DD139603A5 - Verfahren zum aetzen von gegenstaenden aus einem blech - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 28
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 3
- 239000000344 soap Substances 0.000 claims 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 11
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- -1 dichromate casein compound Chemical class 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000002996 emotional effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 229910052704 radon Inorganic materials 0.000 description 1
- SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N radon atom Chemical compound [Rn] SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
- C23F1/04—Chemical milling
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Anwendungsgebiet dar Erfindung;
Die Erfindung bezieht sich auf ein neues Verfahren zum Präzisionsätzen einer Folge von Gegenständen aus einem sich bewegenden Metallstreifen.
Das Verfahren eignet sich insbesondere zur Herstellung flacher Lpchmasken, die daraufhin geformt und in Farbfernseh-Bildröh-
ren montiert, .werden,. . , , T..
CharaKteristik der bekannten tecnniscnen Losiingen^
ualfiPrasisioasai"zerT wird" ' dazu verv/endet, um Gegenstände mit. komplexen Reihen von Öffnungen darin herzustellen, wenn die Größe und Form der Öffnungen innerhalb sehr kleiner Toleranzen gehalten werden.müssen. Eine.Lochmaske, die einen wesentlichen Teil einer Lochinasken-- Bildröhre darstellt, welche bei Farbfernsehempfängern benützt wird, stellt einen solchen Gegenstand dar. Die Herstellung von flachen Lochinasken durch Fotobelichten und Präzisionsätzen wurde bereits be- · schrieben. Bei einem typischen Verfahren werden lichtempfindliche Schichten auf die beiden Hauptflächen eines kontinuierlichen dünnen Blechs bzw· Metall-Blechs aufgelegt. In der Praxis werden die beiden größeren Oberflächen eines kaltgewalzten Stahlstreifens mit etwa 0,15 nun (6 mils)
a-
Dicke und et via 550 mm (22 inch . ) Breite mit einer durch Dichromat lichtempfindlich gemachten Kasein-Verbindung beschichtet. Die lichtempfindlichen Schichten v/erden mit einer Folge von aktinisehen Lichtbildern belichtet, wie beispielsweise bei Eontaktdruck-Belichtungen, um die belichteten Bereiche desselben weniger wasserlöslich zu machen. Die belichteten Schichten v/erden entwickelt, um die mehr löslichen, unbelichteten Bereiche zu entfernen, wodurch eine Folge von Schablonen bzw. Matrizen auf Jeder Oberfläche des Streifens hergestellt wird, woraufhin ein Brenn-'bzw.Einbrennvorgang erfolgt, um die verbliebenen, weniger löslichen, belichteten Abschnitte widerstandsfähig gegen Ätzmittel zu machen. Daraufhin wird der Streifen mit den gegen Ätzmittel beständigen Schablonen durch eine Ätzstation .bewegt, in der ein Ätzvorgang bezüglich beider Oberflächen mit einer Ätzlösung ausgeführt wird, die auf den Streifen gesprüht wird. Der Streifen bewegt sich außerhalb der Atzstation durch folgende Stationen hindurch, in welchen der Streifen gespült, d.h. ausgewaschen wird, die Schablonen beseitigt werden, der Streifen getrocknet wird und die Transparenz . durch die Masken überwacht wird. Die flachen Masken, die durch vorstehendes Verfahren erzeugt, werden, v/eisen eine Seihe von Öffnungen auf, die üblicherweise runde Löcher oder rechteckige Schlitze sind, jedoch jede gewünschte Form haben können. Runde Öffnungen haben typischerweise einen Durchmesser von 0,3 bis 0,38 mm (12 bis 15 mils), während rechteckige Öffnungen typischerweise eine Breite von 0,13 bis 0,20 mm (5 bis 8 mils) mit einer Höhe von etwa 0,76 bis 1,27 μ (30 bis 50 mils) haben. Die flache Maske vrird in eine' gewünschte Form geformt und 'entfernbar an einer Stirnplattenwand- der.Röhre befestigt. Die geformte und befestigte Maske wird dann als optische Schablone (master)
zum fotografischen Erzeugen bzw. Absetzen eines oder mehrerer Schirinstrukturen der Röhre benutzt. Die Maske wird auch dazu benutzt, um die abtastenden Elektronenstrahlen während des Betriebs der Bildröhre abzuschirmen, d.h. ein Schattenmuster zu erzeugen.
