4.a und 4.b dargestellte
Schmelze 1 besitzt eine, insbesondere gegenüber
der Umgebung, offene Schmelzoberfläche und steht in Kontakt
mit der Umgebung oder Atmosphäre. Dagegen ist die Schmelzoberfläche
der in den 3.a, 3.b, 5.a und 5.b dargestellten
Anlagen, insbesondere gegenüber der Umgebung, aufgrund
der vorhandenen Decke 23 geschlossen.
-
Die
einen Raum zur Aufnahme der Glasschmelze 1 definierende
erfindungsgemäße zweite Anordnung 30 ist
innerhalb der ersten Anordnung 20 positioniert. Die zweite
Anordnung 30 wird oder die Wände 31, 32, 33 der
zweiten Anordnung 30 werden vorliegend vorzugsweise vollständig
durch den Iridium umfassenden Abschnitt 6 gebildet. Entsprechend wird
die zweite Anordnung 30 nachfolgend auch als Iridiumbauteil 30 bezeichnet.
In einer Ausführungsform besteht die zweite Anordnung 30 sogar
aus Iridium. Vorliegend wird eine Anordnung als aus Iridium bestehend
bezeichnet, wenn der Iridiumanteil einen Wert von größer
als etwa 90 Gew.%, bevorzugt von größer als etwa
98 Gew.% (Gewichtsprozent) aufweist.
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Wie
beispielsweise in 1 dargestellt, kann das Iridiumbauteil 30 dabei
so ausgeführt sein, dass die zu verarbeitende Schmelze 1, 42 eine
offene Schmelzoberfläche gegenüber der Umgebung, wie
der Luftatmosphäre, aufweist. Wie in 2.a beispielhaft dargestellt, kann es aber auch
keine freien Schmelzoberflächen des eigentlichen Schmelzvolumens 1, 42 zur
Umgebung hin geben. In diesem Fall ist das Iridiumbauteil 30 an
seiner Außenseite 34 komplett mit einer Schmelzschutzschicht
umgeben. In einer erfindungsgemäßen Ausführungsform
ist die Schmelzkontaktfläche oder sind die Innenseite 35 des
Iridiumbauteils 30 und die Außenseite 34 des
Iridiumbauteils 30 in allem temperaturkritischen Bereichen,
insbesondere in einem Temperaturbereich von größer
als etwa 1000°C, mit Schmelze 1 bedeckt.
-
Aus
der Gesamtheit aller Figuren ist ersichtlich, dass durch einen möglichen
modularen Charakter ein nachträglicher Einbau der erfindungsgemäßen
Vorrichtung und/oder die Verwendung des erfindungsgemäßen
Verfahrens in bereits bestehende bzw. in bestehenden Anlagen möglich
ist. Ein nachträglicher Einbau in eine Anlage oder die
Anwendung der erfindungsgemäßen Lehre in einer
Anlage, welche einen Schmelztiegel 2, eine Läutereinrichtung 2, eine
Transporteinrichtung 3, eine Konditionierungseinrichtung 3 und/oder
eine Homogenisierungseinrichtung 4 umfasst, ist denkbar.
Dies ist exemplarisch in 1 dargestellt. Unter Homogenisieren
wird insbesondere die Auflösung und gleichmäßige
Verteilung aller Bestandteile sowie die Beseitigung von Schlieren
verstanden.
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Die
Gesamtheit aller Figuren zeigt als Beispiel die Verkleidung einer
keramischen Rinne, insbesondere ausgebildet als erste Anordnung 20,
mit Iridium. Eine Verkleidung wird vorzugsweise durch die zweite
Anordnung gebildet und kann von der Innenseite 25 der ersten
Anordnung 20 beabstandet oder an der Innenseite 25 der
ersten Anordnung 20 anliegend sein. Die Verkleidung ist
oder wirkt als eine Art Mantel oder eine Art Abdeckung, welcher
bzw. welche die Innenseite 25 der ersten Anordnung 20 zumindest
abschnittsweise bedeckt. Dadurch schützt die Verkleidung
die Wand der ersten Anordnung einerseits vor einem Abtrag durch
die Schmelze und andererseits die weiter zu verarbeitende Schmelze, insbesondere
den Hauptstrom 42, vor einer Beeinträchtigung,
beispielsweise mittels Material-, Blasen- und/oder Schliereneintrag,
durch Innenseite 25 der ersten Anordnung 20.
