DE10050348A1

DE10050348A1 - Walzenanordnung, insbesondere Riffelwalzenanordnung

Info

Publication number: DE10050348A1
Application number: DE2000150348
Authority: DE
Inventors: Bernardo Friese
Original assignee: Friese & Co KG GmbH
Current assignee: Friese & Co KG GmbH
Priority date: 2000-10-11
Filing date: 2000-10-11
Publication date: 2002-05-02
Anticipated expiration: 2020-10-12
Also published as: DE10050348C2; EP1197322A2; EP1197322A3

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Walzenanordnung, insbesondere Riffelwalzenanordnung zur Riffelung einer Materialbahn (M), beispielsweise aus Papier oder Pappe, diese Walzenanordnung (10; 10') ausgeführt mit: DOLLAR A wenigstens einer um eine ersten Drehachse (A, A') drehbar gelagerten ersten Walze (12; 12') mit einer profilierten Oberfläche (16, 16'); DOLLAR A wenigstens einer um eine zweite Drehachse (B, B') drehbar gelagerten zweiten Walze (14; 14') mit einer Oberfläche (48), welche mit einer zu der Profilierung (16; 16') der ersten Walze (12; 12') korrespondierenden Komplementär-Profilierung (28; 28') versehen ist; und DOLLAR A Andrückmitteln zum Drücken der ersten Walze (12; 12') oder/und der zweiten Walze (14; 14') aufeinander zu DOLLAR A wobei in wenigstens einem axialen Randbereich (24, 26, 38, 40; 50', 52', 54', 56') der ersten oder/und der zweiten Walze (12, 14; 12', 14') Anschlagmittel (20, 22, 34, 36; 20', 22', 54', 56') angeordnet sind, durch welche ein Mindestabstand (A) zwischen der mit der Profilierung (16; 16') versehenen Oberfläche (46) der ersten Walze (12; 12') und der mit der Komplementär-Profilierung (28; 28') versehenen Oberfläche (48) der zweiten Walze (14; 14') bestimmt ist.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Walzenanordnung, insbesondere eine Riffelwalzenanordnung zur Riffelung einer Materialbahn, beispielsweise aus Papier oder Pappe.

Bei der Papierverarbeitung und insbesondere bei der Wellpappeherstellung werden in Wellpappemaschinen mit korrespondierender Riffelprofilierung versehene Riffelwalzen dazu eingesetzt, eine Materialbahn beispielsweise aus Papier oder Pappe bleibend zu verformen und mit einer Riffelung zu versehen. Hierfür werden die zusammenwirkenden Riffelwalzen mit sehr hohen Drücken aneinandergedrückt. Deshalb kommt es vor allem bei Riffelwalzen mit langen profilierten Walzenkörpern, welche jeweils an ihren Walzenenden drehbeweglich gelagert sind, zu einer Durchbiegung, sodass der Druck im Bereich der zusammenwirkenden Profilabschnitte der beiden Riffelwalzen über die Länge der Riffelwalzen ungleichmäßig werden kann. Um über die gesamte Länge der Riffelwalzen einen annähernd gleichmäßigen Liniendruck zu erreichen, wird bekanntermaßen wenigstens eine der beiden Riffelwalzen mit einer Bombierung versehen, d. h. sie wird "bauchig" ausgebildet. Eine derartige bombierte Ausgestaltung der wenigstens einen Riffelwalze hat jedoch den Nachteil, dass die der Walze inhärente Bombierung nur bei einer ganz bestimmten, auf die Bombierung abgestimmten Anpresskraft für einen über die Walzenlänge gleichmäßigen Anpressdruck sorgt. Wird die Anpresskraft vergrößert oder verkleinert, so führt die Bombierung zu einer ungleichmäßigen Druckverteilung über die Walzenlänge und damit zu unbefriedigenden Arbeitsergebnissen, mit der Folge, dass entweder die zu bearbeitende Materialbahn in den mit zu hohem Druck beaufschlagten äußeren Randereichen der Riffelwalze zerstört wird oder dass sie in den Randbereichen lediglich unzureichend verformt wird.