Die Größe und Form der öffnungen ist kritisch im Hinblick auf die zuverlässige und reproduzierbare Ausführung dieser Funktionen- Viele Faktoren beeinträchtigen die Größe der Öffnungen in der Maske. Einige bedeutsame Prozeßvariable, die sich auf die Fotobelichtungs- und Ätzschritte beziehen, die nunmehr sorgfältig kontrolliert werden, sind (1) die Temperatur der Ätzlösung, (2) die Konzentration der Ätzlösung, (3) der Druck, der angewandt wird, um die Ätzlösung aufzusprühen, (4) die Dicke der Schablonen, (5) die Brenn- oder Härtungstemperatur der Schablonen, (6) die Größe der öffnungen in den entwickelten Schablonen, und (7) die Bedingungen für die, Fotobelichtung der lichtempfindlichen Schicht. Obgleich diese vielen Verfahrenskontrollen angewandt werden, besteht immer noch ein Bedürfnis, die Änderung hinsichtlich der Öffnungsgrößen in den geätzten Masken zu reduzieren.
.Es hat sich nunmehr gezeigt, daß (a) dac vorzeitige Fotobelichtungs- und Ätzverfahren Maskenöffnungen her- vorruft, deren Größe und somit die Lichtdurchlässigkeit der Maske sehr von kleinen Änderungen der Dicke des Metallstreifens abhängen, und daß (b) der übliche Dickenbereich des Metalistreifens, der von der Metall-Zufuhr einrichtung empfangen wird, Änderungen in den Öffnungsgrößen hervorrufen kann, die größex1 sind, als es durch den Benutzer der Maske toleriert werden kann.
-Η-
Beispielsweise kann eine Änderung von 0,025 mm O mil) in der Dicke eines 0,150 mm (6 mil) dicken Stahlstreifens Tdzw. Stahlbandes .eine Änderung von 0,3 % in der Lichtdurchlässigkeit der geätzten Maske hervorrufen, d.h. eine Änderung von etwa einem Drittel der zulässigen Ätztoleranz. Ein Stahlband, welches von der Zufuhreinrichtung empfangen wird, kann eine Dickenänderung von - 0,0125 mm ( - 0,5 mil) haben, was Masken mit einer größeren Änderung als der zulässigen Änderung bezüglich der Durchlässigkeit ergeben würde, falls diese Dickenänderung .nicht kompensiert würde.
Wenn derart große Änderungen in der Dicke des Bandes oder Streifens vorliegen, müssen die Masken sorgfältiger überprüft werden und ein erheblicher·'Teil der geätzten Masken muß wegen Überschreitung der Toleranz weggeworfen werden. Masken, die zurückgehalten werden, d.h. keinen Ausschuß bilden, v/erden häufig in eine von mehreren Gruppen entsprechend ihrer Lichtdurchlässigkeit klassifiziert,.so daß größere Bereiche der Öffnungsgrößen tolerierbar sind, indem andere Kompensationen später während der Herstellungsverfahren ausgeführt werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren beinhaltet die Überwachung der Streifen- bzw. Banddicke und eine geeignete Einstellung des Ätzbetrages, der in der Ätzstation erreicht wird, abhängig von der überwachten Dicke. Bei einer Ausführungsform der Erfindung wird die Ätzzeit eingeste3.lt. Bei einer bevorzugten Ausführungsform wird die Dicke des Metallbandes entlang seiner Bewegungsrichtung überwacht und die Geschwindigkeit des durch die Ätzstation hindurchgehenden Metallbandes eingestellt. Dabei wird ein umgekehrtes Verhältnis ausgenutzt, d.h., je dicker das Band ist, um so langsamer wird die Geschwindigkeit des Bandes während seines Durchgangs durch die Atzstation eingestellt. Andere
Parameter, welche die Öffnungsgrößen-beeinträchtigen, können abhängig von der Dickenmessung eingestellt werden, beispielsweise der Druck und/oder die Turbulenz der Ätzlösung., oder die relative chemische Aktivität des Ätzmittels.
