DE202005020544U1 - Verdampfervorrichtung zum Beschichten von Substraten - Google Patents
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Abstract
Verdampfervorrichtung
zum Beschichten von Substraten mit wenigstens einem Material, enthaltend
einen Tiegel mit
a) einer Einschmelzzone (2),
b) einer Verdampferzone (5),
c) einer Verbindung (4) zwischen Einschmelzzone (2) und Verdampferzone (5),
d) einer Heizeinrichtung (28, 18), die es ermöglicht, die Einschmelzzone (2) und die Verdampferzone (5) auf jeweils verschiedene Temperaturen aufzuheizen.
a) einer Einschmelzzone (2),
b) einer Verdampferzone (5),
c) einer Verbindung (4) zwischen Einschmelzzone (2) und Verdampferzone (5),
d) einer Heizeinrichtung (28, 18), die es ermöglicht, die Einschmelzzone (2) und die Verdampferzone (5) auf jeweils verschiedene Temperaturen aufzuheizen.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Verdampfervorrichtung zum Beschichten von Substraten mit wenigstens einem Material.
- Das Beschichten eines Substrats mit einem Material kann, neben dem elektrolytischen Verfahren, auch durch Sputtern oder durch Bedampfen erfolgen. Die so entstandene Schicht dient oft dem Schutz des beschichteten Materials, wobei sie aber auch rein dekorative oder funktionale Bedeutung haben kann.
- Das Aufbringen einer Schicht durch Bedampfen spielt insbesondere bei der Beschichtung von Substraten mit Metallen eine große Rolle. Dabei wird ein Metall in einem Tiegel geschmolzen, wobei die Temperatur so gewählt ist, dass das Metall in den gasförmigen Zustand übergeht und in Richtung des zu beschichtenden Substrats wandert, wo es kondensiert.
- So sind für das Beschichten von Substraten Verdampfungsanlagen bekannt, bei denen in einem evakuierten Raum mehrere Verdampferschiffchen untergebracht sind. In diese Verdampferschiffchen wird – häufig in einem kontinuierlichen Prozess – Material in Form eines Drahts eingebracht, welches verdampft. Dieser Dampf steigt auf und kondensiert auf dem zu beschichtenden Substrat, wobei das Substrat, oft als Band, über die Verdampferschiffchen geführt ist. Nachteilig ist bei dieser Verdampferanlage, dass sich beim direkten Verdampfen Spritzer bilden, da durch Verunreinigungen und gasförmige Anteile unregelmäßige Dampfdrücke erzeugt werden. Die Spritzer entstehen ferner durch schnelle Bewegung der Schmelze in heißen Zonen der Verdampferschiffchen. Das zum Teil diskontinuierliche Abschmelzen des Drahts führt außerdem zu unterschiedlichen Abdampfraten, weil diese vom Auftreffort des Drahts abhängig sind.
- Aus der
DE 40 27 034 C1 ist eine Verdampfervorrichtung zum Beschichten von bandförmigen Substraten in einer Vakuumbeschichtungskammer bekannt. Die dort verwendeten Verdampferschiffchen bilden eine Verdampferbank, wobei die Schiffchen längs zur Bandlaufrichtung und parallel in etwa gleich großen Abständen zueinander angeordnet sind. - Des Weiteren ist aus der
DE 44 04 550 C2 eine Anordnung zur Regelung der Verdampferrate von Tiegeln bekannt, die durch Stromdurchfluss erhitzt werden, wobei mit diesen Tiegeln Metall verdampft wird. Die Regelung der Verdampferrate erfolgt in diesem Fall über eine elektrische Widerstandsheizung, wobei sich der Gesamtwiderstand aus dem elektrischen Widerstand des Tiegels und aus dem elektrischen Widerstand des Materials in dem Tiegel ergibt. - Es ist außerdem eine Vorrichtung zum Verdampfen von Metall bekannt, wobei ein Draht in eine Rinne, die in Fließverbindung mit einem Verdampfertiegel in Verbindung steht, eingebracht wird (
DE 34 28 651 A1 ). Beim Schmelzen des Drahts kann es durch Verunreinigungen und gasförmige Anteile wegen der unterschiedlichen Dampfdrücke zu Spritzern kommen, die auf das Substrat gelangen. Um dies zu vermeiden, ist oberhalb der Rinne eine gekühlte Abschirmung oder Abdeckung angebracht. Dadurch wird gewährleistet, dass das Substrat nur durch das aus dem Verdampfertiegel aufsteigende Material beschichtet wird. - Schließlich sind auch noch Verdampferschiffchen bekannt, bei denen sich zwischen einer ersten Zone und einer zweiten Zone eine Abschirmung in Form einer Wand befindet. Diese Wand soll verhindern, dass die beim Schmelzen des Metalls entstehenden Spritzer auf das zu beschichtende Substrat gelangen können (
US 3 467 058 ,EP 0 430 210 B1 ). - Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht darin, eine Verdampfervorrichtung zum Beschichten von Substraten mit Materialien, insbesondere von Metallen, bereitzustellen, die so konzipiert ist, dass keine Spritzer auf das Substrat gelangen können, wobei der Einbau von Wänden oder anderweitigen Abschirmungen nicht notwendig ist.