Ein weiterer Faktor, welcher das Arbeitsergebnis bei Verwendung einer derartigen Walzenanordnung bestimmt, ist die Bahnbreite der zu bearbeitenden Materialbahn. So ist bei breiteren Materialbahnen, d. h. bei größerer Ausnutzung der Länge des profilierten Walzenabschnitts, in der Regel eine größere Anpresskraft erforderlich als bei einer kleineren Materialbahnbreite und damit einer geringeren Ausnutzung der Länge der profilierten Riffelwalze. Wählt man beispielsweise bei einer kleinen Bahnbreite der zu bearbeitenden Materialbahn eine zu hohe Anpresskraft, so kann dies einerseits zur Zerstörung der Materialbahn in deren äußeren Bereichen führen und andererseits darin resultieren, dass sich die Randbereiche der Walzen, welche von der Materialbahn nicht überdeckt werden, gegenseitig berühren. Dies kann zu Beschädigungen in den Randbereichen der profilierten Walzen führen, insbesondere dann, wenn die Walzen mit einer empfindlichen Beschichtung, wie beispielsweise aus Chrom oder Wolframkarbid, versehen sind. Es ist demzufolge insbesondere beim Umstellen des Betriebs der Walzenanordnung von einer Bearbeitung einer Materialbahn mit großer Breite zu einer Bearbeitung der Materialbahn mit geringer Breite geboten, die Anpresskraft genau auf die Materialbahnbreite abzustimmen, um ein zufriedenstellendes Arbeitsergebnis zu erhalten und um Beschädigungen an der Walzenanordnung zu vermeiden. Derartige Einstellungen sind einerseits jedoch zeitaufwendig und reduzieren die Produktionskapazität einer mit einer derartigen Walzenanordnung ausgerüsteten Maschine. Andererseits können fehlerhafte Einstellungen der Anpresskraft zu einer Beschädigung der Materialbahn oder/und der Walzen führen.

Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Walzenanordnung der eingangs bezeichneten Art bereitzustellen, bei welcher verhindert wird, dass eine fehlerhafte Einstellung der Anpresskraft zu einer Beschädigung der Walzen führt.

Diese Aufgabe wird durch eine Walzenanordnung, insbesondere Riffelwalzenanordnung zur Riffelung einer Materialbahn, beispielsweise aus Papier oder Pappe, gelöst, diese Walzenanordnung ausgeführt mit wenigstens einer um eine erste Drehachse drehbar gelagerten ersten Walze mit einer profilierten Oberfläche, wenigstens einer um eine zweite Drehachse gelagerten zweiten Walze mit einer Oberfläche, welche mit einer zu der Profilierung der ersten Walze korrespondierenden Komplementär-Profilierung versehen ist, Andrückmitteln zum Drücken der ersten Walze oder/und der zweiten Walze aufeinander zu, wobei in wenigstens einem axialen Randbereich der ersten oder/und der zweiten Walze Anschlagmittel vorgesehen sind, durch welche ein Mindestabstand zwischen der mit der Profilierung versehenen Oberfläche der ersten Walze und der mit der Komplementär-Profilierung versehenen Oberfläche der zweiten Walze bestimmt ist.

Durch Bereitstellung der Anschlagmittel kann also verhindert werden, dass die beiden zusammenwirkenden Walzen bei der Einstellung der Anpresskraft in eine Relativposition zueinander gebracht werden, in welcher eine "Interferenz" der Walzen zumindest in deren Randbereich auftritt, was eine gegenseitige Berührung und Zerstörung der Oberfläche der Riffelwalzen in diesem Randbereich zur Folge haben würde. Ferner kann durch die Bereitstellung von Anschlagmitteln sichergestellt werden, dass ein hinreichend großer Abstand zwischen der profilierten Oberfläche und der mit der Komplementär-Profilierung versehenen Oberfläche der Walzen gewährleistet ist, so dass eine Beschädigung der bearbeiteten Materialbahn unterbunden werden kann.