Durch Einsatz dieses neuen Verfahrens können Änderungen der Öffnungsgrößen in dem geätzten Gegenstand infolge von Änderungen der Dicke des Metallbandes wesentlich reduziert und sogar vollständig kompensiert werden. Daraus ergibt sich eine Reduzierung der Zahl von Gegenständen, deren Öffnungen und Lichtdurchlässigkeit außerhalb der (vorgegebenen)'Daten liegen, infolgedessen sich eine Erhöhung des Wirkungsgrades des Verfahrens ergibt. Die Dickenmessungen werden vorzugsweise vor dem Ätzschritt ausgeführt, wobei die Steuer- oder Kontrollinformation weitergeführt wird, um den oder die gewünschten Verfahrensparameter an der Ätzstation einzustellen. Da sich die Dicke langsam über die Länge des Stahlbandes ändert, kann die Dickenmessung nach dem Ätzen ausgeführt v/erden und die Kontrollinforination kann zur Ätzstation zurückgeleitet werden. Das erfindungsgemäße Verfahren kann in Verbindung mit einer der Prozeßsteuerungen ausgeführt werden, die bisher verwendet werden. Ausfüiii'ungsbeispiele
Bevorzugte Ausführungsformen· der Erfindung werden zur Erläuterung v/eiterer Merkmale anhand der Zeichnung beschrieben. Es zeieren:
-Dv
Pig. 1 eine schemata.sehe Darstellung einer Vorrichtung zur Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens,
Fig. 2 eine schematische Darstellung einer abgewandelten Vorrichtung zur Ausführung des Verfahrens, und
Fig. 3 eine teilweise scheiaatische Aufsicht auf ein Metallband, das durch die Atzstation der Vorrichtung, nach Fig. 2 hindurch geht, wobei die trans-
versalen Positionen der Detektoren und Sprühköpfe über dem Band dargestellt sind.
In Fig. 1 ist ein Metallstreifen oder Metallband 11 dargestellt , welches einem Ätsvorgang ausgesetzt werden soll und sich durch eine Ätzstation 13 von links nach rechts. bewegt. Das Band 11 bewegt sich mit einer Geschwindigkeit von etwa 1625 bis 2125 mm (65 bis 85 inch ) pro Minute. Das Band 11, das auf seinen beiden Hauptoberflächen ätz- beständige Schablonen trägt, wird zwischen ersten und zweiten Rollenpaaren 15a, 15b und 17a, 17b gelagert. Das Band bewegt sich durch die Drehung der oberen Rolle 17a, die mechanisch von einem Motor 19 über eine variable Geschwindigkeitsreduziereinheit (Untersetzungsgetriebe) 21 angetrieben wird. Die Ätzstation enthält eine geschlossene Kammer 23, deren Boden unterhalb des Bandes 11 die Form, eines Sammelbeckens 25 hat. Das flüssige Ätzmittel im Sammelbecken 25 wird durch eine Pumpe 27 über eine Leitung 29 durch obere und untere Ventile 31a und 31b über obere und untere Köpfe 33a und 33b geleitet und über darin befindliche Düsen 35 auf das sich bewegende Band gesprüht. Das Ätzmittel wird mit einem Druck im Bereich
von 0,7 bis 2,1 kg/cm (10 bis 30 pound,/sq. inch) herausgesprüht. Las Ätzmittel fließt dann in das Sammelbecken ab. Die beschriebene Vorrichtung zum Ätzen der beiden Seiten eines horizontal 'ausgerichteten Bandes wird gegenwärtig benützt. .