- Diese Aufgabe wird gemäß den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
- Die Erfindung betrifft somit eine Verdampfervorrichtung mit einem Tiegel, wobei der Tiegel in wenigstens zwei Zonen aufgeteilt ist, die jeweils auf verschiedene Temperaturen aufgeheizt werden. Bei der ersten Zone handelt es sich um eine Einschmelzzone und bei der zweiten Zone um die eigentliche Verdampferzone. Die Verdampfervorrichtung ist vorzugsweise für das Verdampfen von Metallen geeignet. Werden Metalle verdampft, so wird vorzugsweise ein Metalldraht in die Einschmelzzone geführt. Es können jedoch auch Metalllegierungen verdampft werden, indem man einen oder mehrere aus unterschiedlichen Materialien bestehende Metalldrähte in die Einschmelzzone einführt. Zwischen der Einschmelzzone und der Verdampferzone kann eine Aufwärmzone vorgesehen sein.
- Der mit der Erfindung erzielte Vorteil besteht insbesondere darin, dass eine spritzerfreie und sehr gleichmäßige Abdampfrate für qualitativ hochwertige Schichten auf organischen Substraten, z. B. OLEDs, und Kunststofffolien erzielt wird. Dies ist beispielsweise bei der Herstellung von Kondensatoren, wo spritzerfreie Schichten bei guter Gleichmäßigkeit und geringer Strahlungsbelastung auf Dünnstfolien aufgebracht werden müssen, von Bedeutung. Vorteilhaft ist auch, dass an die Genauigkeit der Drahtführung keine hohen Anforderungen gestellt werden müssen, weil der Auftreffpunkt des Drahts auf dem erhitzten Tiegel für die Abdampfrate unwichtig ist. Da in der Einschmelzzone niedrigere Temperaturen als in der Verdampferzone herrschen, wird auch die Drahtführung thermisch wenig belastet und wenig bedampft. Durch die Aufteilung in Einschmelz- und Verdampferzone können Verunreinigungen wie Schmutz oder Oxidschichten von der Verdampferzone weitgehend ferngehalten werden. Die Lebensdauer des Tiegels wird ebenfalls erhöht, weil sich das flüssige zu verdampfende Material nur langsam bewegt.