Eine einfache Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Walzenanordnung ergibt sich beispielsweise dann, wenn die Anschlagmittel an einem benachbart der mit der Profilierung oder Komplementär-Profilierung versehenen Oberfläche ausgebildeten unprofilierten Walzenabschnitt ausgebildet sind. Bei einer derartigen konstruktiven Ausgestaltung ist es möglich, die mit Profilierung bzw. Komplementär-Profilierung versehenen Walzenabschnitte in herkömmlicher Weise auszubilden und die Anschlagmittel unabhängig von den Walzenabschnitten an den benachbart dieser profilierten Walzenabschnitte ausgebildeten unprofilierten Walzenabschnitten auszubilden. Die Endabschnitte können dabei von Lagerzapfen oder von Walzenabschnitten gebildet sein, welche einen Außendurchmesser aufweisen, der kleiner als der maximale Außendurchmesser der profilierten Walzenabschnitte und größer als der Außendurchmesser der Lagerzapfen ist.

Zur Positionierung der Anschlagmittel auf dem Walzenabschnitt sind verschiedene Alternativen denkbar. So ist es beispielsweise möglich, die Anschlagmittel an den Abschnitt mit Profilierung oder Komplementär-Profilierung unmittelbar anschließend anzuordnen. Der durchmessergrößere Abschnitt mit Profilierung oder Komplementär-Profilierung dient dann als einseitige Abstützung für die Anschlagmittel, so dass eine deren Funktion beeinträchtigende Deformation behindert wird.

Alternativ ist es möglich, die Anschlagmittel mit Abstand zu dem Walzenabschnitt mit Profilierung oder Komplementär-Profilierung anzuordnen. In diesem Fall kann eine Wechselwirkung zwischen den Anschlagmitteln und den profilierten Abschnitten der jeweils anderen Walze verhindert werden.

Wie vorstehend bereits dargelegt, ist hinsichtlich der Dimensionierung der Anschlagmittel in einer Weiterbildung der Erfindung vorgesehen, dass der unprofilierte Walzenabschnitt einen kleineren Außendurchmesser aufweist als der Außendurchmesser eines die profilierte bzw. mit Komplementär-Profilierung versehene Oberfläche der ersten oder zweiten Walze im Querschnitt einhüllenden Hüllkreises. Dadurch lässt sich eine unerwünschte Wechselwirkung zwischen Anschlagmitteln und profilierter bzw. mit Komplementär-Profilierung versehener Oberfläche einer der Walzen verhindern.

In einer Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Anschlagmittel wenigstens einen an einer Walze von erster Walze oder zweiter Walze angeordneten Anschlagring umfassen, welcher über seine Außenumfangsfläche mit einer korrespondierenden Anlagefläche an der jeweils anderen Walze von erster Walze oder zweiter Walze in gegenseitiger Anlage steht oder in gegenseitige Anlage bringbar ist. Hierbei kann vorgesehen sein, dass die korrespondierende Anlagefläche an der jeweils anderen Walze von erster und zweiter Walze von einer Außenumfangsfläche eines der jeweils anderen Walze von erster und zweiter Walze angeordneten weiteren Anschlagrings gebildet ist. Es ist also möglich, die beiden Walzen in ihren Endbereichen mit unprofilierten Walzenabschnitten zu versehen, wie vorstehend bereits dargelegt, und nachträglich auf diesen unprofilierten Walzenabschnitten jeweils einen Anschlagring aufzubringen, welcher zusammen mit dem korrespondierenden weiteren Anschlagring auf der jeweils anderen Walze den Mindestabstand zwischen den profilierten Oberflächen der ersten und zweiten Walze einstellt. Es ist grundsätzlich auch möglich, die Anschlagringe direkt auf den Lagerzapfen anzuordnen. Alternativ zur Verwendung eines Anschlagrings und eines korrespondierenden weiteren Anschlagrings kann auch vorgesehen sein, dass die korrespondierende Anlagefläche an dem unprofilierten Walzenendbschnitt ausgebildet ist. Dies bedeutet, dass an jedem Ende der Walzenanordnung jeweils nur ein Anschlagring vorgesehen ist, und zwar entweder an der ersten Walze oder an der zweiten Walze, wobei der Anschlagring dann unmittelbar mit dem unprofilierten Walzenendbschnitt zusammenwirkt. Dadurch ist der Aufbau weiter vereinfacht.