Die in Fig. 1 gezeigte Vorrichtung weist ferner eine Röntgenstrahl-Quelle 37 auf, die ein Röntgenstrahlbündel von unten durch das sich bewegende Band vor der Ätsstation 13 richtet. Ein Röntgenstrahl-Detektor 39 ist auf der gegenüberliegenden Seite des Bandes 11 positioniert, um die Röntgenstrahlen, die durch das Band 11 hindurchgegangen sind, zu empfangen und die empfangenen Röntgenstrahlen in eine Kette elektrischer Signale umzuwandeln» Eine bevorzugte Röntgenstrahlquelle
lind ein Detektor ist ein Röntgenstrahl-Dickenmeßgerät (Sheffield Measuray X-ray Thickness Gage IC-60, der Firma Bendix Aaid M-Division, Dayton, Ohio, USA). Die Bedienungsanleitung für dieses Gerät beschreibt die Quelle als einen mit Blei ausgekleideten Stahltank, der mit Isolieröl gefüllt ist und eine Coolidge-Röntgenstrahlröhre, einen Anoden-Transformator und einen Heiztransformator'aufweist. Außerdem sind Kühlschlangen zur Entfernung der Hitze vom Tank bzw. Behälter vorgesehen. Bei einer bevorzugten Ausführungsform wird die Röhre mit''etwa 25 KV betrieben, so daß Röntgenstrahlen mit einer Verteilung erzeugt werden, die bei etwa 0,0005yKm Wellenlänge einen Spitzenwert erreicht. Höhere "Spannungen liefern Verteilungen der Röntgenstrahlen, die einen Spitzenwert bei kleineren Wellenlängen erreichen und geringere Durchdringungsenergie haben. Die Bedienungsanleitung für diese Einheit gibt an, daß der Detektor ein lichtundurchlässiges Gehäuse mit einem für den Röntgenstrahl durchlässigen Fenster ist, durch welches der Röntgenstrahl auf eine Schicht aus Natriumjodit- oder Cadmiumsulfit-Kristallen hindurchgeht, die Licht emittieren, wenn auf sie Röntgenstrahlen auffallen. Die Intensität des emittierten Lichts ist proportional zur Intensität der auf die Schicht auftreffenden Röntgenstrahlen. Da die Röntgenstrahlintensität eine Funktion der Dicke des Bandes 11 ist, ist die Intensität des emittierten Lichts ebenfalls eine Funktion der Dicke des Bandes 11. Das emittierte Licht wird von einer Fotoelektronenvervielfacherröhre erfaßt und 'verstärkt, die ein primäres elektrisches Signal liefert, das repräsentativ für das geschwächte und erfaßte Röntgenstralilbündel |,st.
Das elektrische Signal wird mittels einer Leitung 41 zu einer Signalprozessorschaltung geführt,· die durch einen Block 4J in Fig. 1 dargestellt ist, welcher die
primären elektrischen Signale in eine Kette von sekundären elektrischen Signalen umwandelt, die ihrerseits über eine Leitung 45 und einen Schalter 4-6 einer Steuerschaltung zugeführt werden, die durch einen Block 47 dargestellt ist. Die Steuerschaltung 4-7 enthält einen Speicherabschnitt und einen Signalverarbeitungsabschnitt, welche so angeordnet sind, daß sie eine Folge von SekundärSignalen empfangen, um ein dem neuesten Stand entsprechendes laufendes Durchschnittssekundärsignal für ein bestimmtes, möglichst neues Zeitintervall zu liefern, um das jüngste bzw.' neueste laufende Durchschnittssekundärsignal mit dem laufenden Durchschnitts-Sekundärsignal zu vergleichen, das zur Abgabe des letzten Befehlssignals benützt wird, und um ein Befehlssignal mit gegebener Größe zu erzeugen, wenn die Differenz zwischen den beiden laufenden Durchschnittssignalen größer als eine vorbestimmte Größe ist. Das Befehlssignal wird über eine Leitung 49 geführt, um die Ausgangsgeschwindigkeit in der Einrichtung 21 auf einen gewünschten Vert zu ändern. Die Ausgangsgeschwindigkeit der Einheit 21 wird von einem Sensor 51 und einer durch einen Block 53 repräsentierten Schaltung erfaßt und diese Information wird über eine Leitung ^ einer. Steuerschal-, tung 47 zugeführt, um zu bestätigen, daß das Befehlssignal ausgeführt wurde. Die Steuerschaltung 47 erzeugt ihr Befehlssignal aus den Durchschnittswerten, so daß die Auswirkungen von Geräusch- und Störsignalen auf ein Minimum gebracht werden. Die Steuerschaltung erzeugt, ebenfalls Steuersignale,. die im wesentlichen gleichmäßige Erhöhungen der Geschwindigkeitsänderung ergeben, sich jedoch hinsichtlich der Zeitintervalle zwischen den Geschwindigkeitsünderungen unterscheiden,. Die in Pig. I dargestellte Vorrichtung kann eine externe Quelle für Sekundärsignale enthalten, welche für die Banddicke
