DE10033013A1 - Flüssigkeits-Spritzpresssystem zum Vergießen von integrierten Halbleiterschaltungen - Google Patents
Flüssigkeits-Spritzpresssystem zum Vergießen von integrierten HalbleiterschaltungenInfo
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 46
- 238000004382 potting Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 8
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 title description 13
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 2
- 238000009223 counseling Methods 0.000 claims 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 5
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 5
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 238000005453 pelletization Methods 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 239000012899 standard injection Substances 0.000 description 1
- 238000013024 troubleshooting Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C70/00—Shaping composites, i.e. plastics material comprising reinforcements, fillers or preformed parts, e.g. inserts
- B29C70/68—Shaping composites, i.e. plastics material comprising reinforcements, fillers or preformed parts, e.g. inserts by incorporating or moulding on preformed parts, e.g. inserts or layers, e.g. foam blocks
- B29C70/70—Completely encapsulating inserts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/02—Transfer moulding, i.e. transferring the required volume of moulding material by a plunger from a "shot" cavity into a mould cavity
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/18—Feeding the material into the injection moulding apparatus, i.e. feeding the non-plastified material into the injection unit
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/565—Moulds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
Ein Vergießsystem wird zum Vergießen von Halbleiterprodukten verwendet. Eine untere Formeinheit (12) umfasst einen Formtopf (15) und einen Formkolben (40). Mit einer Substrat-Beschickungseinrichtung (16) wird ein Substrat in einen Hohlraum (13) in der unteren Formeinheit (12) eingebracht. Eine Flüssigkeits-Abgabeeinrichtung (17) gibt ein Vergießmittel in den Formtopf (15) ein. Das Vergießmittel befindet sich in einem nichtgehärteten flüssigen Zustand, wenn es in den Formtopf eingebracht wird. An die untere Formeinheit (12) wird eine obere Formeinheit (11) geklemmt.
Description
Die Erfindung betrifft integrierte Schaltungen und insbe
sondere ein Flüssigkeits-Spritzpresssystem zum Vergießen
(Einkapseln) von integrierten Halbleiterschaltungen.
Nach der Herstellung von integrierten Schaltungen auf einer
Silizium-Wafer-Fläche werden die Wafer im allgemeinen zu
einzelnen Matrizen zersägt. Jede Matrize wird dann an einem
Substrat (zum Beispiel einem Leitungsrahmen) befestigt, wo
bei Verbindungsdrähte (Bonddrähte) zur Herstellung einer
elektrischen Verbindung zwischen der Matrize und der äuße
ren Umgebung verwendet werden.
Das am weitesten verbreitete Verfahren zum Vergießen (Ein
kapseln) von Halbleitergruppen ist im allgemeinen ein
Spritzpressverfahren, da dieses sehr vielseitig anwendbar
ist und entsprechende Systeme einen hohen Durchsatz aufwei
sen. Die in Systemen für Spritzpressverfahren verwendeten
Materialien zum Vergießen liegen im allgemeinen in fester
Form vor. Sie werden durch Pelletisieren eines Pulvers aus
einer Mischung aus Harz (Kunstharz), einem Füllmaterial,
einem Härtemittel, einem Katalysator, Ruß usw. hergestellt.
Einige der Nachteile bei der Anwendung dieser pelletisier
ten Form-Zusammensetzungen sind das Entstehen von Staub
(der von den Pellets ausgeht), nicht-gleichmäßige Dichte
der Pellets und Absorption von Feuchtigkeit.
Andererseits ergeben sich bei der Verwendung von flüssigen
Materialien zum Vergießen nicht die mit dem pelletisierten
Pulver verbundenen Probleme. Sie lassen keinen Staub ent
stehen und sind im Hinblick auf ihre Dichte und andere Ei
genschaften sehr gleichförmig. Die meisten Materialien, die
zum Vergießen von optoelektronischen Komponenten verwendet
werden, liegen in flüssiger Form vor. Sie können somit
nicht direkt in einem Spritzpresssystem verwendet werden.