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In 1 wird
die zweite Anordnung 30 im Einschmelz- und Konditionierbereich 2 durch
den Boden 32 und die seitlichen Wände 31,
im Transport- und/oder Konditionierbereich 3 durch den
Boden 32 und die seitlichen Wände 31 und
im Homogenisierungsbereich 4 durch den Boden 32 und
die seitlichen Wände 31 gebildet. Die zweite Anordnung 30 erstreckt
sich somit über alle drei genannten Bereiche 2, 3, 4.
Die zweite Anordnung 30 kann dabei ein- oder mehrteilig
aufgebaut sein.
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Beim
Einschmelzen des Gemenges in dem Schmelztiegel 2 wird der
Glasstrom 1 in einen ersten Volumenstrom 42, welcher
nachfolgend auch als Hauptstrom 42 bezeichnet wird, und
in einen zweiten Volumenstrom 43, welcher nachfolgend auch
als Nebenstrom 43 bezeichnet wird, aufgespalten oder aufgeteilt.
Der Nebenstrom 43 umgibt den äußeren
Bereich 34 der zweiten Anordnung 30 oder fließt
in den durch die innere Seite 25 der Wand 21, 22 der
ersten Anordnung 20 und die äußere Seite 34 der
Wand 31 der zweiten Anordnung 30 gebildeten Zwischenraum 41.
Somit gelangt die Schmelze 1, welche die Außenfläche 34 bedeckt, über
einen Zulauf 10, der sich am Anfang des Bauteils befindet,
zwischen das Iridiumbauteil 30 und das Feuerfestbauteil 20.
Dieser Nebenstrom 43 übernimmt in einer Ausführungsform
die eigentliche Schutzfunktion. Dieser Schutz bezieht sich zum einen
auf den Schutz einer Oxidation des in der Wand 31, 32, 33 der
zweiten Anordnung 30 enthaltenen Iridiums. Zum anderen
bezieht sich dieser Schutz auch auf den Schutz der Schmelze 1 vor
einer Kontamination durch einen möglichen Eintrag von Bestandteilen
der Wand 21, 22, 23 der ersten Anordnung 20 in
die Schmelze 1. Dieser Nebenstrom 43 wird den
weiteren Verarbeitungsschritten nicht zugeführt sondern
fließt über den Ausgang 11 ab bzw. steht
im Außenraum still. Entsprechend wird die Schmelze 1,
welche die Außenfläche 34 bedeckt, nicht
wieder dem Schmelzfluss zugeführt.
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Dagegen
fließt der Hauptstrom 42 im Innenbereich der zweiten
Anordnung 30 und wird anschließend der weiteren
Verarbeitung, beispielsweise dem dargestellten Speiser 5,
zugeführt. Ein Kontakt des Hauptstroms 42 mit
dem Wandmaterial der ersten Anordnung 20 kommt somit nicht
zustande. Der Hauptstrom 42 kommt ausschließlich
mit den Iridium aufweisenden Wänden 31, 32, 33 der
zweiten Anordnung 30 in Kontakt. Durch die hohe chemische
und thermische Beständigkeit des Iridiums gegenüber der
Glasschmelze 1, insbesondere im Vergleich zu dem herkömmlich
als Auskleidungs- oder Massivmaterial verwendeten Material Platin,
können ein verringerter Materialeintrag und somit eine
verbesserte Reinheit und Qualität der Glasschmelze 1 und
letztendlich eines herzustellenden Bauteils aus Glas erzielt werden.
Die verbesserte Qualität zeichnet sich auch durch einen
zumindest verringerten Blaseneintrag aus, da ein erneuter Eintrag
an Blasen, vorzugsweise nach der Läuterung und insbesondere
im Vergleich zu Platin, zumindest reduziert werden kann.
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Somit
kann durch die Verwendung von Iridium, insbesondere in den temperaturkritischen
Abschnitten der Glasherstellung, eine verbesserte Qualität
des herzustellenden Glases durch eine reduzierte Verunreinigung
der Schmelze 1 erreicht werden.