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.repräsentativ sind, wie sie beispielsweise durch einen Block 57 dargestellt ist, wobei diese äußere Quelle 57 in das System über eine Leitung 59 und den Schalter 4-6 geschaltet ist. Es können außerdem weitere Steuerungen in das System integriert sein. Gemäß Fig. 1 kann beispielsweise die Lichtdurchlässigkeit des geätzten Gegenstands im Band dadurch überwacht v/erden, daß ein Lichtbündel von einer Lichtquelle 61 durch das geätzte Band 11 gerichtet wird und daß der durchgelassene Strahl mittels eines Lichtdetektors 63 auf der gegenüberliegenden Seite des Bandes 11 erfaßt wird. Die elektrischen Signale des Detektors 63 werden über eine Leitung 65 direkt oder indirekt zu der Signal-Prozessorschaltung Λ3 geführt, in welcher das Befehlssignal abhängig von den durch die Änderung der Lichtdurchlässigkeit erzeugten Signale modifiziert v/erden kann.
Die verschiedenen Schaltungen und Bauteile, die bei dem in Fig. 1 gezeigten System verwendet werden, sind als solche bekannt, ebenso wie deren Arbeitsweise. Weitere Schaltungen und Bauteile sowie Anordnungen, die jeweils bekannt sind, können Teile des in Fig. 1 gezeigten Systems ersetzen. Anstelle einer Steuerung mit Rückkopplung,d.h.einer Regelung, kann die Röntgenstrahlenquelle und der Detektor entle des Bandes 11 an der Austrittsseite der Atzstation 13 vorgesehen werden. In diesem Fall ist es wünschenswert, daß das Band vor der Dickenüberwachung ausgewaschen und getrocknet wird. . '
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren können auch weiter verfeinerte Systeme geschaffen werden.. Ein derartiges System wird durch die in Fig, 2 und 3 gezeigte Vorrichtung verdeutlicht. In diesem System wird die Dicke an drei Stellen entlang der Breite des sich bewegenden Bandes 'überwacht.' Die Information jedes Detektors wird
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dann "benutzt, tun den Druck und die Sprühgeschwindigkeit des Ätzmittels in Jedem der drei Köpfe zu steuern, die das Ätzmittel über vorbestimmte, sich überlappende Flächen des Bandes sprühen,·' an welchen die entsprechenden Dickenwerte überwacht werden.
Fig. 2 und 3 zeigen eine Vorrichtung, bei der sich ein Band 11 durch eine Atζstation 113 von links nach rechts bewegt. Das Band trägt ätzbeständige Schablonen auf beiden Hauptflächen, ist 'zwischen einem ersten Rollenpaar 115A, 115B und einem zweiten, nicht dargestellten. Rollenpaar entsprechend Fig. 1 aufgenommen. Die Ätzstation 113 weist eine geschlossene Kammer 123 auf, deren Boden unterhalb des Bandes 111 in ein Auffangbecken 125 abfällt. Das flüssige Ätzmittel im Auffangbecken 125 wird durch eine Pumpe 127 über eine Leitung 129, durch drei obere, auf variablen Druck einstellbare "Ventile 1315, und drei untere, auf variablen Druck einstellbare Ventile 131B.zu drei oberen Köpfen 133T und drei unteren Köpfen 133B geführt. Jeder Kopf ist in Längsrichtung ausgerichtet, d.h. in Richtung der Bewegung des Bandes 111. Die oberen Köpfe sind unter Einhaltung im wesentlichen gleicher Abstände quer über dem Band und die unteren Köpfe unter Einhaltung im wesentlichen gleicher Abstände quer unter dem Band 111 vorgesehen. Jeder Kopf weist eine Vielzahl von Sprühdüsen auf, durch die das Ätzmittel auf das Band 111 gesprüht werden kann. Jeder Kopf ist außerdem über einen Schwingarm 132 an einen Schwingmechanismus 134- gekuppelt, der fähig ist, den Kopf um dessen eigene Längsachse zu schwingen, um dadurch das aus dem Kopf herausgesprühte Ätzmittel quer über das Band 111 streichen zu lassen. Das herausgesprühte Ätzmittel fließt dann zum Sammelbecken 125 ab. .
