DE10060575A1 - Verfahren zum Züchten von Einkristallen - Google Patents
Verfahren zum Züchten von EinkristallenInfo
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Abstract
Zur Herstellung großer, qualitativ hochwertiger Kristalle aus einem Metallorthophosphat, im speziellen GaPO¶4¶ oder AlPO¶4¶, aus einer Zuchtlösung unter Verwendung von Keimlingen, wird vorgeschlagen, einen Kristallkeim (2) zu verwenden, welcher zumindest zwei, stab- oder plättchenförmige, zueinander abgewinkelte Keimlingsschenkel (3) aufweist, welche Keimlingsschenkel (3) einen Hauptwachstumsbereich (7) aufspannen und im gezüchteten Einkristall außermittig angeordnet sind. Aufeinanderstoßende, für das Kristallwachstum ausgewählte Flächen zweier Keimlingsschenkel (3) schließen einen Winkel < 180 DEG ein. Die Ausbeute des qualitativ hochwertigen Kristallbereichs wird dadurch erhöht.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Züchten von Einkristallen aus
Metallorthophosphaten der kristallographischen Punktgruppe 32, insbesondere
GaPO4 oder AlPO4, aus einer Zuchtlösung unter Verwendung von Kristallkeimen
mit für das beabsichtigte Kristallwachstum ausgewählten Flächen.
Derartige Kristalle sind piezoelektrisch und optisch einachsig, d. h. sie haben eine
ausgezeichnete kristallographische Richtung, welche mit z bzw. c oder als opti
sche Achse bezeichnet wird. Die kristallographischen Achsen x, y, z und Wachs
tumsflächen R, r, m und z derartiger Kristalle sind aus Fig. 1 ersichtlich. Normal
zu den Mantelflächen m verlaufen drei symmetrieäquivalente y-Achsen (nur eine
dargestellt) und normal auf y und z stehen die drei x-Achsen (nur eine darge
stellt). Die x-Achsen sind polar, das heißt die + und - Richtung haben verschie
dene physikalische Eigenschaften, wie z. B. Ätzverhalten oder Wachstumsge
schwindigkeiten. Der Einkristall GaPO4 (Galliumorthophosphat) hat gegenüber
Quarz günstigere physikalische Eigenschaften. Besonders hervorzuheben sind der
doppelt so große Piezoeffekt, die höhere Kopplungskonstante (interessant für
Surface Acoustic Wave (SAW) Elemente) und das Fehlen des α-β Phasenüber
gangs bei 573°C, so dass das Material bis zu 900°C verwendet werden kann.
Für die Herstellung großer Stückzahlen von Sensoren oder Resonatoren auf Basis
eines Metallorthophosphats ist es wünschenswert die bereits vorhandenen Tech
nologieeinrichtungen verwenden zu können. Die meisten lithographischen Anla
gen (z. B. zur Aufbringung von SAW Schichten) sind für Halbleitermaterialien
ausgelegt, wobei üblicherweise 3'' Wafer oder größere verarbeitet werden. Um
die Vorteile der neuen Kristalle technologisch und wirtschaftlich günstig nützen
zu können, sind deshalb große ungestörte Kristallbereiche nötig.
Das Fehlen von natürlichen Keimlingen hat zu verschiedenen Zuchtverfahren
geführt, um möglichst große Einkristalle zu erhalten. Dabei wirkt erschwerend,
dass die y-Flächen bzw. m-Flächen und die großen Rhomboederflächen (R-Flä
chen) das Wachstum begrenzen (siehe Fig. 1), so dass nur Keimlinge mit ent
sprechend großer y-Dimension brauchbare Zuchtergebnisse liefern. In Richtung
der kristallographischen x-Achsen dagegen erfolgt das Wachstum verhältnismä
ßig schnell. Die Terminologie bezüglich Richtungen und Flächen in den Metal
lorthophosphaten ist in den Tabellen 1 und 2 zusammengefasst. Die Richtungen
werden in Form von Flächennormalen (gekennzeichnet durch die Bravais-Miller
Indizierung für die entsprechende Fläche) in eckigen Klammern angegeben.