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Die
Beheizung der in 1 gezeigten Anlage erfolgt mittels
Strahlung, insbesondere über eine indirekte Strahlungsbeheizung 12 durch
die Schmelze hindurch mittels Infrarot-Strahlungselemente oder fossiler
Brenner. Je nach dem, ob das Behältnis aus Iridium offen
oder geschlossen ausgeführt ist, wird das Bauteil 30 entweder
durch die die Außenseite 34 bedeckende Schmelze 1 oder
durch die Schmelze 1 im Inneren des Behälters
oder der zweiten Anordnung 30 geheizt.
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In
der in 1 dargestellten Ausführungsform ist die
zweite Anordnung 30 an oder über ein nicht dargestelltes
drittes Bauteil befestigt. Die Verbindung zum dritten Bauteil erfolgt
vorzugsweise an dem Übergangsbereich 40 zwischen
der Schmelze 1 und der Atmosphäre oder Umgebung.
Um eine Beschädigung dieses Übergangsbereiches 40 durch Oxidation
zu verhindern, ist dieser Bereich 40 kühlbar ausgestaltet,
so dass die Temperatur auf einen Wert unterhalb des kritischen Wertes
für Iridium gehalten werden kann. In einer anderen Ausführungsform
ist dieser Übergangsbereich 40 derart gekühlt,
so dass sich eine Skullkruste ausbildet. In einer weiteren Ausführungsform
weist dieser Übergangsbereich 40 einen gegenüber
den Wänden 31, 32, 33 der zweiten Anordnung 30 reduzierten
Gehalt an Iridium auf. Der Gehalt ist derart reduziert, dass eine
Oxidation insbesondere durch Sauerstoff ausgeschlossen werden kann
oder zumindest deutlich reduziert ist, um eine ausreichende Standzeit
der Anlage zu gewährleisten.
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Beispielsweise
kann es sich auch um ein Material oder um eine Legierung handeln,
welches bzw. welche überhaupt kein Iridium enthält,
wie beispielsweise Platin oder PtRh. Dieser Übergangsbereich 40 kann
beispielsweise mittels einer Schweiß- oder Steckverbindung
an den Wänden 31, 32, 33 der zweiten
Anordnung 30 befestigt oder angeordnet sein.
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Im
Gegensatz zu 1 erstrecken sich die in den 2.a bis 6.b dargestellten
zweiten Anordnungen 30 im wesentlichen nur über
den Transport- und/oder Konditionierbereich 3. Das Schmelzgut
wird jeweils in dem Einschmelzbereich 2 eingeschmolzen
und geläutert. Die Schmelze 1 fließt
dann in den Transport- und/oder Konditionierbereich 3.
Der Transport- und/oder Konditionierbereich 3 entspricht hier
der ersten Anordnung 20, welche einen Raum zur Aufnahme
der Schmelze 1 definiert. In den 2.a und 2.b wird die erste Anordnung 20 durch
den Boden 22 und die Seitenwände 21 gebildet.
Die erste Anordnung 20 entspricht vorliegend einer offenen
Rinne. Dagegen wird in den 3.a und 3.b die erste Anordnung 20 durch den
Boden 22, die Seitenwände 21 und die
Decke 23 gebildet. Die erste Anordnung 20 entspricht
in dieser Ausführungsform einer geschlossenen Rinne oder
einer Röhre.
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Die
zweite Anordnung 30 ist jeweils innerhalb der ersten Anordnung 20 angeordnet.
Die zweite Anordnung 30 oder die seitlichen Wände 31,
der Boden 32 und/oder die Decke 33 der zweiten
Anordnung 30 wird bzw. werden vollständig von
dem Iridium umfassenden Abschnitt 6 gebildet.
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Die
aus dem Einschmelzbereich 2 in den Transport- und/oder
Konditionierbereich 3 einfließende Schmelze 1 wird
in einen ersten Volumenstrom 42, welcher nachfolgend auch
als Hauptstrom 42 bezeichnet wird, und in einen zweiten Volumenstrom 43,
welcher nachfolgend auch als Nebenstrom 43 bezeichnet wird,
aufgespalten oder aufgeteilt. Der Nebenstrom 43 umfließt
oder umgibt den äußeren Bereich 34 der
zweiten Anordnung 30 und/oder fließt in den durch
die innere Seite 25 der Wand 21, 22, 23 der
ersten Anordnung 20 und die äußere Seite 34 der Wand 31, 32, 33 der
zweiten Anordnung 30 gebildeten Zwischenraum 41.