Beide Alternativen - Anschlagring mit weiterem Anschlagring oder lediglich ein Anschlagring in Wechselwirkung mit unprofiliertem Walzenabschnitt - haben jedoch den Vorteil, dass sie eine Nachrüstung bereits bestehender Walzenanordnungen ermöglichen, beispielsweise derart, dass an den unprofilierten Randbereichen bzw. an den Lagerzapfen der Walzen nachträglich Anschlagringe angebracht werden, die einen auf die jeweilige Einsatzart der Walzenanordnung abgestimmten Mindestabstand zwischen den profilierten Oberflächen bestimmen.

Um eine hinreichend gute und gleichmäßige Druckverteilung über die gesamte Walzenlänge zwischen der profilierten Oberfläche der ersten Walze und der mit Komplementär-Profilierung versehenen Oberfläche der zweiten Walze zu gewährleisten, kann erfindungsgemäß weiter vorgesehen sein, dass in axialer Richtung beidseits der mit Profilierung oder Gegenprofilierung versehenen Oberfläche der ersten Walze oder/und der zweiten Walze Anschlagmittel vorgesehen sind.

Zur Verbindung des jeweiligen Anschlagrings mit der zugeordneten Walze kann vorgesehen sein, dass dieser integral an der Walze ausgebildet ist. Alternativ hierzu kann vorgesehen sein, dass der Anschlagring gesondert an der Walze angebracht ist, vorzugsweise durch Verschraubung oder Verschweißung. Die gesonderte Anbringung des Anschlagrings an der Walze findet insbesondere bei der Nachrüstung bereits bestehender Walzenanordnung Anwendung.

Wie eingangs bereits angedeutet, kann insbesondere bei langen Walzen zur Erzielung eines über die gesamte Walzenlänge gleichmäßigen Anpressdrucks vorgesehen sein, dass wenigstens eine der Walzen bombiert, d. h. bauchig ausgebildet ist. Die Bombierung gleicht eine schwerkraftbedingte und lagerungsbedingte Deformation ("Durchhängen") der betreffenden Walze derart aus, dass sie im Bereich der Wechselwirkung mit der jeweils anderen Walze in einem bestimmten Anpressdruckbereich weitgehend linear verläuft.

Die Profilierung der jeweiligen Walzen kann beliebig ausgestaltet sein. Bevorzugt werden derartige Walzenanordnungen bei der Wellpappeherstellung eingesetzt, wo eine Riffelung der zu bearbeitenden Materialbahn erreicht werden soll. Daher kann erfindungsgemäß vorgesehen sein, dass die Profilierung oder/und die Komplementär-Profilierung von einer Riffelung gebildet ist. Um hinreichend gute Arbeitsergebenisse bei der Bearbeitung der Materialbahn zu erreichen, kann insbesondere bei Ausbildung der Walzen als Riffelwalzen einer Wellpappemaschine, vorgesehen sein, dass der Mindestabstand zwischen der mit der Profilierung versehenen Oberfläche der ersten Walze und der mit der Komplementär-Profilierung versehenen Oberfläche der zweiten Walze kleiner ist als die Dicke der zu bearbeitenden Materialbahn. Eine derartige Bemessung des Mindestabstands zwischen den beiden Oberflächen sorgt für eine Quetschung der Materialbahn zwischen den Walzen, womit sich eine hinreichend gute Verformung, insbesondere Riffelung, der zu bearbeitenden Materialbahn ergibt. In Abstimmung mit den bei der Wellpappeherstellung eingesetzten Materialbahndicken kann erfindungsgemäß weiter vorgesehen sein, dass der Mindestabstand im Bereich von 0,01 mm bis 0,30 mm, vorzugsweise im Bereich von 0,02 mm bis 0,20 mm, am meisten bevorzugt im Bereich von 0,03 mm bis 0,10 mm liegt.