Die logische Folgerung aus den oben genannten Wachstumskriterien ist ein gera
der Keimling 1 mit möglichst großer Abmessung in y-Richtung, von wo sich der
x-Flügel ausbilden kann (siehe Fig. 2, in welcher auch die symmetrieäquivalenten
Achsen y', y" und x', x" eingetragen sind). Bei den künstlich hergestellten Metal
lorthophosphaten ist man bei Verwendung von Spontankristallen, auch bei meh
reren aufeinanderfolgenden Wachstumszyklen, wegen der äußerst niedrigen
Wachstumsrate in y-Richtung, auf recht kleine Abmessungen beschränkt.
Mit Hilfe des in der AT-B 398 255 geoffenbarten Hydrothermalzuchtverfahrens ist
es möglich die längeren y-Stäbe von Quarz als Keimlinge für die Herstellung von
Metallorthophosphaten (Epitaxie auf Quarz) zu verwenden. Dadurch können be
achtliche Dimensionen in x- und y-Richtung erreicht werden. Bei der Epitaxie auf
Quarz treten während der hydrothermalen Zucht Probleme in Form von Wachs
tumsstörungen auf. Neben den Brasilzwillingen sind die Hauptstörungen im
Quarzkeimling selbst zu sehen, der als Fremdkörper mitten im gewachsenen
Kristall liegt. Diese Situation wird in Fig. 3 dargestellt, wo in Blickrichtung der y-
Achse einzelne Kristallbereiche abgegrenzt sind. Im "direkten z-Bereich" 4 treten
Einschlüsse, Versetzungsbüschel und infolge von mechanischen Spannungen
Risse auf. Jedoch hat sich überraschenderweise gezeigt, dass der "indirekte z-
Bereich" 5 hervorragende Kristallqualität besitzt. Im "direkten x-Bereich" 6 treten
meist Störungen in Form von Zuchtlösungseinschlüssen auf. Je nach Wachs
tumsbedingungen können Teilbereiche daraus jedoch ebenfalls für Applikationen
verwendet werden. Die Grenze zwischen gestörtem und ungestörtem Bereich des
direkten x-Wachstums wird durch die sogenannten 123 Flächen gebildet. Diese
besitzen die Flächenindizes {1 2 3 3}. Ab diesem Bereich können Kristalle ohne
direkten gestörten x-Bereich gezüchtet werden.
Mit Hilfe anderer bekannter Verfahren wurde versucht durch gerades Aneinan
derreihen von mehreren Keimlingen die y-Dimension zu vergrößern, wie bei
spielsweise in der EP-A 0 123 809, gemäß welcher die für das beabsichtigte
Kristallwachstum ausgewählten Flächen (z-Flächen) in einer Ebene angeordnet
sind und die einzelnen Plättchen einen sechseckigen Querschnitt aufweisen.
Weiters wird in der EP-B1 0 515 288 ein Verfahren zur hydrothermalen Zucht aus
mittels Impfkristallen zusammengesetzten plättchenförmigen Kristallkeimen be
schrieben, welche auf einem ebenen Basiselement angeordnet sind.
Langsam wachsende Flächen als Keimlinge zu verwenden wurde zwar versucht,
jedoch konnten dadurch nur die langsamen Wachstumsgeschwindigkeiten bestä
tigt werden. So war man bisher der Ansicht, dass mit geraden y-Stäben den
schnell wachsenden x-Flächen der maximale Raum zum Wachstum angeboten
wird und dadurch die größtmögliche Ausbeute erzielt werden kann.