- Ausführungsformen der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert. Es zeigen:
-
1 eine perspektivische Ansicht einer Verdampfervorrichtung mit drei Zonen; -
2 eine perspektivische Ansicht einer Variante der in1 gezeigten Vorrichtung, wobei jede der drei Zonen eine separate Heizung aufweist; -
3 eine Draufsicht auf die Verdampfervorrichtung gemäß2 ; -
4 einen Schnitt der Verdampfervorrichtung gemäß3 entlang A-A; -
5 einen Schnitt durch eine andere Ausführungsform der Verdampfervorrichtung; -
6 eine Verdampferbank mit mehreren Verdampferschiffchen. -
1 zeigt eine perspektivische Ansicht einer Verdampfervorrichtung1 mit einem Tiegel6 , der aus drei Zonen besteht. Dabei wird in die erste Zone2 , die so genannte Einschmelzzone, das zu verdampfende Material eingebracht, wo es geschmolzen wird. Handelt es sich bei dem Material um ein Metall, so kann dieses in Form eines Drahts3 in die Einschmelzzone2 eingebracht werden. - Der Draht
3 kann sich, wie zum Beispiel inUS 3 467 058 , auf einer Rolle befinden, von der er kontinuierlich in die Einschmelzzone2 eingeführt wird. Soll eine Legierung auf das Substrat aufgebracht werden, so kann der Draht3 bereits diese Legierung aufweisen, oder es kann die Legierung durch gleichzeitiges Schmelzen mehrerer Drähte der gewünschten Metalle, welche die Legierung bilden sollen, hergestellt werden. - Dabei spielt es keine Rolle, wie der Draht
3 in die Einschmelzzone2 eingeführt wird, da an die Genauigkeit der Drahtführung keine großen Anforderungen gestellt werden. - Vorzugsweise sollen mit dieser Verdampfervorrichtung
1 solche Metalle bzw. deren Legierungen verdampft werden, die Ag, Cu, Al enthalten. - Auf die Einschmelzzone
2 des Tiegels6 folgt eine so genannte Erwärmungszone4 , in der eine Temperatur herrscht, welche die Siedetemperatur des Metalls mit dem niedrigsten Siedepunkt nicht erreichen darf, die aber höher als die Temperatur der Einschmelzzone2 ist. In dieser Erwärmungszone4 werden niedrig siedende Verunreinigungen entfernt, sodass Metalle erhalten werden, die einen sehr hohen Reinheitsgrad besitzen. - Die Erwärmungszone
4 des Tiegels6 weist eine Form auf, die an das Material der Schmelze25 und die jeweiligen temperaturabhängigen Oberflächenspannungen angepasst ist. Oft hat sie dabei die Form eines Kanals, wie hier dargestellt, der die Einschmelzzone2 mit einer Verdampferzone5 verbindet. Die Erwärmungszone4 ist kleiner als die Zonen2 und5 und verhindert, dass es zu einem Austausch der Schmelze25 in den Zonen2 und5 kommt, da es wichtig ist, den kälteren Bereich2 vom heißeren Bereich5 getrennt vorliegen zu haben, denn es soll vermieden werden, dass es bereits in der Einschmelzzone2 zur Verdampfung kommt. Die Größe der Erwärmungszone4 ist materialabhängig, sie kann in der Praxis z. B. eine Länge von 10 mm aufweisen. Die Temperatur der Schmelze25 steigt von der Zone2 bis hin zur Zone5 stetig an. - Nachdem die Schmelze
25 die Erwärmungszone4 des Tiegels6 passiert hat, gelangt sie in die Verdampferzone5 , wo das Material schließlich auf das Substrat aufgedampft wird, welches über der Verdampferzone5 angeordnet ist. - Das Material des Tiegels