Um die Walzen der Walzenanordnung vor Korrosion, Oberflächenverschleiß aufgrund der Wechselwirkung mit der Materialbahn oder weiteren Umwelteinflüssen zu schützen, kann erfindungsgemäß ferner vorgesehen sein, dass die erste oder/und die zweite Walze zumindest in ihrem profilierten Oberflächenbereich mit einer Beschichtung, vorzugsweise aus Wolframkarbid oder aus Chrom, versehen ist.

Für die Bemessung des Mindestabstands kann die folgende Beziehung gelten

A = Rh - [(D1 - Dr)/2 + (D2 - Da)/2],

wobei gilt:
A: Mindestabstand,
D1: Durchmesser des Hüllkreises um den profilierten Oberflächenabschnitt der ersten Walze,
D2: Durchmesser des Hüllkreises um den mit Komplementär-Profilierung versehenen Oberflächenabschnitt der zweiten Walze,
Dr: Außendurchmesser des Anschlagmittels an der ersten Walze;
Da: Außendurchmesser des Anschlagmittels an der zweiten Walze;
Rh: Berg-zu-Tal Abstand der Riffelung beider Walzen.

Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Nachrüsten einer Walzenanordnung mit Anschlagmitteln, umfassend den Schritt Anbringen der Anschlagmittel, insbesondere mit den Anschlagmittelmerkmalen der vorstehend beschriebenen Art, an wenigstens einer Walze der Walzenanordnung derart, dass die Anschlagmittel einen Mindestabstand zwischen einer Oberfläche der ersten Walze und einer Oberfläche der zweiten Walze bestimmen.

Die Erfindung betrifft ferner eine Materialbearbeitungsmaschine, insbesondere Wellpappemaschine, ausgerüstet mit einer Walzenanordnung der vorstehend beschriebenen Art.

Im Folgenden werden Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung anhand der beiliegenden Figuren erläutert. Es stellen dar:

Fig. 1 eine erfindungsgemäße Riffelwalzenanordnung in der Draufsicht;

Fig. 2 eine Detailansicht des in Fig. 1 mit II bezeichneten Details;

Fig. 3 eine Seitenansicht entsprechend der Betrachtungsrichtung III gemäß Fig. 2;

Fig. 4 eine Ansicht entsprechend Fig. 1 einer zweiten Ausführungsform der Erfindung; und

Fig. 5 eine Detailansicht des in Fig. 4 mit V bezeichneten Bildausschnitts.

In Fig. 1 ist eine erfindungsgemäße Riffelwalzenanordnung allgemein mit 10 bezeichnet. Die Riffelwalzenanordnung 10 umfasst eine erste Riffelwalze 12 und eine zweite Riffelwalze 14. Die erste Riffelwalze umfasst einen mit einer Oberflächenprofilierung 16, welche in Form einer Riffelung ausgebildet ist, versehenen Walzenkörper 18. An beiden Enden des Walzenkörpers 18 ist jeweils ein Anschlagring 20, 22 in unmittelbarer Nachbarschaft angeordnet.

Ferner umfasst die erste Riffelwalze 12 Lagerzapfen 24, 26, welche in korrespondierenden Lageranordnungen 28, 30 zur drehbaren Lagerung der ersten Riffelwalze 12 um ihre Drehachse A aufgenommen sind.

Korrespondierend zur ersten Riffelwalze 12 umfasst die zweite Riffelwalze 14 eine Komplementär-Oberflächenprofilierung 28, welche in einem Wirkbereich 30 mit der Oberflächenprofilierung 16 der ersten Riffelwalze 12 zusammenwirkt und welche auf einem Walzenkörper 32 ausgebildet ist. Beidseits des Walzenkörpers 32 sind als Anschlagringe 34, 36 wirkende Flansche ausgebildet, die jeweils paarweise mit den Anschlagringen 20 und 22 an der Riffelwalze 12 zusammenwirken. Die als Anschlagringe 34, 36 wirkenden Flansche können beispielsweise durch Abflachen, Abschleifen oder Abdrehen der Komplementär- Oberflächenprofilierung 28 hergestellt werden. Sie können aber auch als nachträglich benachbart zur Komplementär-Oberflächenprofilierung 28 an der zweiten Riffelwalze 14 angebrachte Anschlagringe ausgebildet sein. Die zweite Riffelwalze 14 ist ebenfalls mit Lagerzapfen 38, 40 versehen, welche in korrespondierenden Lageranordnungen 42, 44 zur drehbaren Lagerung der zweiten Riffelwalze 14 um ihre Drehachse B aufgenommen sind.

