CZ303228B6 - Zpusob analýzy materiálu fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového zárení a zpetne odražených elektronu a zarízení k jeho provádení - Google Patents
Zpusob analýzy materiálu fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového zárení a zpetne odražených elektronu a zarízení k jeho provádení Download PDFInfo
- Publication number
- CZ303228B6 CZ303228B6 CZ20110154A CZ2011154A CZ303228B6 CZ 303228 B6 CZ303228 B6 CZ 303228B6 CZ 20110154 A CZ20110154 A CZ 20110154A CZ 2011154 A CZ2011154 A CZ 2011154A CZ 303228 B6 CZ303228 B6 CZ 303228B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- input
- memory
- output
- map
- ray
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title abstract description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 99
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims abstract description 25
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 96
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 29
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims description 29
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 19
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims description 16
- 230000009466 transformation Effects 0.000 claims description 15
- 238000011835 investigation Methods 0.000 claims description 9
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000001955 cumulated effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 54
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 17
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 238000003709 image segmentation Methods 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002083 X-ray spectrum Methods 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 3
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 3
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 3
- 238000004774 atomic orbital Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 210000000349 chromosome Anatomy 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000003708 edge detection Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000002059 diagnostic imaging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000000799 fluorescence microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004452 microanalysis Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/2206—Combination of two or more measurements, at least one measurement being that of secondary emission, e.g. combination of secondary electron [SE] measurement and back-scattered electron [BSE] measurement
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical, image processing or photographic arrangements associated with the tube
- H01J37/222—Image processing arrangements associated with the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/40—Imaging
- G01N2223/402—Imaging mapping distribution of elements
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/60—Specific applications or type of materials
- G01N2223/616—Specific applications or type of materials earth materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/2441—Semiconductor detectors, e.g. diodes
- H01J2237/24415—X-ray
- H01J2237/2442—Energy-dispersive (Si-Li type) spectrometer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/24475—Scattered electron detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24571—Measurements of non-electric or non-magnetic variables
- H01J2237/24585—Other variables, e.g. energy, mass, velocity, time, temperature
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Je rešen zpusob analýzy materiálu fokusovaným elektronovým svazkem a zarízení k jeho provádení, kdy se vytvárí elektronová mapa B popisující intenzitu emise zpetne odražených elektronu v ruzných bodech na vzorku a spektrální mapa S popisující intenzitu emise rentgenového zárení v bodech na vzorku v závislosti na energii zárení. Pro vybrané chemické prvky se vytvorí rentgenové mapy M.sub.i.n. vyjadrující intenzitu rentgenového zárení charakteristického pro tyto prvky. Rentgenové mapy M.sub.i.n. a elektronová mapa B se prevedou na diferencní rentgenové mapy D.sub.i.n., které se následne sloucí do výsledné diferencní mapy D. Výsledná diferencní mapa D je poté použita pro vyhledání cástic. Následne se pro každou cástici vypocte kumulované spektrum X.sub.j.n. rentgenového zárení, pricemž body na vzorku na okraji cástice mají nižší váhu než body uvnitr cástice. Z kumulovaného spektra X.sub.j.n. se následne pomocí kvantitativní spektroskopické analýzy urcí procentuální zastoupení chemických prvku v této cástici.
Description
Předkládaný vynález se týká způsobu a zařízení pro analýzu materiálů fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového záření a zpětně odražených elektronů.
Navrhované řešení umožňuje provádět rozpoznávání a analýzu nehomogenních materiálů. Částicemi se rozumí spojité prostorově ohraničené oblasti v blízkosti povrchu vzorku, která se z hlediska detekčních schopností zařízení jeví jako homogenní. Morfologickou analýzou částic se rozumí určení jejich morfologických vlastností, například tvaru nebo plochy. Kvalitativní respektive kvantitativní spektroskopická analýza jsou metody analytické chemie, při nichž se určuje přítomnost chemických prvků obsažených ve zkoumané látce, respektive jejich procentuální zastoupení, na základě zkoumání charakteristického rentgenového záření. Předkládaný způsob je zvlášť vhodný při analýze vzájemných vztahů mezi jednotlivými druhy materiálů obsažených ve zkoumaném vzorku.