6 muss einen Schmelzpunkt haben, der weit oberhalb der Verdampfungstemperatur des Metalls liegt, welches es zu verdampfen gilt. Als Materialien für den Tiegel6 kommen hoch schmelzende Verbindungen in Frage, wobei der Tiegel6 auch aus mehreren Verbindungen dieser Art bestehen kann. Neben Graphit können beispielsweise Verbindungen der metallischen Boride, Nitride oder Carbide sowie Verbindungen der nicht metallischen Boride, Nitride oder Carbide verwendet werden. Auch TiB2 zusammen mit BN sind als Material des Tiegels6 geeignet. - Dabei wird der Tiegel
6 in der Form beheizt, dass die Temperatur im Bereich2 am niedrigsten und im Bereich 5 am höchsten ist, wobei das Heizen über nur eine oder über mehrere separat voneinander betriebene Heizungen erfolgen kann. - Bei dem in der
1 gezeigten Ausführungsbeispiel erfolgt die Aufheizung durch einen Strom, der durch den Tiegel6 fließt, und zwar in dessen Längsrichtung. Hierzu ist eine Spannungsquelle28 über Leitungen29 ,30 an die Enden des Tiegels6 angeschlossen. Aufgrund von Aussparungen31 bis38 an den Seiten des Tiegels6 ergeben sich verschiedene elektrische Widerstände an den verschiedenen Zonen. An denjenigen Zonen, an denen der Tiegel6 sehr schmal ist, ergibt sich ein hoher elektrischer Widerstand und damit eine hohe Temperatur, weil diese Temperatur gemäß der Formel W = R · I2 zum elektrischen Widerstand proportional ist, wobei W = elektrische Leistung, R = Widerstand und I = Stromstärke. Da die elektrische Leistung zur Temperatur proportional ist, ergibt sich somit ein Zusammenhang zwischen der Querschnittsbreite des Tiegels6 und der dort herrschenden Temperatur. Es ist nun möglich, die Form des Tiegels6 so zu berechnen, dass sich an bestimmten Stellen bestimmte Temperaturen einstellen, beispielsweise von 1200 °C in der Einschmelzzone2 , von 1260 °C bis 1496 °C in der Erwärmungszone4 und 1560 °C in der Verdampferzone5 . Die jeweiligen Temperaturen sind indessen von dem jeweils zu verdampfenden Material abhängig. Damit kann auch die Geometrie des Tiegels6 von Material zu Material verschieden sein. - Für Aluminium gilt beispielsweise, dass die Temperatur in der Einschmelzzone 2 um ca. 300 bis 500 °C oberhalb des Schmelzpunkts und in der Verdampferzone
5 um ca. 900 °C oberhalb des Schmelzpunkts liegt. Die Temperaturen in den Zonen2 und4 werden so gewählt, dass es dort nicht zur Verdampfung von Material kommt. Theoretisch würde es genügen, dass die Temperatur in der Einschmelzzone nur knapp über der Schmelztemperatur liegt. Da jedoch der eingeführte Metalldraht zu einer Abkühlung führt, wählt man die Temperatur in der Einschmelzzone höher. - Es versteht sich, dass die Widerstandsverhältnisse nicht nur durch seitliche Einbuchtungen des Tiegels
6 erreicht werden können, sondern auch durch unterschiedliche Dicken des Tiegelmaterials in vertikaler Richtung. Wesentlich ist der jeweilige Gesamtquerschnitt, der für den elektrischen Widerstand verantwortlich ist. - Die aufsteigende Dampfkeule des zu verdampfenden Metalls bleibt während der Verdampfung nahezu konstant, wodurch die Beschichtung sehr gleichmäßig wird. Bilden mehrere Verdampferschiffchen eine Verdampferbank, werden die Verdampferschiffchen so ausgerichtet, dass das Substrat gleichmäßig beschichtet wird. Dies kann nicht nur durch die Anordnung der Verdampferschiffchen zueinander, sondern auch dadurch erreicht werden, dass das Substrat in einer solchen Entfernung über die Verdampferbank geführt wird, dass es zu einer gleichmäßigen Beschichtung kommt.