Dieser Nebenstrom 43 übernimmt die Schutzfunktion
mit den bereits vorstehend ausgeführten Merkmalen und wird
den weiteren Verarbeitungsschritten nicht zugeführt sondern
fließt in dem dargestellten dynamischen System über
den Ausgang 11 ab oder steht still in einem statischen System.
Dagegen fließt der Hauptstrom 42 in den Innenbereich
der zweiten Anordnung 30 und wird anschließend
der weiteren Verarbeitung, beispielsweise der dargestellten Homogenisierungseinrichtung 4, zugeführt.
In dieser Ausführungsform ist sowohl die dem Außenraum 26 der
ersten Anordnung 20 zugewandte Außenseite 34 des
Iridium umfassenden Abschnitts 6 oder der Wand 31, 32, 33 der
zweiten Anordnung 30 durch die Schmelze 1 als
auch die dem Innenraum 27 der ersten Anordnung 20 zugewandte Innenseite 35 des
Iridium umfassenden Abschnitts 6 oder der Wand 31, 32, 33 der
zweiten Anordnung 30 durch die Schmelze 1 selbst
vor einer Oxidation, insbesondere durch den Luftsauerstoff, geschützt.
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In
der in den 2.a und 2.b dargestellten
Ausführungsform ist die zweite Anordnung 30 über
den oder an dem Boden 22 der Homogenisierungseinrichtung 4 befestigt
und/oder an oder über ein nicht dargestelltes drittes Bauteil.
Die Verbindung zum dritten Bauteil erfolgt an dem Übergangsbereich 40 zwischen
der Schmelze 1 und der Atmosphäre. Für
mögliche Ausführungsformen des Übergangsbereiches 40 sei
auf die vorstehend beschriebenen Ausführungen zu 1 verwiesen.
Dagegen ist in der in den 3.a und 3.b dargestellten Ausführungsform die
zweite Anordnung 30 zum einen an der Decke 23 und
zum anderen an dem Boden 22 der Homogenisierungseinrichtung 4 befestigt.
Die gesamte Oberfläche der in 3.a und 3.b dargestellten Ausführungsform der
zweiten Anordnung 30 ist von der Schmelze 1 umgeben
oder umhüllt.
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Die
Beheizung der in 2.a und 2.b gezeigten
Anlage erfolgt mittels Strahlung, insbesondere über eine
indirekte Strahlungsbeheizung 12 durch die Schmelze hindurch
mittels Infrarot-Strahlungselemente und/oder fossiler Brenner. Je
nach dem, ob das Behältnis aus Iridium oder das Iridiumbauteil 30 offen
oder geschlossen ausgeführt ist, wird das Iridiumbauteil 30 entweder
durch die die Außenseite 34 bedeckende Schmelze 1 oder
durch die Schmelze 1 im Inneren des Behälters,
hier der zweiten Anordnung 30, geheizt. Die in den 2.a und 2.b gezeigte
Anlage besitzt eine freie Schmelzoberfläche. Im Detail
bezieht sich die freie Schmelzoberfläche auf den Nebenstrom 43,
welcher das Iridiumbauteil 30 mit einer Schmelzschutzschicht
umgibt. Dagegen besitzt der Hauptstrom 42 keine freie Schmelzoberfläche
sondern wird durch die Wände 31, 32, 33 des
Iridiumbauteils 30 eingeschlossen. Das Iridiumbauteil 30 oder
die erste Anordnung 30 entspricht einer in der Transport-
und/oder Konditioniereinrichtung 3 angeordneten Röhre,
welche zum Homogenisierungsbereich 4 hin an den Übergangsbereich 40 und
den Boden 22 grenzt.