Dosavadní stav techniky
Spektroskopická analýza pomocí charakteristického rentgenového záření vznikajícího pri interakci fokusovaného svazku urychlených elektronů, které dopadají na povrch zkoumaného vzorku, s hmotou nacházející se v blízkosti povrchu zkoumaného vzorkuje důležitým nástrojem pro studium chemických a fyzikálních vlastností materiálů. Tato analýza se provádí v rastrovacím elektronovém mikroskopu, viz Obr. 1. Elektronový mikroskop 13 vytváří v trysce i svazek urychlených elektronů 2, který se vychyluje pomocí dvojice tak zvaných vychylovacích cívek 3 tak, že dopadá postupně na vzorek 4 v různých bodech. Proudy vychylovacími cívkami 3 jsou řízeny vychylovacími obvody 5, jež generují vychylovací signál podle předem známého předpisu, nejčastěji v pravidelné pravoúhlé mřížce. Při dopadu urychlených elektronů na povrch vzorku 4 dochází k interakcím mezi dopadajícími elektrony a materiálem, který se nachází v blízkosti povrchu vzorku. Pri interakcích mezi urychlenými elektrony a materiálem vzniká několik druhů produktů, přičemž pro studium chemických vlastností materiálů jsou důležité zejména dva z nich, a to zpětně odražené elektrony 6, označují se zkratkou BSE (back-scattered electrons), a rentgenové záření 7.
Zpětně odražené elektrony jsou elektrony dopadajícího svazku, jež po pružných srážkách s atomy materiálu opustí vzorek s poměrně malou ztrátou energie oproti té, s jakou na vzorek dopadly. Pravděpodobnost, že dojde k pružné srážce, závisí silně na atomovém čísle Z materiálu. Odražené elektrony mohou dále postupovat různé typy interakcí s dalšími atomy v okolí, až nakonec některé z nich vzorek opustí. K interakcím dochází tedy v určitém objemu pod povrchem vzorku, v tak zvaném interakčním objemu. Poměr mezi počtem elektronů dopadajících na povrch vzorku a počtem elektronů, které vzorek opět opustí s přibližně stejnou energií, se nazývá emisi vita zpětně odražených elektronů, v literatuře se označuje jako η. Tato veličina je také závislá na atomovém čísle Z. U materiálů, které jsou složeny z více druhů, atomů platí následující rovnice, kterou publikoval Heinrich ve sborníku Proceedings of the 4th International Conference on X-ray Optics and Microanalysis v roce 1966.
kde η je emisivita zpětně odražených elektronů ve složeném materiálu, Cj je hmotnostní procentuální zastoupení prvku i ve složeném materiálu a τμ je emisivita zpětně odražených elektronů v materiálu skládajícím se pouze z prvku i. Intensita zpětně odražených elektronů se měří pomocí
- 1 CZ 303228 B6 detektoru 8 zpětně odražených elektronů, analogový signál z detektoru 8 zpětně odražených elektronů se převádí do číslicové podoby pomocí analogově-číslicového převodníku 9 a na základě informací na jeho výstupu se v paměti počítače vytváří obraz reprezentující rozložení intenzity zpětně odražených elektronů v bodech na vzorku.