- Durch die Trennung der Verdampferzone
5 von der Einschmelzzone2 ist die Bewegung von flüssigem Metall in der Verdampferzone5 selbst sehr gering, wodurch auch die Verdampfervorrichtung1 eine höhere Lebensdauer besitzt. - Die Abdampfrate kann über die Geschwindigkeit des Abschmelzens des Drahts und die Geometrie des Tiegels
6 gesteuert werden. Für den kontinuierlichen Betrieb der Verdampfervorrichtung1 kann eine Regelung des Füllstands der Schmelze25 , des Drahtvorschubs und der Verdampferleistung vorgesehen sein. - Da die Abdampfrate sehr gleichmäßig ist und es zu keinen Spritzern kommt, die auf das Substrat gelangen können, eignet sich eine solche Verdampfervorrichtung 1 zum Beschichten von z. B. Kunststofffolien mit Metall. Die Verdampferrate bestimmt sich dabei über die Oberfläche der Verdampferzone
5 , die Temperatur des Verdampfertiegels sowie die Drahtzufuhr, d. h. die Menge an geschmolzenem Draht3 pro Zeiteinheit. So kann eine solche Vorrichtung für die Kondensatoranfertigung eingesetzt werden, da hier spritzerfrei Schichten auf Dünnstfolien aufgebracht werden und die Schichten zudem sehr gleichmäßig sein müssen. - Ein weiteres Einsatzgebiet ist auch die Herstellung von Metallic Yarn, da auch hier die Anforderungen an die Verdampfervorrichtung
1 sehr hoch sind. -
2 zeigt eine perspektivische Ansicht einer Variante der in der1 gezeigten Verdampfervorrichtung1 , wobei die Einschmelzzone2 , die Erwärmungszone4 und die Verdampferzone5 des Tiegels6 jeweils über eine eigene elektrische Widerstandsheizung21 ,22 ,23 verfügen. Damit können die drei Zonen auf verschiedene Temperaturen gebracht werden. Zwischen den einzelnen Zonen2 ,4 bzw.4 ,5 befinden sich Isolierschichten39 bis42 , sodass die Ströme eindeutig in Querrichtung fließen. Die Gleichspannungsquellen18 liegen dann alle an einem eigenen Widerstand, an den sie über Schalter19 gelegt werden können. Statt konstanter Gleichspannungsquellen18 können auch regelbare Gleichspannungsquellen eingesetzt werden. Außerdem können Wechselspannungsquellen verwendet werden. - Statt dreier getrennter Spannungsquellen
18 kann auch nur eine Spannungsquelle vorgesehen sein, zu der die drei Zonen2 ,4 ,5 parallel geschaltet sind. Um hier in verschiedenen Zonen unterschiedliche Temperaturen zu erzeugen, können die Zonen aus verschiedenen Materialien bestehen oder unterschiedliche Stromfluss-Querschnitte haben. -
3 zeigt eine Draufsicht der in2 gezeigten Verdampfervorrichtung1 . Zu erkennen ist, dass der Draht3 schräg von oben in die Einschmelzzone2 eingeführt wird, wo das Metall oder die Legierung schmilzt. Diese Schmelze25 wandert über die Erwärmungszone4 in die Verdampferzone5 , wo es schließlich zur Verdampfung kommt. Deutlich zu erkennen ist die zur Verdampferzone5 schmaler werdende Erwärmungszone4 , die als Kanal ausgebildet ist. Dieser Kanal ist so geformt, wie es das geschmolzene Material und dessen temperaturabhängige Oberflächenspannung erfordert. -
4 zeigt einen Schnitt entlang A-A in3 . Der Draht3 wird in die Einschmelzzone2 gebracht, die über die Erwärmungszone4 mit der Verdampferzone5 verbunden ist. Das Becken24 der Einschmelzzone2 ist dabei tiefer als das Becken26 der Verdampferzone5 . Da der Boden der Erwärmungszone4 oberhalb des Bodens der Einschmelzzone2 liegt, kann erst dann das geschmolzene Metall in die Verdampferzone5 fließen, wenn genug Metall vom Draht abgeschmolzen wurde, um den Pegel zu erreichen, der mindestens der Höhe der Erwärmungszone4 entspricht. Der Boden des Beckens26 der Verdampferzone5 liegt unterhalb des Bodens der Erwärmungszone4 . - Die Becken der verschiedenen Zonen können jedoch auch alle auf gleichem Niveau liegen, oder es können nur die Becken der Zonen
4 und5 auf gleichem Niveau liegen. Ein Materialfluss von der Einschmelzzone2 zur Verdampferzone5 findet auch in diesem Fall statt, weil sich der Pegel des in der Verdampferzone5 befindlichen Materials aufgrund des Verdampfens senkt und damit Material aus der Einschmelzzone2 nachzieht. - Die