Wendet man sich nun den Detailzeichnungen gemäß Fig. 2 und 3 zu, so ist folgendes zu erkennen. Der Anschlagring 20 ist mit geringem axialem Abstand x zu dem Walzenkörper 18 angeordnet, wobei dieser axiale Abstand x durch Anbringen eines Freistichs hergestellt werden kann. Die beiden korrespondierenden Anschlagringe 20 und 34 an der ersten Riffelwalze 12 und 34 an der zweiten Riffelwalze 14 liegen über ihre Anlageflächen 42 (an dem Anschlagring 20) und 44 (an dem Anschlagring 34) aneinander an. Der Durchmesser Dr des auf der ersten Riffelwalze 12 vorgesehenen Anschlagrings 20 und der Durchmesser Da des auf der zweiten Riffelwalze 14 vorgesehenen Anschlagrings 34 sind relativ zueinander derart bemessen, dass bei gegenseitiger Anlage der Anlageflächen 42 und 44 sich ein Abstand A zwischen der Oberfläche 46 der Profilierung 16 der ersten Walze 12 und der Oberfläche 48 der Komplementär-Profilierung 28 der zweiten Walze 14 einstellt.

Beide Profilierungen sind komplementär ausgebildet und weisen einen Berg-zu- Tal-Abstand Rh auf. Der Mindestabstand A zwischen den beiden Oberflächen 46 und 48 bestimmt sich bei gegenseitiger Anlage der Anlageflächen 42 und 44 wie folgt:

A = Rh - [(D2 - Da)/2 + (D1 - Dr)/2].

Diese Beziehung ergibt sich aus einer Gleichung, welche den jeweiligen Abstand der beiden Drehachsen A und B von erster Walze 12 und zweiter Walze 14 beschreibt, einmal ausgedrückt über die Durchmesser Dr und Da der Anschlagringe 34 und 36 sowie zum anderen ausgedrückt über die Durchmesser D1, D2, den Abstand Rh und den Mindestabstand A der Profilierung 16 und der Komplementär-Profilierung 28. Es sei angemerkt, daß bei Ausbildung von einer der beiden Riffelwalzen als bombierte Walze, der Abstand der Profilierung und der Komplementär-Profilierung im mittleren Bereich der Walzen kleiner ist als in deren äußeren Bereichen und im mittleren Bereich bis auf nahezu null reduziert werden kann.

Fig. 4 und 5 zeigen ein zweites Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.

Zur Erläuterung dieses zweiten Ausführungsbeispiels werden für gleiche oder gleich wirkende Komponenten dieselben Bezugszeichen wie im ersten Ausführungsbeispiel verwendet, jedoch ergänzt mit einem Apostroph ('). Zur Vermeidung von Wiederholungen werden lediglich die Unterschiede der beiden Riffelwalzenanordnungen 10 gemäß Fig. 1 bis 3 und 10' gemäß Fig. 4 und 5 beschrieben.

Die Riffelwalzenanordnung 10' unterscheidet sich von der Riffelwalzenanordnung 10 lediglich in der Ausgestaltung der Anschlagmittel. Benachbart zu dem mit der Oberflächenprofilierung 16' versehenen Walzenkörper 18' sind beidseits unprofilierte Walzenabschnitte 50', 52' ausgebildet. An diese unprofilierten Walzenabschnitte 50' schließen sich die Lagerzapfen 24' und 26' an. Auf den unprofilierten Walzenabschnitten 50', 52' sind jeweils etwa mittig in einem axialen Abstand x' von dem Walzenkörper 18' die Anschlagringe 20' und 22' angeordnet.