Die in Fig, 2 und 3 gezeigte Vorrichtung enthält drei Röntgenstrahl-Quellen 137» die Röntgenstrahlbündel durch das sich "bewegende Band 111 richten, sowie drei Rontgenstrahldetektoren 139, die jeweils einer der .Röntgenstrahl-Quellen 137 gegenüberliegend angeordnet sind, wie in Pig. 1 gezeigt ist. Die drei Kombinationen der Röntgehstrahl-Quelle und des -Detektors (jedes dieser Elemente kann das gleiche sein, wie die Kombination, die. in bezug auf Pig. 1 beschrieben ist) sind in einer transversalen Linie vor der Ätzstation 113 angeordnet und im wesentlichen in gleichem Abstand über dem Band vorgesehen. Jede Quellen-Detektor-Kombination erzeugt eine Kette von PrimärSignalen, die für die Schwächung des Röntgenstrahlbündeis repräsentativ sind, das durch das Band in einer der drei Flächen des Bandes 111 hindurchgelassen wurde. Die drei Primär sign ale werden über Leitungen 14-1 einer Signal-Prozessorschaltung 143 zugeführt, welche die Primärsignalkette in drei Ketten von SekundärSignalen umwandelt, welche über einen Schalter 146 zu einerSteuerschaltung 147 geführt werden. Die Steuerschaltung verarbeitet jedes der drei Ketten der Signale wie die Schaltung 47 nach Pig. 1, erzeugt drei separate Paare von Befehlssignalen, die den oberen und unteren veränderbaren Steuerventilen 13IT und 13IB zugeführt v/erden, welche ihrerseits den Druck und/oder die Geschwindigkeit des Ätzmittels regulieren, das durch letztere Elemente zu den rechten, mittigen und linken Paaren von Sprühköpfen 133T und 133B geführt wird. Die Vorrichtung kann außerdem eine externe Quelle 157 für synthetische Sekundärsignale aufweisen, die für die Banddicke repräsentativ sind. Der Druck und/oder die Geschwindigkeit des Ätzmittels, welches durch jeden'Kopf geführt wird, kann durch einen Sensor I51 erfaßt werden, und die Information wird der Regel~bzw.Steuerschaltung 147 2uapiührt, um zu bestätigen, daß das Befehls signa.l ausgeführt wurde.
Claims (2)
- Br findungsansp*nc h:• 1. Verfahren zur Erzeugung einer. Folge von Gegenständen aus einem Metallband, dessen Dicke sich zufällig entlang seiner Länge verändert, bei dem sich das Band entlang eines vorbestimmten Weges bewegt, das Band in definierten Bereichen auf einen gewünschten Grad geätzt wird, und bei dem der Ätzschritt wenigstens einen variablen !Prozeßparameter hat, der den Ätzgrad beeinflußt,dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke des Bandes entlang seiner Bewegungsrichtung überwacht wird und daß der variable Prozeßparameter abhängig von der überwachten Dicke eingestellt wird.2«, Verfahren nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vorbestimmten Bereiche von ätzbeständigen Schablonen festgelegt sind, welche auf die beiden HauptOberflächen des Bandes aufgebracht sind.5· Yerfaiiren nach. Punkt 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Prozeßparameter die Geschwindigkeit des Bandes entlang dessen Weges gewählt ist.4. Verfahren nach Punkt' ^ oder ^, dadurch gekennzeichnet, daß als Prozeßparameter die iit ζ geschwindigkeit bezüglich des Bandes gewählt ist.5· Verfahren nach einem der Punkte ^ "1^3 ^' dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke des Bandes, durch Hindurchführung eines Bündels von Röntgenstrahlen mit im wesentlichen konstanter Intensität durch das Band überwacht wird, so daß die Intensität als Funktion der Banddicke geschwächt wird,-und daß die Intensität des geschwächten Köntgenstrahlenbündels erfaßt wird.
