DE10132348A1

DE10132348A1 - Masken- und Substrathalteranordnung

Info

Publication number: DE10132348A1
Application number: DE2001132348
Authority: DE
Inventors: Markus Schwambera; Florenz Kittel; Walter Franken
Original assignee: Aixtron SE
Current assignee: Aixtron SE
Priority date: 2001-07-04
Filing date: 2001-07-04
Publication date: 2003-02-06
Also published as: WO2003004719A1

Abstract

Die Erfindung betrifft einen Halter für ein in der Prozesskammer einer Besichtungsanlage anzuordnendes Substrat (1) und zugehörigen Halter für eine über dem Substrat in Kontakt oder geringem Abstand anzuordnende Maske (2) zur strukturierten Beschichtung des Substrates (1), wobei der Maskenhalter (3) zum Substrathalter (4) eine definierte Lage einnimmt. Es ist wesentlich, dass der Substrathalter (4) als Rahmen gestaltet ist mit an den Rändern (1') des Substrates angreifenden Lagefixierungsorganen (5, 6), dass der Maskenhalter (3) ebenfalls als Rahmen gestaltet ist, welcher eine Fläche umgibt, die den Substrathalter (4) überfängt, und dass an den beiden Rahmen (3, 4) Verbindungsmittel (7, 8) vorgesehen sind zur lagefixierten Zuordnung der beiden Rahmen (3, 4) zueinander.

Description

Die Erfindung betrifft einen Halter für eine die Oberfläche eines Substrates mit geringem Abstand oder kontaktaufliegend abdeckende Maske in Form eines Rahmens. Die Erfindung betrifft darüber hinaus einen Halter für ein in die Prozesskammer einer Beschichtungsanlage anzuordnendes Substrat und zugehörigen Halter für eine über dem Substrat in Kontakt oder geringem Abstand anzuordnende Maske zur strukturierten Beschichtung des Substrates, wobei der Maskenhalter zum Substrathalter eine definierte Lage einnimmt.

Aus der Silicium-Technologie ist es bekannt, Substrate vorzukontaktieren, vorzustrukturieren und die so vorbehandelten Substrate selektiv zu beschichten, wobei zur selektiven Beschichtung auf dem Substrat eine Kontaktmaske liegt mit Öffnungen, durch welche das Schichtmaterial auf die Substratoberfläche gelangen kann.

Zum Stand der Technik gehört das OVPD-Verfahren. Mit diesem Verfahren lassen sich organische Leuchtjoden (OLED) herstellen. Es wird als organic vapor phase deposition (OVPD) bezeichnet. Die Ausgangsstoffe dieses Verfahrens sind organische Moleküle, die insbesondere und granulatförmig Festkörperform vorliegen. Sie können aber auch als Flüssigkeit verwendet werden. Diese Moleküle werden mittels eines Gaszuleitungssystems einem Gaseinlassorgan zugeleitet, welches die Aufgabe hat, die organischen Moleküle im gasförmigen Zustand einer Prozesskammer zuzuführen, in welcher ein Substrat, beispielsweise aus Glas liegt, auf welchem die organischen Moleküle kondensieren sollen. Die Kondensation soll auf einem vorstrukturierten Substrat an definierten Stellen erfolgen. Hierzu soll das Substrat maskiert werden.

Die Maske kann das Substrat kontaktaufliegend abdecken. Sie kann aber auch mit einem wohldefinierten Abstand oberhalb der Substratoberfläche liegen. Letzteres ist insbesondere vorgesehen, um ein Anhaften der Maske an dem Substrat während des Beschichtungsschrittes zu vermeiden. Es ist von Bedeutung, dass die Maske in Planlage gehalten wird.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine für diese Technologie brauchbare Substrathalter-/Maskenhalter-Anordnung anzugeben.