An der zweiten Riffelwalze 14' sind ebenfalls benachbart zu dem Walzenkörper 32' unprofilierte Walzenabschnitte 54' und 56' angeordnet, an welche sich jeweils die Lagerzapfen 38' und 40' anschließen.

Bei eingestelltem Mindestabstand A zwischen der Oberflächenprofilierung 16' und der Komplementär-Oberflächenprofilierung 28' liegt, wie in Fig. 5 gezeigt, der Anschlagring 20' mit seiner Anlagefläche 42' an der Gegenanlagefläche 44' des unprofilierten Walzenabschnitts 54' an. Gleiches gilt für die in Fig. 5 nicht dargestellte Situation im Bereich des Anschlagrings 22'.

Die Berechnung des Mindestabstands A erfolgt gemäß der vorstehend zum ersten Ausführungsbeispiel angegebenen Beziehung.

Im Betrieb läuft eine Materialbahn M bzw. M' durch den Bereich 30 bzw. 30' und wird dort einer Umformung, insbesondere Riffelung, unterzogen. Dabei gewährt der Mindestabstand A einerseits, dass die Materialbahn nicht durch zu hohe Anpressdrücke der beiden Riffelwalzen 12 und 14 zerstört wird, und andererseits, dass sich die Riffelwalzen 12 und 14 in einem nicht von der Materialbahn M überdeckten Randbereich nicht berühren und durch eine derartige Berührung beschädigt werden.

Claims

1. Walzenanordnung, insbesondere Riffelwalzenanordnung zur Riffelung einer Materialbahn (M), beispielsweise aus Papier oder Pappe, diese Walzenanordnung (10; 10') ausgeführt mit:
wenigstens einer um eine erste Drehachse (A; A') drehbar gelagerten ersten Walze (12; 12') mit einer profilierten Oberfläche (16; 16');
wenigstens einer um eine zweite Drehachse (B; B') drehbar gelagerten zweiten Walze (14; 14') mit einer Oberfläche (48), welche mit einer zu der Profilierung (16; 16') der ersten Walze (12; 12') korrespondierenden Komplementär-Profilierung (28; 28') versehen ist; und
Andrückmitteln zum Drücken der ersten Walze (12; 12') oder/und der zweiten Walze (14; 14') aufeinander zur:
wobei in wenigstens einem axialen Randbereich (24, 26, 38, 40; 50', 52', 54', 56') der ersten oder/und der zweiten Walze (12, 14; 12', 14') Anschlagmittel (20, 22, 34, 36; 20', 22', 54', 56') vorgesehen sind, durch welche ein Mindestabstand (A) zwischen der mit der Profilierung (16; 16') versehenen Oberfläche (46) der ersten Walze (12; 12') und der mit der Komplementär-Profilierung (28; 28') versehenen Oberfläche (48) der zweiten Walze (14; 14') bestimmt ist.

2. Walzenanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Anschlagmittel (20, 22, 34, 36; 20', 22', 54', 56') jeweils an einem benachbart der mit Profilierung (16; 16') oder Komplementär-Profilierung (28; 28') versehenen Oberfläche (46, 48) ausgebildeten unprofilierten Walzenabschnitt (24, 26, 38, 40; 50', 52', 54', 56') ausgebildet sind.

3. Walzenanordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Anschlagmittel (20, 22, 34, 36) unmittelbar an den mit Profilierung (16, 16') oder Komplementär-Profilierung (28; 28') versehenen Walzenabschnitt (18, 32; 18', 32') anschließen.

4. Walzenanordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Anschlagmittel (20', 22') mit Abstand zu dem mit Profilierung (16') oder Komplementär-Profilierung (28') versehenen Walzenabschnitt (18') angeordnet sind.

5. Walzenanordnung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass der unprofilierte Walzenabschnitt (50', 52', 54', 56') einen kleineren Außendurchmesser aufweist als der Außendurchmesser (D1, D2) eines die Oberfläche (46, 48) der ersten und zweiten Walze (12, 14; 12', 14') im Querschnitt einhüllenden Hüllkreises.

6. Walzenanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Anschlagmittel wenigstens einen an einer Walze von erster Walze (12; 12') oder zweiter Walze (14; 14') angeordneten Anschlagring (20, 22, 34, 36; 20', 22') umfassen, welcher über seine Außenumfangsfläche (42; 42') mit einer korrespondierenden Anlagefläche (44; 44') an der jeweils anderen Walze von erster Walze (12; 12') oder zweiter Walze (14; 14') in gegenseitiger Anlage steht oder in gegenseitige Anlage bringbar ist.

7. Walzenanordnung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die korrespondierende Anlagefläche (44; 44') an der jeweils anderen Walze von erster Walze (12; 12') und zweiter Walze (14; 14') von einer Außenumfangsfläche (44) eines an der jeweils anderen Walze von erster Walze (12; 12') und zweiter Walze (14; 14') angeordneten weiteren Anschlagrings (34) gebildet ist.

8. Walzenanordnung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die korrespondierende Anlagefläche (44') an dem unprofilierten Walzenabschnitt (54', 56') ausgebildet ist.

9. Walzenanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in axialer Richtung beidseits der mit Profilierung (16; 16') oder Komplementär-Profilierung (28; 28') versehenen Oberfläche (46, 48) der ersten Walze (12; 12') oder/und der zweiten Walze (14; 14') Anschlagmittel (20, 22, 34, 36; 20', 22', 54', 56') vorgesehen sind.

10. Walzenanordnung nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Anschlagring (20, 22, 34, 36; 20', 22') integral an der Walze (12, 14; 12', 14') ausgebildet ist.

11. Walzenanordnung nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Anschlagring (20, 22, 34, 36; 20', 22') gesondert an der Walze (12, 14; 12', 14') angebracht ist, vorzugsweise durch Verschraubung oder durch Verschweißung.

12. Walzenanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eine der Walzen (12, 14; 12', 14') bombiert ist.

13. Walzenanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Profilierung (16; 16') oder/und die Komplementär-Profilierung (28; 28') von einer Riffelung gebildet ist.

14. Walzenanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Mindestabstand (A) kleiner ist als die Dicke der Materialbahn (M; M').

15. Walzenanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Mindestabstand (A) im Bereich von 0,01 mm bis 0,30 mm, vorzugsweise im Bereich von 0,02 mm bis 0,20 mm, am meisten bevorzugt im Bereich von 0,03 mm bis 0,10 mm liegt.

16. Walzenanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste oder/und die zweite Walze (12, 14; 12', 14') zumindest in ihrem profilierten Oberflächenbereich (18, 32; 18', 32') mit einer Beschichtung vorzugsweise aus Wolframkarbid oder Chrom versehen ist.

17. Walzenanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Mindestabstand nach Maßgabe der Beziehung bestimmt wird:
A = Rh - [(D2 - Da)/2 + (D1 - Dr)/2],
wobei gilt:
A: Mindestabstand
Rh: Berg-zu-Tal-Abstand der Profilierung
D1: Durchmesser des Hüllkreises um die Profilierung der ersten Walze
D2: Durchmesser des Hüllkreises um die Komplementär-Profilierung der zweiten Walze
Dr: Außendurchmesser des der ersten Walze zugeordneten Anschlagmittels und
Da: Außendurchmesser des der zweiten Walze zugeordneten Anschlagmittels.

18. Verfahren zum Nachrüsten einer Walzenanordnung (10; 10') mit Anschlagmitteln, insbesondere einer Walzenanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 17, umfassend den Schritt: Anbringen der Anschlagmittel, insbesondere mit den Anschlagmittelmerkmalen nach einem der vorangehenden Ansprüche, an wenigstens einer Walze (12, 14; 12', 14') der Walzenanordnung (10; 10'), derart, dass durch die Anschlagmittel ein Mindestabstand zwischen einer Profilierung (16; 16') der Oberfläche der ersten Walze (12; 12') und einer Komplementär-Profilierung (28; 28') der Oberfläche der zweiten Walze (14; 14') bestimmt ist.

19. Materialbearbeitungsmaschine, insbesondere Wellpappemaschine, ausgerüstet mit einer Walzenanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 17.