Eine Möglichkeit, von der häufig Gebrauch gemacht wird, be
steht darin, die flüssigen Materialien durch teilweises
Härten (B-Zustand genannt) der Materialien bis zu einem ge
wissen Grad in eine feste Form zu überführen und daraus
dann eine Pellet-Form zu bilden. In diesem teilweise gehär
teten Zustand hat das Material jedoch eine höhere Viskosi
tät und somit ein verschlechtertes Fließverhalten. Weiter
hin hat der Zustand der teilweisen Härtung eine schlechtere
Anhaftung an den Substraten zur Folge.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird
ein Einkapselungssystem zum Vergießen von Halbleiter-
Produkten verwendet. Eine untere Formeinheit umfasst einen
Formtopf und einen Formkolben. Mit einer Substrat-
Beschickungseinrichtung wird ein Substrat in einen Hohlraum
in der unteren Formeinheit eingebracht. Eine Flüssigkeits-
Abgabeeinrichtung gibt ein Material zum Vergießen in den
Formtopf ein. Das Material zum Vergießen befindet sich beim
Einbringen in den Formtopf in einem nichtgehärteten flüssi
gen Zustand. Anschließend wird an die untere Formeinheit
eine obere Formeinheit geklemmt.
Die Erfindung ermöglicht die Verwendung von flüssigen Mate
rialien zum Vergießen und somit einen Ersatz der festen
Form-Zusammensetzungen bei zahlreichen Anwendungen. Die Er
findung ermöglicht ferner bei optoelektronischen Elementen
wie lichtemittierenden Dioden (LEDs), Displays oder Infra
rot-Elementen eine Massenproduktion mit geringen Kosten.
Weiterhin führt die besonders gute Anhaftung des flüssigen
Verguß-Materials zu einer besseren Qualität der Produkte,
die mit geringeren Kosten hergestellt werden können, als es
unter Anwendung von teilweise gehärteten Materialien (B-
Zustand) möglich ist. Dies beruht darauf, dass zur Herstel
lung von Materialien im B-Zustand zusätzliche Prozesse er
forderlich sind, die die Kosten des fertigen Produktes er
höhen.
Ferner eröffnet die Verwendung von flüssigen Materialien
neue Anwendungen für Spritzpressverfahren zum Beispiel in
der Optoelektronik, in der viele optoelektronische Bauele
mente unter Anwendung von Gießverfahren eingekapselt wer
den. Im allgemeinen hat ein Gießverfahren eine längere Zy
kluszeit, einen geringeren Durchsatz und kann nicht so
stark automatisiert werden.
Darüberhinaus sind bei Verwendung von flüssigen Materialien
in einem Spritzpresssystem nur geringere Formungstemperatu
ren erforderlich. Dies beruht darauf, dass die flüssigen
Materialien eine wesentlich geringere Viskosität im Ver
gleich zu festen Form-Zusammensetzungen aufweisen, bei de
nen es relativ lange dauert, bis sie schmelzen, und die ei
ne höhere Viskosität haben. Neben der geringen Viskosität
haben flüssige Verguß-Materialien einen geringeren Luft-
und Feuchtigkeitsgehalt als pelletisierte Form-
Zusammensetzungen. Dies führt zu einem geringeren Luft-
Einschluss und somit weniger Fehlern in dem fertigen ausge
härteten Material.
Anders als bei Standard-Spritzpressverfahren, bei denen
pelletisierte Form-Zusammensetzungen verwendet werden, er
möglicht die Verwendung eines automatischen Flüssigkeits-
Abgabesystems gemäß der Erfindung eine Steuerung oder Ein
stellung der Menge des abgegebenen flüssigen Materials mit
größerer Flexibilität. Dies ist insbesondere während einer
anfänglichen Prozess-Optimierung oder einer Fehlerbeseiti
gung hilfreich. Dadurch kann die Menge an Abfallmaterial
reduziert werden. Eine solche Einstellung ist mit Pellet-
Form-Zusammensetzungen schwierig oder sogar unmöglich, da
sie verschiedene Pellet-Grössen erfordern würde, die der
Hersteller der Zusammensetzung bereitstellen müsste.