Diese Aufgabe ist zunächst und im Wesentlichen vom Gegenstand der Ansprüche 1 und 2 gelöst. Im Anspruch 1 ist darauf abgestellt, dass der Maskenhalterrahmen eine Kreis-Ringform besitzt und Mittel zum umfänglichen Einspannen einer vorgewärmten kreisscheibenförmigen Maske. Die Maske wird vor dem Einspannen erwärmt. Hierdurch dehnt sie sich in der Fläche aus. Sie wird dann mit den Mitteln die ein umfängliches Einspannen ermöglichen, bspw. mittels zweier Spannreifen lagefixiert eingespannt. Wenn die Maske durch Abkühlen die gleiche Temperatur einnimmt wie der beim Einspannen der Maske kältere Rahmen, schrumpf sie. Es stellt sich eine innere, in Radialrichtung verlaufende homogene Spannung ein, die dazu führt, dass die Maske in Planlage gehalten wird. In einer bevorzugten Ausgestaltung wird die Maske auf eine homogen gleiche Temperatur gebracht, bevor der Einspannvorgang erfolgt. Im Anspruch 2 ist darauf abgestellt, dass der Substrathalter als Rahmen gestaltet ist mit an den Rändern des Substrates angreifenden Lagefixierungsorganen, dass der Maskenhalter ebenfalls als Rahmen gestaltet ist, welcher eine Fläche umgibt, die den Substrathalter überfängt, und dass an den beiden Rahmen Verbindungsmittel vorgesehen sind zur lagefixierten Zuordnung der beiden Rahmen zueinander. Die in den weiteren Ansprüchen angegebenen Gegenstände betreffen sowohl vorteilhafte Weiterbildungen zum Gegenstand des Anspruchs 1 als auch gleichzeitig davon und von der oben genannten Aufgabenstellung unabhängige eigenständige technische Lösungsvorschläge. Es wird dort vorgeschlagen, dass der Rahmen des Substrathalters eine Rechteckform besitzt. Weiter wird vorgeschlagen, dass der Rahmen des Maskenhalters eine Kreisform besitzt. Ferner wird vorgeschlagen, dass die Verbindungsmittel eine Aussparung des Maskenhalterrahmens und einen darin eingreifenden Abschnitt des Substrathalterrahmens umfassen, welcher Abschnitt insbesondere von einer Rahmenecke gebildet ist. Vorgeschlagen wird ferner, dass der Maskenhalterrahmen aus zwei etwa durchmessergleichen Spannreifen besteht, zwischen welchen die kreisscheibenförmige Maske spannbar ist. Die strukturierte Fläche der Maske entspricht der Fläche des Substrates. Die diese Fläche umgebende Maskenfläche ist nicht strukturiert und insbesondere nicht durchlässig. Der maskenunterseitige Spannreifen kann zwei sich diametral gegenüberliegende, radial einwärts weisende Winkelaussparung aufweisen, zur spielfreien Aufnahme der Rahmenecke des Substrathalterrahmens. Ferner können die Lagefixierungsorgane des Substrathalters mindestens eine feste und mindestens eine ihr gegenüberliegende lose Spannbacke bilden. Diese Spannbacken können die gefasten Ränder des Substrates unterhalb der Substratoberfläche randübergreifen. In dem die Lagefixierungsorgane und ein eventuell vorhandener Rand des Substrathalterrahmens tiefer liegt, als das Substratoberflächenniveau, ist sichergestellt, dass die Maske in Kontaktauflage zum Substrat bringbar ist. Es ist aber nicht erforderlich, dass die Maske vollständig in Flächenkontakt auf dem Substrat aufliegt. Die Maske kann auch einen geringen Abstand zur Substratoberfläche besitzen, da ihre Wirkung im Wesentlichen auf dem Schattenwurfprinzip beruht. In einer Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass der Substrathalter eine Stützschulter ausbildet. Hierdurch ist eine Randkantenauflage des Substrats gegeben. Im Bereich der losen Spannbacken ist die Stützschulter bevorzugt unterbrochen. Ferner kann vorgesehen sein, dass der Maskenhalterrahmen gegenüber dem Substrathalterrahmen schrittweise in der Erstreckungsebene von Maske und Substrat verlagerbar ist. Ist der Maskenhalterrahmen fix gegenüber dem Substrathalterrahmen, eignet sich die Anordnung insbesondere zur Herstellung einfarbiger