Aufgabe der Erfindung ist es ein Verfahren zur Herstellung großer qualitativ
hochwertiger Kristalle aus Metallorthophosphaten vorzuschlagen, wobei Wachs
tumsstörungen weitgehend vermieden werden sollen.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, dass ein Kristallkeim mit
zumindest zwei, stab- oder plättchenförmigen, zueinander abgewinkelten Keim
lingsschenkeln verwendet wird, welche Keimlingsschenkel einen Hauptwachs
tumsbereich aufspannen und im gezüchteten Einkristall außermittig angeordnet
sind. Es hat sich überraschenderweise gezeigt, dass eigentlich langsam wachsende
Flächen wesentlich schneller gezüchtet werden können, wenn zwei aufein
anderstoßende, für das Kristallwachstum ausgewählte kristallographische Flächen
einen Winkel < 180° zueinander bilden.
Mit dem neuen Verfahren ist es möglich, ebenso große Kristalle wie mit den bis
herigen, geraden Keimlingen zu züchten, jedoch wird der Kristallkeim an den
Rand des Hauptwachstumsbereiches versetzt, so dass eine durchgehende Nut
zung der Wachstumszone (z. B. indirekter z-Bereich) ermöglicht wird. Die ver
wendbare Fläche, beispielsweise in der x-y Ebene, kann dadurch verdoppelt wer
den, so dass zum Beispiel 3" Wafer aus Metallorthophosphat-Kristallen gewonnen
werden können. Erreicht wird dies durch eine neue Ausbildung bzw. Anordnung
der Keimlinge.
Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass der Kristallkeim monolithisch, unter Aus
bildung der zumindest zwei Keimlingsschenkel, aus einem Einkristall gewonnen
wird oder dass der Kristallkeim aus einzelnen stab- oder plättchenförmigen Ein
kristallelementen zusammengesetzt wird, deren kristallographischen Achsen zu
einander parallel ausgerichtet sind. Beste Ergebnisse werden dann erzielt, wenn
die Ausrichtung der Achsen möglichst exakt erfolgt, es sind allerdings auch Ab
weichungen von 2° bis 3° zulässig.
Unterschiedliche Keimlingsgeometrien können im Sinne der Erfindung durch ei
nen Schnitt aus einem Einkristallstück, oder durch Zusammensetzen einzelner
Kristallelemente (sogenanntes "Splicing") erreicht werden. Beim Splicing-Ver
fahren muss auf eine möglichst genaue Ausrichtung der Keimlingsschenkel un
tereinander geachtet werden, wobei diese Orientierung während des
Wachstumsstartes beibehalten werden muss.
Die besten Ergebnisse sind dann erzielbar, wenn die Keimlinge monolithisch, das
heißt aus einem einzigen Kristallstück gewonnen werden können. Dabei fallen
Probleme der mechanischen Stabilität bzw. der Anordnung gänzlich weg und
auch die relative Orientierung zwischen den Keimlingsschenkeln ist automatisch
gegeben. Kleine absolute Orientierungsfehler (d. h. kleine Rotationen der abge
winkelten Keimlinge) in der Ordnung von Winkelgraden haben praktisch keinen
Einfluss auf die Qualität des Wachstums.
Erfindungsgemäß ist weiters vorgesehen, dass der Kristallkeim aus einem zum
aufzuzüchtenden Einkristall homöotypen Kristallmaterial besteht. Insbesondere
kommt dabei GaPO4, AlPO4, FePO4, GaAsO4, AlAsO4, SiO2 und GeO2 zur Anwen
dung. Mit Hilfe der Epitaxie wird eine dünne Schicht des gewünschten Kristall
materials aufgebracht. Dieser Prozess muss allerdings zweistufig durchgeführt
werden. Der Vorteil der epitaktischen Methode liegt z. B. in den Quarzkeimlingen,
die kostengünstig in wesentlich größeren Dimensionen vorliegen als die Keim
linge auf Basis von Metallorthophosphaten.
Bei einem Kristallkeim aus stabförmigen Keimlingsschenkeln ist es von Vorteil,
wenn die Hauptachsen der Keimlingsschenkel eine Ebene aufspannen, die senk
recht zur kristallographischen z-Achse steht.