Fig. 1 zeigt ein vereinfachtes Blockdiagramm eines unteren
Druckstempel-Formsystems mit einer Flüssigkeits-
Abgabeeinheit, die ein Flüssigkeits-Spritzpress-System ge
mäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung bilden.
Fig. 2 zeigt ein vereinfachtes Blockdiagramm mit einer
Darstellung einer Substrat-Beschickung des Flüssigkeits-
Spritzpress-Systems, das in Fig. 1 gezeigt ist, gemäß ei
ner bevorzugten Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 3 zeigt ein vereinfachtes Blockdiagramm mit einer
Darstellung der Abgabe von flüssigem Vergießmittel in das
Flüssigkeits-Spritzpress-System, das in Fig. 1 gezeigt
ist, gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 4 zeigt ein vereinfachtes Blockdiagramm mit einer
Darstellung einer Klemmung der Form in dem Flüssigkeits-
Spritzpress-System, das in Fig. 1 gezeigt ist, gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 5 zeigt ein vereinfachtes Blockdiagramm, in dem das
Befüllen des Form-Hohlraums in dem Flüssigkeits-
Spritzpress-System zu erkennen ist, das in Fig. 1 darge
stellt ist, gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Er
findung.
In Übereinstimmung mit einer bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung wird ein Flüssigkeits-Abgabesystem in ein
Spritzpressverfahren eingeführt, um die Anwendung von flüs
sigen Vergießmitteln an Stelle von festen Form-
Zusammensetzungen zu ermöglichen. Das entstehende Flüssig
keits-Spritzpress-System hat den hohen Durchsatz von
Spritzpress-Systemen und gleichzeitig die überlegenen
Fließ- und Anhaftungs-Eigenschaften von Flüssigkeits-
Vergießsystemen. Die Erfindung ermöglicht die Erweiterung
der Anwendung von Spritzpressverfahren auf die Herstellung
von zahlreichen anderen Halbleiterelementen (wie in der Op
toelektronik), für die Vergießmittel gegenwärtig nur in
flüssiger Form verfügbar sind.
Fig. 1 zeigt ein Boden-Druckstempel (Plungerkolben) -
Formsystem mit einer oberen Formeinheit 11 und einer unte
ren Formeinheit 12. Wenn die obere Formeinheit 11 an die
untere Formeinheit 12 geklemmt wird, entstehen Form-
Hohlräume 13. Ein Formkolben/Druckstempel (Plungerkolben)
14 dient zum Drücken des flüssigen Vergießmittels während
des Formvorgangs aus einem Formtopf 15 nach oben in die
Form-Hohlräume 13. Während in Fig. 1 nur ein einziger
Formkolben 14 gezeigt ist, kann das Boden-Kolben-Formsystem
auch zwei oder mehr Kolben jeweils in einem gesonderten
Formtopf umfassen.
Die obere Formeinheit 11 und die untere Formeinheit 12 sind
Formen, wie sie von der Firma Intercon Tools, Inc. 280
Cochrane Circle, Morgan Hill, Kalifornien 95037, von der
Firma Diehard Engineering in 7070-D Commerce Circle,
Pleasanton, Kalifornien 94588, oder von anderen Herstellern
von Formen erhältlich sind. Ein Boden-Kolben-Formsystem, in
dem pelletisierte Form-Zusammensetzungen verwendet werden,
kann von mehreren Herstellern, zum Beispiel von der Firma
ASM America, Inc. 97E. Brokaw Road, Suite 100, San Jose,
Kalifornien 95112-4209 bezogen werden.
Zum Einbringen bzw. Einsetzen von Substraten und Leitungs
rahmen auf die untere Formeinheit 12 an den Stellen der
Form-Hohlräume 13 wird eine Substrat-
Beschickungseinrichtung 16 verwendet. Ein Flüssigkeits-
Abgabesystem 17 ersetzt eine Beschickungseinrichtung für
pelletisierte Form-Zusammensetzungen, die in üblichen
Spritzpressmaschinen vorhanden ist. Das Flüssigkeits-
Abgabesystem 17 umfasst einen Vorrat 19 für ein flüssiges
Vergießmittel, der mit einem solchen Mittel (Formmaterial)
gefüllt ist. Das flüssige Vergießmittel ist zum Beispiel
eine Mischung aus Kunstharz, Füllmaterial, Härtemittel, Ka
talysator, Ruß usw. . An einem einfahrbaren Arm 20 ist ein
Abgabekopf 21 montiert. Eine automatisch mit einfahrbare
Pfanne 18 dient im Bedarfsfall zum Auffangen von Flüssig
keit, die von dem Abgabekopf 21 heruntertropft. Auch wenn
in Fig. 1 nur ein einziger Abgabekopf 21 gezeigt ist, ist
im allgemeinen für jeden Kolben ein gesonderter Abgabekopf
vorgesehen.