Displays. Die Substrate werden bei einer derartigen Anordnung nur mit einfarbig leuchtenden organischen Substanzen rastenpunktartig beschichtet. Zur Herstellung eines farbigen Displays ist es erforderlich, sowohl rot, als auch grün und blau lumineszierende Stoffe jeweils rasterpunktförmig auf dem Substrat aufzubringen. Das Substrat wird in entsprechender und auch bekannter Weise vorstrukturiert. Es enthält an den Stellen, an denen die organischen Substanzen abgeschieden werden sollen Kontaktierungen. Die Maske ist so gestaltet, dass ihre rasterförmig angeordneten Öffnungen nur jede dritte Struktur des Substrates überdeckt, so dass die jeweils beiden anderen Strukturen abgedeckt werden. In der Prozesskammer werden drei aufeinander folgende Beschichtungsschritte durchgeführt. Zwischen jedem Beschichtungsschritt wird die Maske um einen Schritt verlagert, so dass die bereits beschichteten Strukturen abgedeckt und noch nicht beschichtete Strukturen unter den Öffnungen der Maske zum Liegen kommen. Diese Schrittverlagerung kann mittels eines Piezoantriebes, magnetisch oder durch einen Spindeltrieb erfolgen. Bevorzugt sind die Antriebsorgane im Substrathalterrahmen integriert. Die Maske wird bevorzugt vorgespannt zwischen die Spannreifen gebracht. Die Spannreifen bilden bevorzugt zwei gegeneinander pressbare, den Maskenrand zwischen sich aufnehmende Spannflächen aus, die im entspannten Zustand einen radial auswärts klaffenden, von einem Zentrierkragen umfangenden Keilspalt ausbilden. Der Suszeptor besteht aus einem gekühlten Körper mit einer ebenen Oberfläche, auf welcher das Substrat zur Auflage kommt. Bevorzugt besitzt der Suszeptor eine Kreiszylinderform, die vollständig oder bis auf einen schmalen Randstreifen von der Maske überdeckt werden kann. Dies hat zur Folge, dass sich die Standzeit des Suszeptors zwischen erforderlichen Prozesskammerreinigungsschritten verlängert. Der Suszeptor kann drehangetrieben sein. Es ist ferner möglich, den Suszeptor im Überkopfbetrieb zu betreiben. Um eine Kontaktauflage der Maske auf dem Substrat zu gewährleisten wird in Vorschlag gebracht, die Maske elektrostatisch oder magnetisch in Richtung auf den Suszeptor zu beaufschlagen. Hierzu kann die Maske aus einem elektrisch leitenden oder magnetischen Material gefertigt werden. Der Suszeptor bildet bevorzugt Nuten aus, in welchen der Rahmen des Maskenhalters bzw. der Rahmen des Substrathalters einliegen kann. Die aus dem Substrathalter und der Maske bestehende Anordnung kann in lagefixiertem Zustand gehandhabt werden. Es ist insbesondere vorgesehen, dass die Maske lediglich auf dem Substrat aufliegt. Die Lagefixierung wird durch das Zusammenwirken von den Ecken des Rahmens mit Winkelaussparungen des anderen Rahmens gewährleistet. Das Auflegen des Maskenhalterrahmens auf den Substrathalterrahmen kann außerhalb der Prozesskammer erfolgen. Die Rahmenanordnung kann mittels eines Handhabungsautomaten in die Prozesskammer gebracht werden. Die Maske ist nur wenige Mikrometer dünn. Sie ist dicker, als die nur weniger Nanometer starke Beschichtung. Die innerhalb der Prozesskammer vorgesehene laterale Verlagerung des Maskenrahmens gegenüber dem Substrathalterrahmen (in situ Translation) erfolgt bevorzugt mittels dem Substrathalterrahmen zugeordneten Antriebsorganen, die in einer Formschlussverbindung mit dem Maskenrahmen stehen. Dies kann beispielsweise ein zweiter, gegenüber dem das Substrat tragende Rahmen verlagerbarer Rahmen sein, der mit seinen Ecken in Winkelaussparungen des kreisrunden Maskenrahmen eingreift. Dabei können die beiden sich diametral gegenüberliegenden Eckenpaare in spielfreier Einlage in den Winkelaussparungen einliegen. Die beiden anderen, sich ebenfalls diametral gegenüberliegenden Ecken können ein Spiel zum Maskenrahmen besitzen.