Energiově-disperzní rentgenová spektroskopie, zkráceně EDS, je jednou z metod pro studium chemických vlastností materiálů s využitím charakteristického rentgenového záření, které je dalším produktem interakce mezi urychlenými elektrony svazku a materiálem vzorku. Elektrony se v atomu nachází v tak zvaném elektronovém obalu. Stav elektronu v atomu nemůže být libovolný, elektron se nachází v jedním z diskrétních stavů. Stav elektronu se popisuje pomocí čtyř tak zvaných kvantových čísel. Kinetická energie elektronu je dána tím, na jakém atomovém orbitalu jakého atomu se elektron nachází. V základním stavu jsou podle tzv. výstavbového principu elektrony v obalu uspořádány tak, že zaujímají místa na orbitalech s nejnižší energií, přičemž na jednom orbitalu se mohou současně nacházet pouze dva elektrony. Elektron svazku dopadajícího na vzorek má dostatečnou kinetickou energii na to, aby mohl, s určitou pravděpodobností, předat část své kinetické energie jednomu z elektronů nacházejících se na jednom z orbitalu. Vybuzený elektron orbital opustí, přičemž po sobě zanechá prázdné místo. Ve velmi krátkém čase, řádově jednotky pikosekund, se atom vrátí do základního stavu tím, že jeden z elektronů z orbitalu s vyšší energií zaplní uvolněné místo, přičemž uvolní část své vazebné energie ve formě fotonu rentgenového elektromagnetického záření. Protože jsou orbitaly diskrétní, energie vygenerovaného fotonu nemůže být libovolná, ale odpovídá rozdílu mezi energií orbitalu, kde se elektron původně nacházel a energií orbitalu, ve kterém při interakci vzniklo volné místo. Energie atomového orbitalu je jedinečná pro každý chemický prvek, a proto každý prvek emituje při expozici svazkem urychlených elektronů fotony s energiemi, které jsou pro daný prvek charakteristické. Toto záření se proto nazývá charakteristické rentgenové záření. Fotony rentgenového záření podstupují další interakce s materiálem, některé z nich materiál opustí a mohou být zachyceny detektorem rentgenového záření, V EDS se používá energiově-disperzní detektor 10 rentgenového záření, ve kterém se pri dopadu rentgenového fotonu na jeho aktivní povrch z mění napětí na jeho výstupu, přičemž velikost změny napětí je úměrná energii fotonu. Pulzní procesor H je elektronické zařízení, které převádí analogový signál z výstupu energiově-disperzního detektoru W rentgenového záření do číslicové podoby. V paměti počítače se na základě těchto zpráv vytváří histogram, označuje se jako spektrum, které vyjadřuje počet detekovaných fotonů, jejichž energie spadá do předem definovaných úzkých intervalů. Tak jak bylo uvedeno drive, v materiálu vznikají fotony rentgenového záření charakteristické pro prvek nebo prvky v něm obsažené, četnost detekce fotonů s charakteristickými energiemi je tedy vyšší než ostatních fotonů; energiovědisperzní spektrum obsahuje proto emisí čáry odpovídající chemickým prvkům obsaženým ve vzorku. Není-li materiál homogenní, je nutné vzít v úvahu, že ke generování záření dochází opět v určitém interakčním objemu pod povrchem vzorku, jenž je obecně větší než interakční objem, ve kterém vznikají zpětně odražené elektrony. Tento efekt je významný zejména tehdy, když elektronový svazek dopadá na rozhraní více oblastí s odlišným chemickým složením. Pozorované rentgenové záření odpovídá v takovém případě kombinaci spekter z těchto oblastí.
Kvantitativní spektroskopická analýza je metoda analytické chemie, při níž se určuje procentuální zastoupení chemických prvků obsažených ve zkoumané látce na základě zkoumání charakteristického rentgenového záření. Při kvantitativní spektroskopické analýze založené na energiovědisperzním spektru se pro každý chemický prvek ve zkoumané látce určí poměr změřené intenzity záření o energii charakteristické pro tento prvek a intenzity záření o stejné energii pro látku, jež se skládá pouze z atomů tohoto prvku. Na vypočtené hodnoty se musí aplikovat korekce, které popisují míru absorpce a opětovné emise (fluorescence) rentgenového záření, tyto korekce se v literatuře souhrnně označují jako 2AF korekce. Pro zjednodušení výpočtů se pri analýze obvykle předpokládá, že zkoumaný materiál je homogenní.