Die Erfindung wird anhand von Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen
Fig. 1 die dreidimensionale Darstellung eines Metallorthophosphat-Kristal
les mit den kristallographischen Achsen sowie den Wachstumsflä
chen,
Fig. 2 einen stabförmigen Kristallkeim, dessen Hauptachse in der kristal
lographischen y-Achse liegt mit den sich ausbildenden Wachstums
flächen,
Fig. 3 unterschiedliche Kristallbereiche eines Metallorthophosphat-Kristal
les (Blickrichtung von y),
Fig. 4a in zweidimensionaler und
Fig. 4b in dreidimensionaler Darstellung die erfindungsgemäße Anordnung
zweier Keimlingsschenkel (x-Stäbe) im Winkel von 120°,
Fig. 5 in dreidimensionaler Darstellung die Anordnung eines x- und eines
y-Stabes in einem Winkel von 90°,
Fig. 6 die Anordnung dreier y-Stäbe jeweils im Winkel von 120°,
Fig. 7 die Anordnung eines y- und zweier x-Stäbe unter einem Winkel von
90° in dreidimensionaler Darstellung,
Fig. 8 die Anordnung zweier Keimlingsschenkel mit {1 2 3 0}-Flächen,
welche einen Winkel von 158° einschließen, sowie
Fig. 9 die Anordnung zweier plättchenförmiger Keimlingsschenkel in einer
120°-Geometrie.
Allgemein ist zu sagen dass die Keimlingsflächen der Schenkel nicht mit den
kristallographischen Flächen identisch sein müssen. Insbesondere können zur
Richtung der Keimlingsschenkel tautozonale Flächen verwendet werden. Tauto
zonale Flächen sind alle Flächen deren Normalvektoren in einer Ebene liegen. Der
Normalvektor dieser Ebene wird wie die Kristallrichtungen in Tabelle 1 durch das
Zonensymbol angegeben. Zum Beispiel enthält die zur y-Achse [0 1 1 0] tautozonale
Flächenschar die x {2 1 1 0} und die z-Fläche {0 0 0 1}, sowie alle
dazwischen liegenden Flächen {2 1 1 t}, wobei t eine beliebige ganze Zahl sein
kann. Geht t gegen unendlich so ergibt sich die z-Fläche. In der Abb. 8 beispiels
weise ist zwar die {1 2 3 3}-Fläche die ausgewählte Wachstumsfläche, jedoch
wird aus herstellungstechnologischen Gründen (Sägen) die {1 2 3 0}-Fläche als
Keimlingsfläche verwendet. Die Keimlingsflächen selbst müssen auch nicht eben
sein, wie es bei gesägten Flächen ja auch gar nicht möglich ist, sondern können
Unebenheiten bis in den mm Bereich aufweisen.
Die kristallographischen Gegebenheiten bei Metallorthophosphatkristallen der
Punktgruppe 32 wurden bereits eingangs anhand der Fig. 1 bis 3 näher erläutert.
Die Fig. 4a bis 9 erläutern das erfindungsgemäße Verfahren anhand der Anord
nung bzw. Ausbildung zweier oder dreier Keimlingsschenkel in einer 90°, 120°
oder 158°-Geometrie. Bei den in den Fig. 4a bis 8 dargestellten stabförmigen
Keimlingsschenkel, deren Hauptachse die kristallographische x-Achse ist (soge
nannte x-Stäbe) bzw. deren Hauptachse die kristallographische y-Achse ist (y-
Stäbe), ist eine Anordnung in der x-y Ebene vorteilhaft, da so Kristallbereiche mit
hoher Qualität entstehen.
Da der zu züchtende Kristall trigonal ist, das heißt eine dreizählige Achse (= z
= optische Achse) besitzt, treten bei einer Drehung von 120° um z alle Flächen
wieder auf (siehe Fig. 1, Fig. 2). Die schnell wachsenden x-Flächen und die lang
sam wachsenden y- bzw. m-Flächen stehen normal aufeinander.