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand beigefügten Zeichnungen erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 in schematischer Darstellung den Substrathalterrahmen mit bestücktem Substrat in perspektivischer Darstellung den mit einer Maske bestückten Maskenhalterrahmen,
Fig. 2 eine Darstellung gemäß Fig. 1 als Explosionsdarstellung der wesentlichen Elemente der Rahmenanordnung,
Fig. 3 die Rahmenanordnung in der Unteransicht,
Fig. 4 die Rahmenanordnung in der Draufsicht,
Fig. 5 einen stark vergrößerten Ausschnitt des Bereichs V-V in Fig. 4,
Fig. 6 die Draufsicht auf den Substrathalterrahmen,
Fig. 7 einen Schnitt gemäß der Linie VII-VII,
Fig. 8 einen Schnitt gemäß der Linie VIII-VIII in Fig. 6,
Fig. 9 einen Schnitt gemäß der Linie IX-IX in Fig. 4,
Fig. 10 die Draufsicht auf einen Suszeptor,
Fig. 11 eine perspektivische Darstellung des Suszeptors und der darüber angeordneten Maskenanordnung im Halbschnitt,
Fig. 12 einen Schnitt durch den Suszeptor mit darauf aufliegender Substrat/Masken-Anordnung,
Fig. 13 eine Darstellung gemäß Fig. 12, mit über dem Suszeptor angeordneten Gaseinlassorgan und
Fig. 14 in schematischer Darstellung stark vergrößert im Schnitt die auf dem Substrat aufliegende Maske.
Der Substrathalter 4, wie er im Ausführungsbeispiel beschrieben wird, besitzt einen rechteckigen Rahmen. Der Rahmen kann aus Metall bestehen. Zwei diagonal sich gegenüberliegende Ecken 8 sind als Vorsprünge ausgebildet. Eine andere Ecke 8' ist abgeschrägt. Die dieser Ecke 8' diagonal gegenüberliegende Ecke 8" liegt mit geringfügigem Spiel in einer entsprechenden Ausnehmung. An seiner Oberseite bildet der Substrathalterrahmen eine Struktur aus, um das Substrat 1 zu haltern. Diese besteht aus einer rahmeneinwärts ragenden, abgesetzten Stützschulter 11. Auf dieser Stützschulter 11 liegt der Rand 1' des Substrates auf. Der Versatz der Stützschulter 11 nach unten ist geringer, als die Materialstärke des Substrates, so dass das Oberflächenniveau des Substrates 1 oberhalb des Rahmens 4 liegt. Eine Seite des rechteckigen Rahmens bildet eine feste Spannbacke 6 aus, die die gefaste Randkante 1' des Substrates überfängt, um das Substrat auch nach oben zu fixieren. In Gegenüberlage zu der festen Spannbacke 6, die sich nahezu über die gesamte Länge des zugehörigen Rahmenschenkels erstrecken kann, befindet sich eine einzelne, lose Spannbacke 5. Die lose Spannbacke 5 liegt in einer Führungsvertiefung 28 ein, deren Wände eine Hinterschneidung ausbilden können, so dass die lose Spannbacke 5 geführt ist. Mittels Spannschrauben 29, die durch Öffnungen von Spannlaschen 5' der Spannbacke 5 hindurchschraubbar sind, kann die Spannbacke in Kontakt zur Randkante 1' des Substrates 1 gebracht werden, wobei ein Übergriff 26 der Spannbacke 5 auf der gefasten Kante 1' aufliegt. Die Spannlaschen 5' besitzen bevorzugt Blattfedern 30, mit denen elastisch ein Druck auf die Spannbacken ausgeübt werden kann. Das Substrat wird somit durch Federkraft gegen die feste Spannbacke 6 gedrückt. Die bewegliche Spannbacke 5' kann eine Blattfeder mit geringerer Federkonstante besitzen, so dass die beiden dieser Spannbacke 5' gegenüberliegenden Spannbacken 5 die Randkante des Substrates 1 gegen die Kante 6' drücken. Diese Kante 6' bildet dann ebenfalls eine feste Spannbacke aus, so dass das Substrat in einer definierten Ecklage zwischen den beiden festen Spannbacken 6' und 6 fixiert ist. In dem Bereich der Führungsvertiefung 28 liegt das Substrat 1 nicht auf einer Stützschulter 11 auf. Die Stützschulter 11 ist in dem Bereich der losen Spannbacke 5 ausgespart.
Die beiden anderen Randkanten des Substrates 1 werden ebenfalls mittels Spannbacken 5 lagefixiert. Hier liegen sich jeweils lose Spannbacken 5 gegenüber. Dem einen Rahmenschenkel sind dabei zwei lose Spannbacken 5 zugeordnet. In diesem gegenüberliegenden Rahmenschenkel ist nur eine lose Spannbacke 5' zugeordnet, welche durch die beiden parallel geschalteten, gegenüberliegenden Spannbacken 5 zurückgedrückt wird. Das Substrat wird auf diese Weise in die bereits beschriebene Eckanlage gedrückt.
Der Maskenhalter 3 besteht aus zwei durchmessergleichen Spannreifen 9, 10. Der untere Spannreifen 10 besitzt die oben genannten Winkelaussparungen 7, in welche die Ecken 8" des Substrathalterrahmens 4 eingreifen. Zwei sich diagonal gegenüberliegende Ecken 8 greifen spielfrei in die ihnen zugeordneten Winkelaussparungen 7 ein. Eine weitere Winkelaussparung 7' ist etwas größer ausgestaltet, so dass diese Winkelaussparung 7' den ihr zugeordneten Eckabschnitt 8 des Substrathalters 4 mit geringem Spiel von beispielsweise einem Millimeter aufnimmt. Eine dritte Eckaussparung fehlt, da diese Substrathalterecke 8' eine Abschrägung besitzt.