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Gibt
es eine zur umgebenden Schmelzatmosphäre offene Oberfläche
der Schmelze 1, wie beispielsweise in den 1, 2.a und 2.b illustriert,
wirkt das Iridiumbauteil 30 oder das Iridiumgefäß nur
als eine Art Wanne oder offene Rinne. Es ist in diesem Fall eine
Ausführung des Iridiumbauteils 30 dahingehend
möglich, dass das gesamte Iridiumbauteil 30 mit
Schmelze 1 umgeben ist. Das Iridiumbauteil 30 endet
in diesem Falle etwas unterhalb des Schmelzstandes. Der Übergang 40 des
Behältnisses an die umgebende Atmosphäre erfolgt
in diesem Fall beispielsweise über das umgebende Feuerfestmaterial 8 oder über
gekühlte Flächen. In diesem Fall wäre auch
weiterhin die maximale Einsatztemperatur der Anlage durch das Iridium
bestimmt und nicht durch das Feuerfestmaterial 8. Weiterhin
sind aber auch Ausführungen des nach oben hin offenen Bauteils oder
Iridiumbauteils 30 durch einen Übergang vom reinen
oxidationsempfindlichen Iridium hin zu einer oxidationsstabilen
Iridiumlegierung möglich. Dabei wird in den Übergangsbereich 40 der
Schmelze 1 zur Atmosphäre beispielsweise eine
oxidationsstabile Iridiumlegierung eingefügt. Diese wird
dicht mit dem darunter liegenden Iridiumbauteil 30 beispielsweise mittels
Schweißen verbunden. Somit ist ein nahezu problemloser Übergang
des oxidationsempfindlichen Iridiumbauteils 30 auch an
oxidierende Verhältnisse im Oberofen der Anlage möglich.
Die 3-Phasengrenze liegt in diesem Falle ebenfalls im Bereich der
oxidationsbeständigen Legierung.
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Im
Unterschied zu den 2.a und 2.b handelt
es sich bei der in den 3.a und 3.b dargestellten Anlage um ein geschlossenes
System, welches induktiv über die um den Transport- und/oder
Konditionierbereich 3 angeordneten Spulen 13 beheizt
wird. Dabei erfolgt die Beheizung über eine induktive Beheizung
des Iridiumbauteils 30 selbst. Dazu ist ein geeigneter
Induktor 13 um das vorzugsweise ringförmig geschlossene
Iridiumbauteil 30 und das Feuerfestbauteil 20 angeordnet,
der das Iridiumbauteil 30 beheizt. Sowohl der Nebenstrom 43 als
auch der Hauptstrom 42 besitzen keine freie Schmelzoberfläche.
Das Iridiumbauteil 30 oder die zweite Anordnung 30 entspricht
einer in der Transport- und/oder Konditioniereinrichtung 3 vorzugsweise
koaxial angeordneten Röhre, welche ebenso zum Homogenisierungsbereich 4 hin
an den Übergangsbereich 40 und den Boden 22 grenzt.
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Alternativ
oder ergänzend zu den vorstehend beschriebenen Varianten
kann die Beheizung auch mittels einer vorzugsweise direkten Widerstandsbeheizung
des Iridiumbauteils 30 selbst erfolgen. Dazu werden lediglich
die notwendigen Stromversorgungsleitungen durch die die Außenseite 34 bedeckende Schmelze 1 geführt
werden. Das kann beispielsweise über gekühlte
Flansche aus Edelmetall geschehen.
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Die 4.a und 4.b zeigen
ein weiteres Iridiumsystem mit offener Schmelzoberfläche
des Hauptstroms 42 und indirekter Strahlungsheizung 12.
Der Aufbau der hier dargestellte ersten Anordnung 20 entspricht
im wesentlichen, mit Ausnahme des Auslaufes 11, dem Aufbau
der in den 2.a und 2.b gezeigten
ersten Anordnung 20. Der Querschnitt der dargestellten
Anordnungen 20, 30 ist beispielhaft rechteckig
gewählt.
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Die
zweite Anordnung 30 wird dabei in die erste Anordnung 20 gelegt
oder liegt in der ersten Anordnung 20. In einer Ausführungsform
ist die zweite Anordnung 30 derart bemessen, dass sie bei
Raumtemperatur, beispielsweise bei der Inbetriebnahme der Anlage,
mit der ersten Anordnung 20 eine Art Spielpassung bildet.
Im Detail wird die Spielpassung zwischen der Außenseite 34 der
Seitenwände 31 und dem Boden 32 der zweiten
Anordnung 30 und der Innenseite 25 der Seitenwände 21 und
dem Boden 22 der ersten Anordnung 20 gebildet.
Bei der Wahl der Abmessungen der zweiten Anordnung 30 ist
auch eine entsprechende Längen- und Querausdehnung unter
Erwärmung berücksichtigt. Im Betriebszustand der
Anlage liegt die Außenseite 34 der zweiten Anordnung 30 an
der Innenseite 25 der ersten Anordnung 20 an.