- 6. Verfahren nach einem der Punkte 1 "bis 5» dadurch gekennzeichnet, daß die Banddickenüberwachung'an aufeinanderfolgenden Punkten entlang des Bandes ausgeführt wird und daß eine Folge von Signalen erzeugt wird, die eine Funktion der Banddickenwerte sind.7* Verfahren nach Punkt 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Folge von Signalen verarbeitet wird, um ein neuestes, laufendes Durchschnittssignal für ein bestimmtes, jüngstes Zeitintervall zu liefern, . daß das neueste, laufende Durchschnittssignal und das laufende Durchschnittssignal, das für die lotste Korrektur benützt wurde, voneinander subtrahiert werden, um ein Differenzsignal zu liefern?, und daß bei einem Differenzsignal, welches einen vorbestimmten Schwellenwert überschreitet, das Differenz signal zur Einstellung der Geschwindigkeit des Bandes -us ein vorbestimmtes i.rikre-ment benutzt wird.Hierzu ^ Seife-Zeichnung-,
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/840,037 US4126510A (en) | 1977-10-06 | 1977-10-06 | Etching a succession of articles from a strip of sheet metal |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DD139603A5 true DD139603A5 (de) | 1980-01-09 |
Family
ID=25281300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DD78208290A DD139603A5 (de) | 1977-10-06 | 1978-10-05 | Verfahren zum aetzen von gegenstaenden aus einem blech |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4126510A (de) |
JP (1) | JPS5814878B2 (de) |
AU (1) | AU516585B2 (de) |
CA (1) | CA1092497A (de) |
CS (1) | CS227003B2 (de) |
DD (1) | DD139603A5 (de) |
DE (1) | DE2843777A1 (de) |
FI (1) | FI782970A (de) |
FR (1) | FR2405309A1 (de) |
GB (1) | GB2006118B (de) |
IT (1) | IT1098979B (de) |
PL (1) | PL116906B1 (de) |
RO (1) | RO75671A (de) |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1978-09-29 JP JP53121143A patent/JPS5814878B2/ja not_active Expired
- 1978-09-29 FI FI782970A patent/FI782970A/fi not_active Application Discontinuation
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- 1978-10-03 IT IT28373/78A patent/IT1098979B/it active
- 1978-10-04 AU AU40408/78A patent/AU516585B2/en not_active Expired
- 1978-10-04 FR FR7828342A patent/FR2405309A1/fr active Granted
- 1978-10-05 DD DD78208290A patent/DD139603A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-10-06 CS CS786502A patent/CS227003B2/cs unknown
- 1978-10-06 PL PL1978210111A patent/PL116906B1/pl unknown
- 1978-10-06 DE DE19782843777 patent/DE2843777A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FI782970A (fi) | 1979-04-07 |
US4126510A (en) | 1978-11-21 |
JPS5460853A (en) | 1979-05-16 |
JPS5814878B2 (ja) | 1983-03-22 |
IT7828373A0 (it) | 1978-10-03 |
AU4040878A (en) | 1980-04-17 |
FR2405309B1 (de) | 1984-08-31 |
PL210111A1 (pl) | 1979-08-27 |
PL116906B1 (en) | 1981-07-31 |
GB2006118A (en) | 1979-05-02 |
DE2843777C2 (de) | 1988-09-08 |
DE2843777A1 (de) | 1979-04-12 |
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RO75671A (ro) | 1981-02-28 |
IT1098979B (it) | 1985-09-18 |
CS227003B2 (en) | 1984-04-16 |
CA1092497A (en) | 1980-12-30 |
FR2405309A1 (fr) | 1979-05-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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