Pri analýze nehomogenních materiálů se používá technika v literatuře označovaná jako rentgenové mapování. Mapování se obvykle provádí tak, že elektronový svazek je postupně vychylován do různých bodů na vzorku. Řídicí jednotka 12 zajišťuje synchronizaci obvodů pro vychylování
-2CZ 303228 B6 svazku a pulzního procesoru JJ.. Díky této synchronizaci lze určit místo na vzorku, z něhož detekované rentgenové záření pochází. Tímto způsobem lze získat rentgenová spektroskopická data s prostorovým rozlišením. Nejjednodušší technikou rentgenového mapování je metoda označovaná jako bodové mapování (angl. dot mapping). Při této metodě se předem stanoví interval energií rentgenového záření. Výsledek mapování se zobrazuje ve formě dvojrozměrného obrazu, ve kterém černé respektive bílé vody odpovídají místům na vzorku, kde počet detekovaných událostí za jednotku času spadající do stanoveného intervalu energií je nižší respektive vyšší než předem stanovený práh. Přesnější informace o chemickém složení heterogenních vzorků poskytuje technika označovaná jako kompoziční mapování (angl. compositional mapping). Při této metodě se využívá kvantitativní spektroskopické analýzy aplikované na spektroskopická data získaná v každém bodě na vzorku. Nezbytnou podmínkou pro použití kompozičního mapování je dostatek spektroskopických dat pro kvantitativní analýzu. Tuto podmínku není jednoduché splnit, protože signál z detektoru EDS je relativně slabý vzhledem k rozlišení map používaných při částicové analýze. Jedno z možných řešení je kombinace spektroskopických dat získaných z více bodů na vzorku.
Klíčovou součástí automatického částicového spektroskopického analyzátoru založeného na kompozičním mapování je segmentace obrazu. V počítačové grafice se segmentací obrazu rozumí soubor technik pro rozdělení obrazu do oddělených oblastí. Těchto technik byla v minulosti publikována celá rada. Některé z publikovaných metod jsou založeny na transformaci, která je v literatuře označována anglickým termínem watershed. Její původní ideu představili Beucher a Lantuéjoul v článku „Use of watersheds in contour detection“ publikovaném v září 1979 ve sborníku z konference International Workshop on Image Processing v Rennes. Tato transformace je založena na myšlence, že jednokanálový (šedotónový) obraz lze chápat jako topografický reliéf, kde hodnota bodu v obraze odpovídá výšce bodu nad základní rovinou. Reliéf je postupně zaplavován vodou, v nízko položených místech, odpovídajících lokálním minimům ve vstupním obraze, se vytváří bazény. Tam, kde by se bazény spojily, se mezi nimi buduje hráz. Výsledkem postupuje obraz rozdělený do souvislých oblastí, které se vytváří tam, kde se vstupním obraze jsou nižší hodnoty než v okolí. Z předchozího textu vyplývá, že vstupem transformace watershed je jednokanálový diferenční obraz, v němž hodnoty pixelů odpovídají velikosti gradientu v originálním obraze, neboť v takových místech vytváří transformace watershed hranice mezi oblastmi. Rozšíření této metody pro aplikaci transformace na vícekanálový obraz lze najít například v příspěvku „A Muítichannel Watershed-Based Segmentation Method for Multispectral Chromosome Classification“ publikovaném Karve lisem v IEEE Transactions on Medical Imaging, svazek 27, číslo 5, kde se tato technika používá pri klasifikaci chromozómů v obraze získaném vícekanálovou fluorescenční zobrazovací metodou.