Insbesondere durch eine Rauigkeit und/oder Unebenheiten der Außenseite 34 der
zweiten Anordnung 30 und/oder der Innenseite 25 der ersten
Anordnung 20 werden Zwischenräume 41 gebildet,
welcher mit der Glasschmelze 1 füllbar sind.
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Nachdem
die Anlage in Betrieb gesetzt ist, füllen sich die ausgebildeten
Zwischenräume 41 mit der Glasschmelze 1.
Die durch die Glasschmelze 1 in den Zwischenräumen 41 verdrängte
Luft kann dann über den Ablauf 11 entweichen.
Somit dient der Ablauf 11 hierbei im wesentlichen nicht
zum Abführen des Nebenstromes 43 sondern übernimmt
die Funktion einer Art Entlüftungsöffnung, welche
nach einem einmaligen Befüllen des Zwischenraumes 41 verschlossen
werden kann. Entsprechend beschreiben die 4.a und 4.b dann ein statisches System.
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Auf
der einen Seite bildet die zweite Anordnung 30 eine Verkleidung
der ersten Anordnung 20, wodurch ein Kontakt der im weiteren
zu verarbeitenden Schmelze 1, insbesondere des Hauptstroms 42, mit
der Wand 21, 22, 23 der ersten Anordnung 20 verhindert
wird. Dadurch werden beispielsweise in den Wänden 21, 22, 23 der
ersten Anordnung 20 vorhandene Fugen 28, welche
eine Ursache für die Entstehung von Schlieren und/oder
Blasen in der Glasschmelze 1 sein können, wirksam
verschlossen oder abgedichtet. Fugen 28 sind insbesondere
dann vorhanden, wenn eine Anordnung 20, 30 aus
mehreren zusammengefügten Einzelteilen besteht. Auf der
anderen Seite bildet die erste Anordnung 20 in Verbindung
mit dem die Zwischenräume 41 ausfüllenden Nebenstrom 43 der
Glasschmelze 1 einen wirksamen Schutz der Außenseite 34 der
zweiten Anordnung 30, insbesondere des Iridiums, vor einer
möglichen Oxidation durch den Luftsauerstoff. Sowohl die Innenseite 35 als
auch die Außenseite 34 der zweiten Anordnung 30 werden
durch die Glasschmelze 1 selbst verkapselt und somit eine
Oxidation des Iridiums verhindert. Die Innenseite 35 ist
dabei vollständig von der Glasschmelze 1 verkapselt.
Die Oberseite der Seitenwand 31 der zweiten Anordnung 30 befindet
sich vollständig unterhalb der Schmelzoberfläche.
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Die 5.a und 5.b zeigen
beispielhaft den schematischen Querschnitt eines weiteren Iridiumsystems
mit geschlossener Schmelzoberfläche des Hauptstroms 42 und
direkter induktiver Beheizung 13. Der Aufbau der hier dargestellten
ersten Anordnung 20 entspricht im wesentlichen, mit Ausnahme
des Auslaufes 11, dem Aufbau der in den 3.a und 3.b gezeigten
ersten Anordnung 20. Der Querschnitt der dargestellten
Anordnungen 20, 30 ist beispielhaft kreisförmig
dargestellt.
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Die
zweite Anordnung 30 wird dabei in die erste Anordnung 20 gelegt
oder eingeführt. In einer Ausführungsform ist
die zweite Anordnung 30 derart bemessen, dass sie bei Raumtemperatur,
beispielsweise bei der Inbetriebnahme der Anlage, mit der ersten
Anordnung 20 eine Art Übermaßpassung
bildet. Im Detail wird die Übermaßpassung zwischen der
Außenseite 34 der Seitenwände 31 und
dem Boden 32 der zweiten Anordnung 30 und der
Innenseite 25 der Seitenwände 21 und
dem Boden 22 der ersten Anordnung 20 gebildet.
Bei der Wahl der Abmessungen der zweiten Anordnung 30 ist
ebenso eine entsprechende Längen- und Querausdehnung unter
Erwärmung berücksichtigt.