Der untere Spannreifen 10 besitzt eine Spannfläche 13, auf welcher der Rand der kreisrunden Maske aufliegt. Gegenüberliegend zu der Spannfläche 13 erstreckt sich die Spannfläche 12 des oberen Spannreifens 9. Im entspannten Zustand bildet sich zwischen der Spannfläche 12 und der Spannfläche 13 ein Keilspalt 14, der sicherstellt, dass die beiden Spannflächen 12, 13 im Bereich ihres radial einwärts gerichteten Randes die größten Spannkräfte zwischen sich aufbringen, wenn durch den Zentrierkragen 15 Spannschrauben mit einem Spannkragen des anderen Spannreifens verschraubt werden.
Der Maskenhalter 3 kann außerhalb der Prozesskammer auf den Substrathalter 4 aufgebracht werden. Dies erfolgt durch Auflegen der beiden Rahmen 3, 4 aufeinander. Die Formschlussmittel greifen dann ineinander und sorgen für eine Lagefixierung der beiden Rahmen zueinander. Die beiden Rahmen können dann einzeln, getrennt oder zusammen mittels eines Handhabungsautomaten in die Prozesskammer 20 eines Reaktors gebracht werden. Die Prozesskammer 20 besitzt einen im Ausführungsbeispiel unten angeordneten Suszeptor 16, welcher gekühlt sein kann und welcher sich um seine Achse drehen kann. Der drehangetriebene Suszeptor 16 besitzt bevorzugt die Form eines Kreiszylinders. Oberhalb des Suszeptors 16 befindet sich ein Gaseinlassorgan 19 in Form einer geheizten Kammer, in welche durch eine Zuleitung 27 die gasförmigen organischen Moleküle gebracht werden, die durch duschkopfartig angeordnete Gasauslassöffnungen 21 in die Prozesskammer 20 strömen.
Der Suszeptor 16 besitzt eine im Wesentlichen ebene Oberfläche, die von einer Rechtecknut 17 und einer Kreisnut 18 durchzogen ist. Die Rechtecknut 17 dient zur Aufnahme des Substrathalterrahmens 4, so dass das Substrat in Flächenauflage auf dem Suszeptor 16 liegt. Die die Rechtecknut 17 umgebende Kreisnut 18 dient zur Aufnahme des kreisrunden Maskenhalterrahmens 13, so dass sichergestellt ist, dass die Maske flächig auf dem Substrat 1 aufliegt.
Die Maskenauflage auf dem Substrat 1 zeigt die Fig. 14. Das Substrat 1 ist vorstrukturiert. Es besitzt ein in Fotolacktechnik aufgebrachtes Raster 23. In den Rasteröffnungen befinden sich Kontaktierungen 24, 24', 24". Die Maske 2 besitzt Öffnungen 22 die voneinander derart entfernt liegen, dass jeweils zwei mit Kontakten 24', 24" versehene Rasteröffnungen des Substrates 1 verdeckt sind. Dadurch ist es möglich, zunächst die Kontakte 24 mit einer OLED-Schicht zu beschichten, die Maske dann in Richtung des Pfeiles linear weiter zu verlagern, bis ihre Öffnung 22 über dem zum Kontakt 24 benachbarten Kontakt 24' liegt. Dann erfolgt eine Beschichtung mit einer qualitativ anderen OLED-Schicht. In einem dritten Beschichtungsschritt wird nach einer abermaligen Linearverlagerung der Maske die Öffnung 22 über den Kontakt 24" gebracht, dieser Kontakt 24" mit einer dritten OLED-Schicht beschichtet wird.
In den dargestellten Ausführungsbeispielen sind keine Mittel dargestellt, die die Translation ermöglichen. Diese Mittel können aber dem Substrathalter 4 zugeordnet sein und insbesondere den beiden Ecken 8, die spielfrei in den Aussparungen 7 des Maskenhalterrahmens 3 einliegen. Diese Ecken können von Antriebsorganen schrittverlagert werden. Zufolge des Spiels der Ecke 8 in der Aussparung 7' von etwa einem Millimeter ist eine ausreichende Verlagerbarkeit gewährleistet.
In den Darstellungen sind ebenfalls keine Mittel angegeben, um auf die Maske 2 eine Kraft in Richtung des Suszeptors 16 zu erzeugen. Eine derartige Kraft kann beispielsweise dadurch aufgebracht werden, dass der gekühlte Suszeptor 16 einen Magneten insbesondere Elektromagneten beinhaltet, der die Maske 2 anzieht. Es ist auch möglich diese Anziehungskraft elektrostatisch aufzubringen. Dann ist es möglich, den Suszeptorkopf überzubetreiben, so dass eine Beschichtung von unten nach oben erfolgt. Dies ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn eine zweite Kontaktschicht auf die OLED-Schicht 25 aufgebracht werden soll. Dies kann in einer anderen Prozesskammer erfolgen, in welche die Substrathalter-/Maskenhalter-Anordnung in zusammengesetztem Zustand verbracht wird.
Alle offenbarten Merkmale sind (für sich) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/beigefügten Prioritätsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender Anmeldung mit aufzunehmen.