Analýze nehomogenních materiálů v rastrovacím elektronovém mikroskopu se věnuje například patent US 7,490,009. Popsané zařízení sbírá spektroskopická data pomocí energiově-disperzního spektrometru. Porovnáním získaných dat s předdefinovanou sadou spektrálních kategorií provádí zařízení nejprve přiřazení jednotlivých měřicích bodů do předdefinovaných spektrálních kategorií. Na základě těchto kategorií se následně vytváří souvislé skupiny bodů a z nich částice. Nevýhodou uvedeného řešení je nutnost definovat velké množství spektrálních kategorií, neboť díky velikosti interakčního objemu pro rentgenové záření, které je srovnatelné se vzdáleností sousedních měřicích bodů, dochází v blízkosti rozhraní dvou částic k emisi rentgenového záření v obou částicích. Spektroskopická data jsou v takovém případě zkreslena, neboť detekované charakteristické rentgenové záření pochází v tomto bodě ze dvou chemicky různých materiálů, správná klasifikace jev takovém případě obtížná. Navíc, pro správnou klasifikaci je nutné nasbírat v každém měřicím bodě dostatečné množství dat, což je časově náročné. Další nevýhodou zařízení je to, že detekce částic je založena na klasifikaci prováděné na základě spektrálních dat a nevyužívá informace z detektoru zpětně odražených elektronů.
Při segmentaci obrazu je vhodné využít informace získané z obou typů detektorů. Interakční objem zpětně odražených elektronů je obecně menší než interakční objem rentgenového záření, hranice mezi částicemi jsou proto v elektronovém obraze definovány lépe než v obraze vytvoře
- J CZ 303228 B6 ném pouze na základě rentgenových dat. Naopak, je-li segmentace obrazu založena pouze na obraze z detektoru BSE, takové zařízení není schopné určit hranici mezi dvěma materiály, které mají velmi blízkou hodnotu koeficientu η, tyto materiály totiž nelze odlišit pouze na základě porovnání úrovně intensity zpětně odražených elektronů.
Před segmentací obrazu pomocí transformace watershed se používá druhá transformace, která se nazývá detekce hran. Jejím účelem je transformovat vstupní obraz tak, aby v místě, kde je přechod mezi dvěma oblasti s různou intenzitou, byly hodnoty ve výstupním obraze vyšší než v okolních bodech. Výsledkem transformace je opět jednokanálový (šedotónový) obraz stejných rozměrů jako vstupní obraz, Lze dokázat, že detekci hran v obraze lze realizovat pomocí dvou konvolucí původního obrazu i s maticí Fx respektive Fy.
A 1 - 2 - 1 \ A l 0 “ 1 \
F = ( 0 0 0 ) F = 1+2 0 - 2 )
V 1 .+ 2 + i / \+ l 0 - 1 /
Výsledkem konvolucí je vektorové pole G, které se skládá ze dvou složek Gx a Gy. Výstupem je obraz H, který v každém bodě H(x, y) obsahuje velikost vektoru G(x, y). Tato transformace se v literatuře označuje jako Sobelům operátor.
G = (G„Gy) = (/*F„/*Fy) ff=)Gi = )G2,+G2
Podstata vynálezu
Výše uvedené nevýhody odstraňuje způsob analýzy materiálů fokusovaným elektronovým svazkem v rastrovacím elektronovém mikroskopu a zařízení kjeho provádění. Způsob vychází z toho, že se nejprve odborným odhadem stanoví přiměřeně velká množina P chemických prvků, dále jen množina P, které se ve zkoumaném vzorku mohou vyskytovat. Pro každý prvek pi z množiny P se určí interval Ij energií rentgenových fotonů odpovídající jedné z emisních čar tohoto prvku. Poté se fokusovaný elektronový svazek vychyluje postupně do bodů na zkoumaném vzorku a v těchto bodech se zjišťuje intenzita zpětně odražených elektronů za účelem vytvoření elektronové mapy B a zjišťuje se histogram energií rentgenového záření emitovaného v tomto bodě za účelem vytvoření spektrální mapy S. Podstatou