DD200897A1 - Verfahren und einrichtung zur nachbeschickung von al-verdampfern - Google Patents
Verfahren und einrichtung zur nachbeschickung von al-verdampfern Download PDFInfo
- Publication number
- DD200897A1 DD200897A1 DD23417481A DD23417481A DD200897A1 DD 200897 A1 DD200897 A1 DD 200897A1 DD 23417481 A DD23417481 A DD 23417481A DD 23417481 A DD23417481 A DD 23417481A DD 200897 A1 DD200897 A1 DD 200897A1
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- crucible
- vacuum
- electron beam
- outlet
- vorschmelzkammer
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 16
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 7
- 238000010025 steaming Methods 0.000 claims description 4
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims description 4
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 claims description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 2
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 1
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD23417481A DD200897A1 (de) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | Verfahren und einrichtung zur nachbeschickung von al-verdampfern |
| JP18225482A JPS58104179A (ja) | 1981-10-19 | 1982-10-19 | Ａｌ蒸発器の再充填のための方法と装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD23417481A DD200897A1 (de) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | Verfahren und einrichtung zur nachbeschickung von al-verdampfern |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD200897A1 true DD200897A1 (de) | 1983-06-22 |
Family
ID=5534181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD23417481A DD200897A1 (de) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | Verfahren und einrichtung zur nachbeschickung von al-verdampfern |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58104179A (enrdf_load_stackoverflow) |
| DD (1) | DD200897A1 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5976344B2 (ja) * | 2012-03-06 | 2016-08-23 | 株式会社アルバック | 有機ｅｌ素子の電極膜形成方法、有機ｅｌ素子の電極膜形成装置 |
-
1981
- 1981-10-19 DD DD23417481A patent/DD200897A1/de not_active IP Right Cessation
-
1982
- 1982-10-19 JP JP18225482A patent/JPS58104179A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6327425B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1988-06-02 |
| JPS58104179A (ja) | 1983-06-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101453583B1 (ko) | 기재를 코팅하는 방법 및 금속 합금 진공 증착 장치 | |
| EP3194635B1 (de) | Vorrichtung zur ausbildung von beschichtungen auf oberflächen eines bauteils, bandförmigen materials oder werkzeugs | |
| DE69105992T2 (de) | Vorrichtung und verfahren zum aufdampfen. | |
| DE10255822B4 (de) | Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid | |
| DE69615598T2 (de) | Erzeugung des Magnesiumdampfes mit hocher Verdampfungsgeschwindigkeit | |
| EP1558782B1 (de) | Vorrichtung und verfahren zum aufdampfen eines hochtemperatursupraleiters im vakuum mit kontinuierlicher materialnachführung | |
| EP1760169B1 (de) | Verdampfervorrichtung zum Beschichten von Substraten | |
| DD200897A1 (de) | Verfahren und einrichtung zur nachbeschickung von al-verdampfern | |
| EP0282540B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum metallisieren von folienoberflächen | |
| DE19845268C1 (de) | Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid | |
| EP4185730B1 (de) | Verfahren zum abscheiden von metallischen werkstoffen | |
| DE69732252T2 (de) | Verfahren zur Vakuumbedampfung von Metallen | |
| DE69634071T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats | |
| DE69506618T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Substrats mittels Kathodenzerstäubung | |
| DE1696622A1 (de) | Verbindungsbildender Bordraht mit Matrixueberzug | |
| DE102020119155B4 (de) | Verfahren zum Abscheiden von metallischen Werkstoffen | |
| DE2442164C2 (de) | Vorrichtung zur Destillation und Raffination fester und flüssiger Mischungen | |
| DE102012022744B4 (de) | Vorrichtung zum Einstellen einer Gasphase in einer Reaktionskammer | |
| EP3460092A1 (de) | Niedrigemissionsbeschichtung | |
| DE202005020544U1 (de) | Verdampfervorrichtung zum Beschichten von Substraten | |
| DE102009009992B4 (de) | Verfahren zur Abscheidung von CIS-, CIGS- oder CIGSSe-Schichten und Verwendung eines Drahtes zur Herstellung dieser Schichten | |
| DE4442733A1 (de) | Einrichtung zur Bedampfung bandförmiger Substrate im Vakuum | |
| DE19539961C1 (de) | Verfahren zum thermischen Verdampfen von elektrisch leitfähigen Materialien | |
| DE1771629C (de) | Verdampfungsvorrichtung für Aluminium | |
| DD160563A1 (de) | Verfahren zum betrieb eines zinkverdampfers und verdampfer |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ENJ | Ceased due to non-payment of renewal fee |