Das Flüssigkeits-Abgabesystem 17 ist zum Beispiel ein Pum
pen- und Ventil-System, bei dem die Pumpe in dem Vorrat 19
für flüssiges Vergießmittel liegt und sich in dem Abgabe
kopf 21 ein Ventil befindet. Alternativ dazu kann das Flüs
sigkeits-Abgabesystem 17 auch anderer Art sein und aus den
zahlreichen anderen Flüssigkeits-Abgabeeinrichtungen ge
wählt werden, die allgemein erhältlich sind. In das Flüs
sigkeits-Abgabesystem 17 kann eine Kühleinheit integriert
werden, um im Bedarfsfall die Verarbeitungszeit des flüssi
gen Vergießmittels zu verlängern.
Fig. 2 zeigt eine Substrat-Beschickungseinrichtung 16, mit
der das Substrat und der Leitungsrahmen zugeführt werden.
Während der Zuführung des Substrates und des Leitungsrah
mens werden das Substrat und der Leitungsrahmen an den
Stellen der Form-Hohlräume 13 auf die untere Form-Einheit
12 gesetzt.
Fig. 3 zeigt das Flüssigkeits-Abgabesystem 17, das zur Ab
gabe von flüssigem Vergießmittel aus dem Vorrat 19 für
flüssiges Vergießmittel verwendet wird. Der einfahrbare Arm
20 fährt aus und bringt den Abgabekopf 21 in eine Position
zur Abgabe des flüssigen Vergießmittels in den Formtopf 15.
Wie in Fig. 4 durch Pfeile 41 angedeutet ist, wird die un
tere Formeinheit 12 an die obere Formeinheit 11 geklemmt.
Wie in Fig. 5 dargestellt ist, wird der Formkolben 14 dann
nach oben bewegt, um flüssiges Vergießmittel aus dem Form
topf 15 in die Hohlräume 13 zu drücken. Dies ist durch ei
nen Pfeil 51 angedeutet.
Nachdem das flüssige Vergießmittel in die Hohlräume 13 ein
gebracht worden ist, wird es zur Beseitigung von Blasen zum
Beispiel unter hohem Druck ausgehärtet. Dieses Verfahren
kann auch in Verbindung mit einem Vakuum angewendet werden,
um die Ausbeute weiter zu verbessern.
Claims (10)
1. Vergießsystem zum Vergießen von Halbleiterprodukten mit:
einer oberen Formeinheit (11);
einer unteren Formeinheit (12), wobei die untere Formein heit (12) einen Formtopf (15) und einen Formkolben (14) um fasst;
einer Substrat-Beschickungseinrichtung (16) zum Einbringen eines Substrates in einen Hohlraum (13) in der unteren For meinheit (12); und
einer Flüssigkeits-Abgabeeinrichtung (17) zur Abgabe von Vergießmittel in den Formtopf (15), wobei sich das Vergieß mittel in einem nichtgehärteten flüssigen Zustand befindet, wenn es in den Formtopf (15) eingebracht wird.
einer oberen Formeinheit (11);
einer unteren Formeinheit (12), wobei die untere Formein heit (12) einen Formtopf (15) und einen Formkolben (14) um fasst;
einer Substrat-Beschickungseinrichtung (16) zum Einbringen eines Substrates in einen Hohlraum (13) in der unteren For meinheit (12); und
einer Flüssigkeits-Abgabeeinrichtung (17) zur Abgabe von Vergießmittel in den Formtopf (15), wobei sich das Vergieß mittel in einem nichtgehärteten flüssigen Zustand befindet, wenn es in den Formtopf (15) eingebracht wird.