Claims

1. Halter für eine die Oberfläche eines Substrates mit geringem Abstand oder kontaktaufliegend abdeckende Maske (2) in Form eines Rahmens, dadurch gekennzeichnet, dass der Masken-Halterrahmen (3) eine Kreis- Ringform besitzt und Mittel zum umfänglichen Einspannen einer vorgewärmten kreisscheibenförmigen Maske.

2. Halter für ein in der Prozesskammer einer Beschichtungsanlage anzuordnendes Substrat (1) und zugehörigen Halter für eine über dem Substrat in Kontakt oder geringem Abstand anzuordnende Maske (2) zur strukturierten Beschichtung des Substrates (1), wobei der Maskenhalter (3) zum Substrathalter (4) eine definierte Lage einnimmt, dadurch gekennzeichnet, dass der Substrathalter (4) als Rahmen gestaltet ist mit an den Rändern (1') des Substrates angreifenden Lagefixierungsorganen (5, 6), dass der Maskenhalter (3) ebenfalls als Rahmen gestaltet ist, welcher eine Fläche umgibt, die den Substrathalter (4) überfängt, und dass an den beiden Rahmen (3, 4) Verbindungsmittel (7, 8) vorgesehen sind zur lagefixierten Zuordnung der beiden Rahmen (3, 4) zueinander.