5 zeigt eine Variante der in4 gezeigten Vorrichtung. Im Unterschied zu der in4 gezeigten Verdampfervorrichtung besitzt die Erwärmungszone4 zur Verdampferzone5 hin ein Gefälle. - In der
6 ist gezeigt, wie mehrere Tiegel bzw. Verdampferschiffchen45 bis54 in einer Beschichtungsanlage angeordnet sein können. Jedes Verdampferschiffchen45 bis54 wird dabei mit einem eigenen Draht55 bis64 beschickt, und zwar über nicht dargestellte Drahtzuführungen. Das zu beschichtende Substrat ist hier eine Folie65 , die über eine nur angedeutete Beschichtungswalze66 in den Verdampferschiffchen vorbeigeführt wird. Die Bewegungsrichtung der Folie65 entspricht dabei der Längsrichtung der Verdampferschiffchen. Die drei Zonen der Verdampferschiffchen45 bis54 sind in der6 nicht dargestellt. - Die Verdampferschiffchen
45 bis54 sind auf einer Verdampferbank67 angeordnet, die unter die Beschichtungswalze66 geschoben werden kann. Es ist jedoch auch vorstellbar, dass die Verdampferschiffchen45 bis54 auf einem Einschub angeordnet sind, der ebenfalls unter eine Beschichtungswalze geschoben werden kann. - In der
6 sind alle Verdampferschiffchen45 bis54 offen, d. h. es sind keine Bereiche von ihnen abgedeckt. - Es ist aber auch möglich, über der Verdampferzone
5 des Tiegels gemäß1 ein Verteilerrohr senkrecht über der Verdampferzone5 anzuordnen, wobei dieses Verteilerrohr zahlreiche in vertikaler Richtung und linear angeordnete Durchbohrungen aufweist, über die der Dampf auf ein Substrat gelenkt wird. Ein solches Verteilerrohr ist beispielsweise aus derDE 102 56 038 A1 bekannt. - Anstelle von elektrischen Widerstandsheizungen können auch induktive Heizungen vorgesehen werden, die so ausgelegt sind, dass sie in verschiedenen Zonen eines Verdampferschiffchens verschiedene Temperaturen erzeugen.
Claims (22)
- Verdampfervorrichtung zum Beschichten von Substraten mit wenigstens einem Material, enthaltend einen Tiegel mit a) einer Einschmelzzone (
2 ), b) einer Verdampferzone (5 ), c) einer Verbindung (4 ) zwischen Einschmelzzone (2 ) und Verdampferzone (5 ), d) einer Heizeinrichtung (28 ,18 ), die es ermöglicht, die Einschmelzzone (2 ) und die Verdampferzone (5 ) auf jeweils verschiedene Temperaturen aufzuheizen. - Verdampfervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung zwischen Einschmelzzone (
2 ) und Verdampferzone (5 ) durch eine Erwärmungszone (4 ) gebildet ist. - Verdampfervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Tiegel (
6 ) elektrisch leitend ist und die Heizeinrichtung durch eine Spannungsquelle (28 ) in Verbindung mit der Geometrie und dem Material des Tiegels (6 ) gebildet ist, wobei die Spannungsquelle (28 ) an den Enden des Tiegels (6 ) anliegt. - Verdampfervorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Einschmelzzone (
2 ), die Erwärmungszone (4 ) und die Verdampferzone (5 ) des Tiegels (6 ) durch Isolierschichten voneinander getrennt sind und jeder Zone eine Spannungsquelle (18 ) zugeteilt ist. - Verdampfervorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Aufheizung der Zonen (
2 ,4 ,5 ) auf verschiedene Temperaturen mittels induktiver Erwärmung erfolgt. - Verdampfervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Temperatur von der Einschmelzzone (
2 ) in Richtung auf die Verdampferzone (5 ) zunimmt. - Verdampfervorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Temperatur in der Erwärmungszone (
4 ) von der Einschmelzzone (2 ) in Richtung auf die Verdampferzone (5 ) stetig zunimmt. - Verdampfervorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Zonen (
2 ,4 ,5 ) durch verschiedene geometrische Querschnitte des Tiegels (6 ) gebildet sind, wodurch der elektrische Widerstand in den Zonen (2 ,4 ,5 ) variiert. - Verdampfervorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Zonen (
2 ,4 ,5 ) aus Materialien von unterschiedlicher elektrischer Leitfähigkeit bestehen. - Verdampfervorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Erwärmungszone (
4 ) kanalähnlich ausgebildet ist. - Verdampfervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Einschmelzzone (