2. Vergießsystem nach Anspruch 1,
bei dem die Flüssigkeits-Abgabeeinrichtung (17) umfasst:
einen Vorrat (19), in dem sich das Vergießmittel befindet;
einen Abgabekopf (21) zur Abgabe von Vergießmittel; und
einen einfahrbaren Arm (20) zum Führen des Abgabekopfes (21) in eine Position zur Abgabe des Vergießmittels.
einen Vorrat (19), in dem sich das Vergießmittel befindet;
einen Abgabekopf (21) zur Abgabe von Vergießmittel; und
einen einfahrbaren Arm (20) zum Führen des Abgabekopfes (21) in eine Position zur Abgabe des Vergießmittels.
3. Vergießsystem nach Anspruch 1,
bei dem die obere Formeinheit (11) einen Hohlraum (13) um
fasst, der mit dem Hohlraum (13) in der unteren Formeinheit
(12) ausgerichtet ist, wenn die untere Formeinheit (12) an
die obere Formeinheit (11) geklemmt ist.
4. Vergießsystem nach Anspruch 1,
bei dem das in den Formtopf (15) abgegebene Vergießmittel
durch Ausfahren des Formkolbens (14) in den Hohlraum (13)
in der unteren Formeinheit (12) geführt wird.
5. Vergießsystem nach Anspruch 1,
bei dem das Vergießmittel ein Harz, ein Füllmaterial, ein
Härtemittel, einen Katalysator und Ruß aufweist.
6. Verfahren zum Vergießen von Halbleiterprodukten mit fol
genden Schritten:
- a) Einbringen eines Substrates in einen Hohlraum (13) in einer unteren Formeinheit (12);
- b) Abgeben von Vergießmittel in einen Formtopf (15) in der unteren Formeinheit (12), wobei sich das Vergießmittel in einem nichtgehärteten flüssigen Zustand befindet, wenn es in den Formtopf (15) eingebracht wird;
- c) Klemmen der unteren Formeinheit (12) an die obere For meinheit (11); und
- d) Überführen des Vergießmittels in den Hohlraum (13) in der unteren Formeinheit (12)
7. Verfahren nach Anspruch 6,
bei dem Schritt (b) ein Überführen des Vergießmittels aus
einem Vorrat (19) umfasst, in dem das Vergießmittel bevor
ratet gehalten wird.
8. Verfahren nach Anspruch 6,
bei dem Schritt (b) folgende Unterschritte umfasst:
- 1. (b.1) Anwenden eines einfahrbaren Arms (20), um einen Abga bekopf (21) über den Formtopf (15) zu führen; und
- 2. (b.2) Abgeben von Flüssigkeit aus dem Abgabekopf (21) in den Formtopf (15).
9. Verfahren nach Anspruch 6,
bei dem Schritt (d) ein Ausfahren eines unter dem Formtopf
(15) liegenden Formkolbens (14) umfasst, um das Vergießmit
tel in den Hohlraum (13) in der unteren Formeinheit (12) zu
überführen.
10. Verfahren nach Anspruch 6,
bei dem ein Hohlraum (13) in der oberen Formeinheit (11)
mit einem Hohlraum (13) in der unteren Formeinheit (12)
ausgerichtet ist, wenn die untere Formeinheit (12) an die
obere Formeinheit (11) geklemmt wird.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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US09/354,291 | 1999-07-15 |
Publications (2)
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---|---|
DE10033013A1 true DE10033013A1 (de) | 2001-02-01 |
DE10033013B4 DE10033013B4 (de) | 2008-04-03 |
Family
ID=23392651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10033013A Expired - Fee Related DE10033013B4 (de) | 1999-07-15 | 2000-07-06 | Flüssigkeits-Spritzpresssystem zum Vergießen von integrierten Halbleiterschaltungen und Verfahren zum Vergießen von integrierten Halbleiterschaltungen |
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Country | Link |
---|---|
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US20020158366A1 (en) | 2002-10-31 |
DE10033013B4 (de) | 2008-04-03 |
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