3. Halter nach Anspruch 1 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Rahmen des Substrathalters (4) eine Rechteckform besitzt.

4. Halter einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Maskenhalterrahmen (3) und die Maske (2) aus einem Material mit der gleichen Wärmeausdehnung bestehen.

5. Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindungsmittel eine Aussparung (7) des Maskenhalterrahmens (3) und einen darin eingreifenden Abschnitt (8) des Substrathalterrahmens (4) umfassen, welcher Abschnitt (8) insbesondere von einer Rahmenecke gebildet ist.

6. Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Maskenhalterrahmen (3) aus zwei etwa durchmessergleichen Spannreifen (9, 10) besteht, zwischen welchen die kreisscheibenförmige Maske (2) einspannbar ist.

7. Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der maskenunterseitige Spannreifen (10) zwei sich diametral gegenüberliegende, radial einwärts weisende Winkelaussparungen (7) aufweist zur im Wesentlichen spielfreien Aufnahme der Rahmenecken (8) des Substrathalterrahmens (4).

8. Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Lagefixierungsorgane des Substrathalters mindestens eine feste Spannbacke (6) und mindestens eine ihr gegenüberliegende lose Spannbacke (5) ausbilden, welche Spannbacken (5, 6) die gefasten Ränder (1') des Substrates (1) unterhalb des Substratoberlflächenniveaus randübergreifend randfassen.

9. Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die losen Spannbacken (5, 5') mittels einer zwischengeschalteten Blattfeder (30) über insbesondere einen Kulissenstein auf die Randkante des Substrates (1) einwirken.

10. Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, gekennzeichnet durch eine Randkantenauflage des Substrates (1) auf einer zumindest im Bereich der losen Spannbacke (5) unterbrochenen Stützschulter (11).

11. Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Maskenhalterrahmen (3) gegenüber dem Substrathalterrahmen (4) schrittweise in der Erstreckungsebene von Maske (2) und Substrat (1) verlagerbar ist.

12. Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Verlagerung mittels Piezoantrieb, magnetisch oder durch Spindelkraft erfolgt.

13. Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Maske (2) vorgespannt zwischen die Spannreifen (9, 10) bringbar ist.

14. Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Spannreifen (9, 10) zwei gegeneinander pressbare, den Maskenrand zwischen sich aufnehmende Spannflächen (12, 13) aufweisen, die im entspannten Zustand einen radial auswärts klaffenden, von einem Zentrierkragen (15) umfangenden Keilspalt (14) ausbilden.

15. Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat in einer definierten Eckanlage gegen feste Spannbacken (6', 6) mittels der losen Spannbacken (5) gepresst ist.

16. Suszeptor und damit zusammenwirkenden Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Suszeptor (16) eine Kreiszylinderform besitzt, die vollständig oder bis auf einen schmalen Randstreifen von der Maske (2) überfangen ist.

17. Suszeptor und damit zusammenwirkenden Halter nach Anspruch 13 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Suszeptor (16) drehangetrieben ist und/oder überkopf angeordnet ist.

18. Suszeptor und damit zusammenwirkenden Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, gekennzeichnet durch einen an den Maskenhalterrahmen (3) und den Substrathalterrahmen (4) derart angepassten Suszeptor (16), dass das Substrat (1) in flächige Auflage auf dem Suszeptor (16) liegt.

19. Suszeptor und damit zusammenwirkenden Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Rahmen (3, 4) in Nuten (17, 18) des Suszeptors (16) einliegen.

20. Suszeptor und damit zusammenwirkender Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Suszeptor (16) gekühlt ist.

21. Suszeptor und damit zusammenwirkender Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Suszeptor (16) einem beheizten, brausekopfartig gestalteten Gaseinlassorgan (19) gegenüberliegt.

22. Suszeptor und damit zusammenwirkender Halter nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Suszeptor (16) Mittel aufweist zur magnetischen oder elektrostatischen Anziehung der Maske (2) gegen das Substrat.