Im Sinne der Erfindung bieten sich somit z. B. folgende Möglichkeiten für die An
ordnung der Keimlingsschenkel 3 des Kristallkeimes 2 an, wobei sich die Aus
führungsvarianten auf die in der Tabelle 2 angeführten kristallographischen Flä
chen beziehen und auch dazu tautozonale Flächen geeignet sind:
- - aufeinander stoßende {0 1 1 0}-Flächen (y-Flächen bzw. m-Flächen) zweier Keimlingsschenkel schließen einen Winkel von 120° ein,
- - aufeinander stoßende {2 1 1 0}-Flächen (x-Flächen) zweier Keimlings schenkel schließen einen Winkel von 120° ein,
- - aufeinander stoßende {1 2 3 0}-Flächen (120-Flächen) zweier Keim lingsschenkel schließen einen Winkel von 158° ein,
- - eine {2 1 1 0}-Fläche (x-Fläche) eines Keimlingsschenkels schließt mit der {0 1 1 0}-Fläche (y-Fläche) eines benachbarten zweiten Keimlings schenkels einen Winkel von 90° ein,
- - die {2 1 1 0}-Flächen (x-Flächen) dreier Keimlingsschenkel sind trog- oder wannenförmig angeordnet, wobei jeweils zwei aufeinander stoßende {2 1 1 0}-Flächen (x-Flächen) einen Winkel von 120° einschließen,
- - die {0 1 1 0}-Flächen (y-Flächen) dreier Keimlingsschenkel sind trog- oder wannenförmig angeordnet, wobei jeweils zwei aufeinander stoßende {0 1 1 0}-Flächen (y-Flächen) einen Winkel von 120° einschließen,
- - an die {2 1 1 0}-Fläche (x-Fläche) eines Basisschenkels schließen an beiden Seiten jeweils die {0 1 1 0}-Fläche (y-Flächen) eines weiteren Keimlingsschenkels unter Einschluss eines Winkels von 90° an.
Alle Winkelangaben weisen einen Toleranzbereich von 2° bis 3° auf.
Als eine günstige Anordnung im Sinne der Erfindung hat sich, wie in Fig. 4a, 4b
skizziert, eine 120° Anordnung zweier Keimlingsschenkel 3 erwiesen. Die Haupt
schenkelflächen sind dabei z- bzw. y-Flächen. Diese Keimlingsschenkel werden
als x-Stäbe bezeichnet aufgrund der ausgezeichneten Längendimension in die x-
bzw. x'-Richtung. Das Wachstum findet bevorzugt auf der Keimlingsinnenseite im
Hauptwachstumsbereich 7 statt, da nur hier der Winkel zwischen den Wachs
tumsflächen kleiner als 180° ist.
Bei allen Ausführungsvarianten erfolgt das Kristallwachstum bevorzugt in den
von den abgewinkelten Keimlingsschenkeln 3 des Kristallkeimes 2 aufgespannten
Hauptwachstumsbereich 7, wodurch der Kristallkeim 2 bzw. die Keimlingsschen
kel 3 im gezüchteten Einkristall außermittig angeordnet sind (Fig. 4a bis Fig. 9).
Eine andere Ausführungsform geht von rechtwinkeligen Keimlingsschenkeln aus.
Dabei wird die schnell wachsende x-Fläche des Basisschenkels (y-Stab) durch
einen oder zwei x-Stäbe, die normal auf den Basisschenkel stehen, seitlich er
gänzt (Fig. 5 zeigt die Ausführung mit einem x-Stab und dem y-Stab als Basis,
Fig. 7 einen y-Stab und zwei x-Stäbe).
Eine dreischenkelige Ausführungsform mit 120° Winkeln ist in Fig. 6 dargestellt.
Die Anordnung besteht aus drei, trog- oder wannenförmig angeordneten y-Stä
ben. Das Wachstum erfolgt wiederum hauptsächlich nach innen.
In einem weiteren Beispiel werden {1 2 3 0}-Flächen als Keimlingsschenkel ver
wendet (Fig. 8). Der Gewinn an Kristallvolumen ist dabei zwar geringer als jener
der bisher ausgeführten Formen, aber es kann dabei eine Reduktion der Ein
schlüsse im direkten x-Bereich erwartet werden.