2 ) und die Verdampferzone (5 ) zylindertopfförmig ausgebildet sind. - Verdampfervorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die tiefsten Stellen der Zonen (
2 ,4 ,5 ) auf verschiedenem Niveau liegen. - Verdampfervorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die tiefsten Stellen der Zonen (
2 ,4 ,5 ) auf gleichem Niveau liegen. - Verdampfervorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die tiefste Stelle der Erwärmungszone (
4 ) auf einem höheren Niveau als die tiefsten Stellen der Einschmelzzone (2 ) und der Verdampferzone (5 ) liegt. - Verdampfervorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Erwärmungszone (
4 ) ein Gefälle in Richtung auf die Verdampferzone (5 ) aufweist. - Verdampfervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Einschmelzzone (
2 ) und die Verdampferzone (5 ) eine rechteckige Grundform aufweisen. - Verdampfervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Einschmelzzone (
2 ) und die Verdampferzone (5 ) eine runde Grundform aufweisen. - Verdampfervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Tiegel (
6 ) aus einer hochschmelzenden Verbindung besteht, die den metallischen Boriden, Nitriden und/oder Carbiden sowie den nicht metallischen Boriden, Nitriden und/oder Carbiden und/oder Graphit oder Mischungen aus diesen angehört. - Verdampfervorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass der Tiegel (
6 ) TiB2 und BN aufweist. - Verdampfervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie zum Verdampfen von Metallen verwendet wird.
- Verdampfervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Tiegel (
45 –54 ) nebeneinander angeordnet sind und sich ein Substrat (65 ) entlang der Längsachse dieser Tiegel (45 –54 ) bewegt. - Verdampfervorrichtung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass für jeden Tiegel (
45 –54 ) eine eigene Zuführung für einen Draht (55 –64 ) vorgesehen ist, wobei das Ende dieses Drahts (55 –64 ) in die Einschmelzzone (2 ) eines Tiegels (45 –54 ) geführt ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200520020544 DE202005020544U1 (de) | 2005-08-03 | 2005-08-03 | Verdampfervorrichtung zum Beschichten von Substraten |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200520020544 DE202005020544U1 (de) | 2005-08-03 | 2005-08-03 | Verdampfervorrichtung zum Beschichten von Substraten |
EP05016832A EP1760169B1 (de) | 2005-08-03 | 2005-08-03 | Verdampfervorrichtung zum Beschichten von Substraten |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE202005020544U1 true DE202005020544U1 (de) | 2006-04-20 |
Family
ID=36314239
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE200520020544 Expired - Lifetime DE202005020544U1 (de) | 2005-08-03 | 2005-08-03 | Verdampfervorrichtung zum Beschichten von Substraten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE202005020544U1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008016619B3 (de) * | 2008-04-01 | 2009-11-05 | Kennametal Sintec Keramik Gmbh | Verdampferkörper |
DE102015117182A1 (de) * | 2015-10-08 | 2017-04-13 | Von Ardenne Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Verdampfen von Material |
-
2005
- 2005-08-03 DE DE200520020544 patent/DE202005020544U1/de not_active Expired - Lifetime
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DE102008016619B3 (de) * | 2008-04-01 | 2009-11-05 | Kennametal Sintec Keramik Gmbh | Verdampferkörper |
US10513771B2 (en) | 2008-04-01 | 2019-12-24 | Kennametal Sintec Keramik Gmbh | Vaporizer body |
US11473187B2 (en) | 2008-04-01 | 2022-10-18 | Kennametal Sintec Keramik Gmbh | Vaporizer body |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R207 | Utility model specification |
Effective date: 20060524 |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: APPLIED MATERIALS GMBH & CO. KG, DE Free format text: FORMER OWNER: APPLIED FILMS GMBH & CO. KG, 63755 ALZENAU, DE Effective date: 20061213 |
|
R150 | Term of protection extended to 6 years |
Effective date: 20080818 |
|
R157 | Lapse of ip right after 6 years |
Effective date: 20120301 |