nového způsobuje, že se pro každý prvek pj z množiny P vytvoří rentgenová mapa Mj, kde hodnoty Mj(x, y) uložené v mapě M, jsou vztaženy k bodům na vzorku o souřadicích (x, y) a odpovídají intenzitě rentgenového záření o energii v intervalu E emitovaného v těchto bodech. Poté se rentgenové mapy Mj převedou na diferenční rentgenové mapy Dj, kde hodnoty Dj(x, y) uložené v mapě D, jsou vztaženy k bodům na vzorku o souřadnicích (x, y) a odpovídají velikosti gradientu intenzity rentgenového záření o energii v intervalu I; v těchto bodech. Současně se elektronová mapa B převede na diferenční elektronovou mapu DB, kde hodnoty Db(x, y) uložené v mapě Db jsou vztaženy k bodům na vzorku o souřadnicích (x, y) a odpovídají velikosti gradientu intenzity zpětně odražených elektronů v těchto bodech. V dalším kroku se diferenční rentgenové mapy Dj a diferenční elektronová mapa DB sloučí do výsledné diferenční mapy D. Následně se pomocí transformace watershed aplikované na diferenční mapu D provede segmentace obrazu za účelem vyhledání částic. Výsledkem této operace je množina Q částic, dále jen množina Q, kde každé částici je přiřazeno pořadové číslo j, a mapa R rozložení částic, kde hodnoty R(x, y) uložené v mapě R jsou vztaženy k bodům na vzorku o souřadnicích (x, y) a odpovídají pořadovému číslu částice. Odborným odhadem se stanoví hodnota koeficientu a, což je hodnota ovlivňující váhu okrajových bodů ve váženém průměru, a pro každou částici q, z množiny Q se váženým průměrem určí ze spektrální mapy S za pomoci koeficientu a spektrum Xj rentgenového záření, kde hodnoty Xj(E) uložené ve spektru Xj jsou kumulované intenzity rentgenového záření o energii E. Nakonec se kvantitativní spektroskopickou analýzou spektra Xj
-4CZ 303228 B6 určí koncentrace chemických prvků obsažených ve zkoumaném vzorku v místě, kde se nachází částice qr
Další možností je, že se odborným odhadem stanoví hodnoty koeficientů bmin a bmax, což jsou hodnoty představující minimální a maximální předpokládanou úroveň intenzity zpětně odražených elektronů u materiálů, které jsou předmětem prováděné analýzy. V dalším kroku se pro každou částici (¾ z množiny Q určí na základě mapy R rozložení částic a elektronové mapy B pomocí mediánu střední úroveň intenzity zpětně odražených elektronů b,. V případě, že se hodnota bj nachází v uzavřeném intervalu mezi hodnotami bmjn a bmax, částice 1¾ se vloží do nové množiny Q'. Poté se pro každou částici φ z nové množiny Q' určí váženým průměrem ze spektrální mapy S za pomoci koeficientu a spektrum Xj rentgenového záření. Kvantitativní spektroskopickou analýzou spektra Xj se následně určí koncentrace chemických prvků obsažených ve zkoumaném vzorku v místě, kde se nachází částice qj.
Další možností je, že se odborným odhadem stanoví množina Z pravidel pro klasifikaci materiálů na základě chemického složení, dále jen množina Z, což je množina dvojic (ck, vk) a každé třídě ck je přirazen logický výraz vk skládající se z identifikátorů proměnných, aritmetických operátorů, logických operátorů, operátorů porovnání a číselných konstant. Následně se určí množina proměnných vyskytujících se ve výrazech uložených v množině Z. Pro každou částici qj z množiny Q se zjištěné koncentrace chemických prvků přiřadí do těchto proměnných a následně se vyhodnotí logická hodnota každého výrazu vk za účelem vytvoření množiny Cj, kde množina Cj obsahuje takové třídy ck z množiny C, kde C je množina všech tříd z množiny Z, pro které je odpovídající výraz vk pravdivý. Tento způsob lze použít i pro případ uvedený v předchozím odstavci.