Fig. 9 zeigt einen Kristallkeim 2, welcher zwei plättchenförmige Keimlingsschen
kel 3 aufweist. Diese können entweder normal zu y bzw. y' oder zu x bzw. x' ste
hen, in beiden Fällen schließen die Keimlingsschenkel einen Winkel von 120° ein.
Die Dicke der Keimlinge in z-Richtung beträgt bei stabförmigen Keimlingen ca. 2 mm,
kann aber auch größer (bei plättchenförmigen Keimlingsschenkel) gewählt
werden.
Claims (11)
1. Verfahren zum Züchten von Einkristallen aus Metallorthophosphaten der
kristallographischen Punktgruppe 32, insbesondere GaPO4 oder AlPO4, aus
einer Zuchtlösung unter Verwendung von Kristallkeimen, dadurch ge
kennzeichnet, dass ein Kristallkeim (2) mit zumindest zwei, stab- oder
plättchenförmigen, zueinander abgewinkelten Keimlingsschenkeln (3) ver
wendet wird, welche Keimlingsschenkel (3) einen Hauptwachstumsbereich
(7) aufspannen und im gezüchteten Einkristall außermittig angeordnet sind.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Kristall
keim (2) monolithisch, unter Ausbildung der zumindest zwei Keimlings
schenkel (3) aus einem Einkristall gewonnen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Kristall
keim (2) aus einzelnen stab- oder plättchenförmigen Einkristallelementen
zusammengesetzt wird, deren kristallographischen Achsen zueinander pa
rallel ausgerichtet sind.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
dass der Kristallkeim (2) aus stabförmigen Keimlingsschenkeln (3) besteht,
deren Hauptachsen eine Ebene aufspannen, die senkrecht zur kristal
lographischen z-Achse steht.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
dass für den Kristallkeim (2) ein zum aufzuzüchtenden Einkristall homöoty
pes Kristallmaterial, vorzugsweise GaPO4, AlPO4, FePO4, GaAsO4, AlAsO4,
SiO2 und GeO2, verwendet wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
dass drei Keimlingsschenkel (3) mit {2 1 1 0}-Flächen oder drei Keimlings
schenkel (3) mit {0 1 1 0}-Flächen trog- oder wannenförmig angeordnet
werden, so dass jeweils zwei aufeinander stoßende {2 1 1 0}-Flächen bzw.
{0 1 1 0}-Flächen einen Winkel von 120° einschließen.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
dass die Keimlingsschenkel (3) derart ausgerichtet werden, dass die den
Hauptwachstumsbereich (7) aufspannenden {0 1 1 0}-Flächen zweier
Keimlingsschenkel (3) einen Winkel von 120° einschließen.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
dass die Keimlingsschenkel (3) derart ausgerichtet werden, dass die den
Hauptwachstumsbereich (7) aufspannenden {2 1 1 0}-Flächen zweier
Keimlingsschenkel (3) einen Winkel von 120° einschließen.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
dass eine {2 1 1 0}-Fläche eines Keimlingsschenkels (3) mit einer
{0 1 1 0}-Fläche eines benachbarten zweiten Keimlingsschenkels (3) den
Hauptwachstumsbereich (7) aufspannen und einen Winkel von 90°
einschließen.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
dass drei Keimlingsschenkel (3) verwendet werden, wobei an die
{2 1 1 0}-Fläche eines Basisschenkels an beiden Seiten jeweils die
{0 1 1 0}-Fläche eines weiteren Keimlingsschenkels (3) unter Einschluss
eines Winkels von 90° stößt.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
dass die Keimlingsschenkel (3) derart ausgerichtet werden, dass die den
Hauptwachstumsbereich (7) aufspannenden {1 2 3 0}-Flächen zweier
Keimlingsschenkel (3) einen Winkel von 158° einschließen.
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