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Im
Betriebszustand der Anlage dehnt sich die zweite Anordnung 30 derart
stärker als die erste Anordnung 20 aus, so dass
zwischen der Außenseite 34 der zweiten Anordnung 30 und
der Innenseite 25 der ersten Anordnung 20 kein
Spalt oder im wesentlichen kein Spalt mehr ausgebildet ist.
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In
einer Ausführungsform liegen die Außenseite 34 der
zweiten Anordnung 30 und die Innenseite 25 der
ersten Anordnung 20 gasdicht aneinander, so dass eine Oxidation
des Iridiums an der Außenseite 34 der zweiten
Anordnung 30 vermieden werden kann. Auf der einen Seite
bildet die zweite Anordnung 30 eine Verkleidung der ersten
Anordnung 20, wodurch ein Kontakt der im weiteren zu verarbeitenden Schmelze 1,
insbesondere des Hauptstroms 42, mit der Wand 21, 22, 23 der
ersten Anordnung 20 verhindert wird. Auf der anderen bildet
die erste Anordnung 20 einen Oxidationsschutz der Außenseite 34 der zweiten
Anordnung 30, insbesondere des Iridiums.
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Die 6.a und 6.b zeigen
beispielhaft einen schematischen Querschnitt eines Iridiumsystems
mit definierter Atmosphäre 50. Der Aufbau der hier
dargestellten ersten Anordnung 20 entspricht im wesentlichen,
mit Ausnahme der zusätzlich angeordneten Decke 23 und
der Höhe des Schmelzstandes, dem Aufbau der in den 4.a und 4.b gezeigten
ersten Anordnung 20. Die Oberseite der zweiten Anordnung 30,
welche als Material Iridium umfasst, befindet sich oberhalb der
Schmelzoberfläche und ist somit der Atmosphäre
des durch die Schmelzoberfläche und die Decke 23 gebildeten
Raumes ausgesetzt. Um eine mögliche Oxidation des Iridiums
zu verhindern, ist in dem besagten Raum eine definierte, insbesondere
nicht oxidierende, Atmosphäre 50, beispielsweise
eine Stickstoffatmosphäre, angelegt.
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Zwischen
der Außenseite 34 der zweiten Anordnung 30 und/oder
der Innenseite 25 der ersten Anordnung 20 gebildete
Zwischenräume 41 können sich gegebenenfalls
nicht vollständig mit der Glasschmelze 1 füllen.
Die Glasschmelze 1 kann dann die Zwischenräume 41 nur
an dem Scheidepunkt von Hauptstrom 42 und Nebenstrom 43,
d. h. am Eintritt 10, abdichten. Der in den Zwischenräumen 41 vorhandene
Sauerstoff kann die Außenseite 34 der zweiten
Anordnung 30 oxidieren. Eine wesentliche Oxidation bis
hin zum Kollabieren der zweiten Anordnung 30 kann jedoch
verhindert werden. Zudem kann noch in die Zwischenräume 41 ein
nichtoxidierendes Fluid eingelassen oder eine nichtoxidierende Atmosphäre,
beispielsweise mittels der definierten Atmosphäre 50,
angelegt werden, um eine Oxidation des Iridiums zu unterbinden.
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Zusammenfassend
wird gemäß einem Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung für den Schutz eines Behälters
oder Bauteils aus Iridium oder einer hochiridiumhaltigen Legierungen
oder eines Iridium umfassenden Abschnittes 6, vorzugsweise
mit einem Anteil von über 50 Gew.%, vor Oxidation, insbesondere
durch den Luftsauerstoff, die Schmelze 1 selbst verwendet.
Das erfolgt insbesondere mittels einer speziellen Verfahrensführung.
Wie in den 1 bis 3.b illustriert,
wird ein Teil des aufzubewahrenden Schmelzvolumens 1 an
die Außenseite 34 des Iridium umfassenden Behälters
oder der Iridium umfassenden zweiten Anordnung 30 gelenkt
und bedeckt diesen bzw. diese dadurch vorzugsweise vollständig.
Die zweite Anordnung 30 wird dabei vollständig
durch den Iridium umfassenden Abschnitt 6 gebildet. Das
Iridiumbauteil 30 ist in allen Bereichen, in denen es kritischen
Temperaturen ausgesetzt ist, vollständig mit Schmelze 1 bedeckt
und ist dadurch vor einer Oxidation durch Luftsauerstoff geschützt.