Zařízení k provádění způsobu podle základního provedení vychází ze zařízení tvořeného rastrovacím elektronovým mikroskopem opatřeným detektorem zpětně odražených elektronů připojeným na vstup analogově-číslicového převodníku a energiově-disperzním detektorem rentgenového záření připojeným na vstup pulzního procesoru. Podstatou nového zařízení je, že na výstup analogově-číslicového převodníku a na výstup pulzního procesoru je připojena nově koncipovaná jednotka zpracování. Výstup analogově-číslicového převodníku je zde spojen pres první paměť, druhý derivační blok a sedmou paměť sjedním vstupem slučovacího bloku. Výstup pulzního procesoru je spojen sjedním vstupem druhé paměti, jejíž výstup je připojen najeden vstup prvního integračního bloku, na jehož druhý vstup je připojen výstup čtvrté paměti propojené svým vstupem s výstupem třetí paměti. Výstup prvního integračního bloku je pres pátou paměť, první derivační blok a šestou paměť spojen s druhým vstupem slučovacího obvodu, jehož výstup je připojen přes osmou paměť na vstup transformačního bloku. Jeden výstup transformačního blokuje přes devátou paměť spojen sjedním vstupem druhého integračního bloku ajeho druhý výstup je přes desátou paměť spojen s druhým vstupem druhého integračního bloku. Na třetí vstup druhého integračního blokuje připojen výstup jedenácté paměti a na jeho čtvrtý vstup je připojen druhý výstup druhé paměti. Výstup druhého integračního bloku je propojen přes spektrální analyzátor, dvanáctou paměť a řadič zobrazovacího zařízení se vstupem tohoto zobrazovacího zařízení. Celá jednotka zpracování má předřazeno vstupní zařízení pro zadávání vstupních hodnot a polohovací zařízení pro označení vybraných částic. Vstupní zařízení je propojené přes řadič vstupního zařízení se třetí, čtvrtou a jedenáctou pamětí. Polohovací zařízení je propojené přes řadič polohovacího zařízení a řadič zobrazovacího zařízení s tímto zobrazovacím zařízen ím.
V případě, kdy se odborným odhadem stanovují hodnoty koeficientů bmin a bmax, je výstup první paměti připojen zároveň najeden vstup třetího integračního bloku, na jehož druhý vstup je připojen výstup deváté paměti. Výstup třetího integračního bloku je připojen najeden vstup komparačního obvodu, na jehož druhý vstup je připojen výstup třinácté paměti. Vstup třinácté paměti je přes řadič vstupního zařízení spojen s výstupem tohoto vstupního zařízení. Výstup komparačního blokuje přes čtrnáctou paměť připojen na druhý vstup druhého integračního bloku.
- 5 CZ 303228 Β6
Pokud se provádí odborným odhadem stanovení množiny Z nebo i stanovení hodnoty koeficientů bmin a bmax, je spektrální analyzátor opatřen druhým výstupem, který je připojen na jeden vstup klasí ti kátoru, na jehož druhý vstup je připojen výstup patnácté paměti propojené přes řadič vstupního zařízení s tímto vstupním zařízením. Výstup klasifikátoru je přes šestnáctou paměť a řadič zobrazovacího zařízení propojen s tímto zobrazovacím zařízením.