Zugleich wird es durch die Führung des Schmelzflusses 1 vermieden,
dass es zu einem Rückeintrag der die Außenseite 34 bedeckenden Schmelze 43 in
den Hauptstrom 42 kommt. Dadurch können im wesentlichen
sämtliche potentiell möglichen Verunreinigungen
zumindest deutlich reduziert oder sogar ausgeschlossen werden. Um dieses Schutzverfahren
zu ermöglichen, wird vorzugsweise das gesamte zu schützende
Bauteil, hier die zweite Anordnung 30, in ein ähnlich
geformtes Bauteil, hier die erste Anordnung 20, aus einem
Feuerfestwerkstoff oder -material 8 eingebaut. Eine aufwendige
Anpassung des Iridiumbauteils 30 an das Feuerfestbauteil 20 ist
dabei weder notwendig noch erwünscht, da zum Oxidationsschutz
des Irdiumbauteils 30 die Schmelze 1 in den Zwischenraum 41 zwischen
Iridiumbauteil 30 und Feuerfestbauteil 20 fließen
soll. Die Konstruktion ist dabei so ausgelegt, dass der Volumenanteil 43 der
Schmelze 1, der zum Oxidationsschutz der Außenseite 34 dient,
im Anfangsbereich des Bauteils 30 entnommen und um das
Bauteil 30 herum geführt wird. Am Ende des Bauteils 30 existieren
lediglich Ausläufe 11 oder sogenannte Entlüftungsöffnungen,
die gewährleisten, dass der Volumenanteil 43 der
Schmelze 1, der zum Oxidationsschutz der Außenseite 34 dient,
die gesamte Außenseite 34 des Bauteils 30 bedeckt.
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Es
ist dem Fachmann ersichtlich, dass die vorstehend beschriebenen
Ausführungsformen beispielhaft zu verstehen sind. Die Erfindung
ist nicht auf diese beschränkt sondern kann in vielfältiger
Weise variiert werden kann, ohne den Geist der Erfindung zu verlassen.
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- 1
- Schmelze
oder Glasschmelze
- 2
- Einschmelzbereich
oder Schmelztiegel und/oder Läuterbereich oder Läutereinrichtung
- 3
- Läuter-
und/oder Transport- und/oder Konditionierbereich oder Läuter-
und/oder Transport- und/oder Konditioniereinrichtung
- 4
- Homogenisierungsbereich
oder Homogenisierungseinrichtung
- 5
- Speiser
- 6
- Iridium
oder Iridium umfassender Abschnitt
- 7
- Qxidationsbeständiges
Edelmetall oder oxidationsbeständige Legierung
- 8
- Feuerfestmaterial
- 9
- Schmelze
zum Oxidationsschutz
- 10
- Einlauf
der Schmelze zum Oxidationsschutz
- 11
- Auslauf
der Schmelze zum Oxidationsschutz
- 12
- Strahlungsbeheizung
- 13
- Induktor
oder Spule
- 20
- Erste
Anordnung oder Feuerfestbauteil
- 21
- Seitenwand
der ersten Anordnung
- 22
- Boden
der ersten Anordnung
- 23
- Decke
der ersten Anordnung
- 24
- Außenseite
der ersten Anordnung
- 25
- Innenseite
der ersten Anordnung
- 26
- Außenraum
der ersten Anordnung
- 27
- Innenraum
der ersten Anordnung
- 28
- Fuge
in dem Boden, der Decke und/oder der Seitenwand der ersten Anordnung
- 30
- Zweite
Anordnung oder Iridiumbauteil
- 31
- Seitenwand
der zweiten Anordnung
- 32
- Boden
der zweiten Anordnung
- 33
- Decke
der zweiten Anordnung
- 34
- Außenseite
der zweiten Anordnung
- 35
- Innenseite
der zweiten Anordnung
- 40
- Übergangsbereich
Schmelze-Umgebung
- 41
- Zwischenraum
- 42
- Erster
Volumenstrom oder Hauptstrom
- 43
- Zweiter
Volumenstrom oder Nebenstrom
- 50
- Definierte
Atmosphäre
- S
- Schnittlinie
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - DE 1906717 [0012, 0014]
- - JP 02022132 A [0012, 0014]
- - WO 2005/007589 A1 [0014]
- - JP 2002167674 A [0016]
- - US 6632086 B1 [0017]