Výhody navrhovaného způsobu a zařízení jsou následující: Vyhledání částic využívá zpětně odražených elektronů. Díky malému interakčnímu objemu pro zpětné odražené elektrony jsou hranice mezi částice lépe definovány. Lze tedy analyzovat menší částice s menší chybou než při vyhledávání částic pouze na základě rentgenových dat. Vyhledání částic využívá také rentgenové záření, což umožňuje spolehlivě detekovat hranici mezi dvěma materiály, které mají sice různé chemické složení, ale podobnou hodnotu emisivity zpětně odražených elektronů. Klasifikace částic je založena na procentuálním zastoupení chemických prvků, což je obecná vlastnost materiálu nezávislá na použitím zařízení a pracovních podmínkách. Pokud se tedy změní pracovní podmínky, například proud ve svazku nebo se použije jiný typ detektoru, není nutné měnit pravidla pro klasifikaci částic. Další výhodou je, že se klasifikují částice, nikoliv jednotlivé body. Tento přístup umožňuje lépe ošetřit okrajové jevy, k nimž dochází v blízkosti přechodu mezi dvěma částicemi s různým chemickým složením díky nezanedbatelné velikosti interakčního objemu pro rentgenové záření, čímž se výrazně redukuje množství potřebných klasifikačních tříd. Zároveň se snižuje časová náročnost celé analýzy, díky menšímu počtu klasifikací. Časovou náročnost analýzy lze dále snížit v případě, že zkoumaný vzorek obsahuje nezanedbatelné množství částic, které jsou z hlediska prováděné analýzy nezajímavé a lze je před kvantitativní spektroskopickou analýzou vyřadit na základě intenzity zpětně odražených elektronů. Typickým příkladem je uhlíkový prášek, který se přimíchává do mineralogických vzorků za účelem zjednodušení částicové analýzy díky tomu, že se sníží pravděpodobnosti dotyku mezi částicemi. Uhlík má výrazně nižší emisivitu BSE než ostatní minerály, jež jsou obvykle předmětem analýzy. Pomocí komparačního bloku lze částice obsahující pouze čistý uhlík z dalšího zpracování vyřadit.
Přehled objasnění výkresů
Na obrázku 1 je znázorněno blokové schéma elektronového mikroskopu s detektorem zpětně odražených elektronů, detektorem rentgenového záření a řídicími obvody podle dosavadního stavu techniky.
Na obrázku 2 je znázorněno blokové schéma zapojení základní varianty navrhovaného zařízení pro analýzu materiálů fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového záření a zpětně odražených elektronů.
Na obrázku 3a a 3b jsou znázorněna bloková schémata dalších možných variant zapojení, přičemž některé části společné se základní variantou jsou pro přehlednost vynechány.
Příklad uskutečnění vynálezu
Způsob analýzy materiálů fokusovaným elektronovým svazkem v rastrovacím elektronovém mikroskopuje založen na známém postupu, kdy se nejprve odborným odhadem stanoví přiměřeně velká množina P chemických prvků, které se ve zkoumaném vzorku mohou vyskytovat a pro každý prvek p( z množiny P se určí interval I, energií rentgenových fotonů odpovídající jedné z emisních čar tohoto prvku. Poté se fokusovaný elektronový svazek vychyluje postupně do bodů na zkoumaném vzorku a v těchto bodech se zjišťuje intenzita zpětně odražených elektronů za účelem vytvoření elektronové mapy B a zjišťuje se histogram energií rentgenového záření emitovaného v tomto bodě za účelem vytvoření spektrální mapy S. Nový způsob pak sestává z následujících kroků: Pro každý prvek p, z množiny P se vytvoří rentgenová mapa Mj, kde hodnoty Mj(x, y) uložené v mapě M, jsou vztaženy k bodům na vzorku o souřadnicích (x, y) a odpo-6CZ 303228 B6 vídají intenzitě rentgenového záření o energii v intervalu f emitovaného v těchto bodech. Následně se rentgenové mapy M; převedou na diferenční rentgenové mapy D„ kde hodnoty D;(x, y) uložené v mapě D, jsou vztaženy k bodům na vzorku o souřadnicích (x, y) a odpovídají velikostí gradientu intenzity rentgenového záření o energii v intervalu 1, v těchto bodech. Současně se elektronová mapa B převede na diferenční elektronovou mapu DB, kde hodnoty DB(x, y) uložené v mapě DB jsou vztaženy k bodům na vzorku o souřadnicích (x, y) a odpovídají velikosti gradientu intenzity zpětně odražených elektronů v těchto bodech. V dalším kroku se diferenční rentgenové mapy Dj a diferenční elektronová mapa DB sloučí do výsledné diferenční mapy D. Následně se pomocí transformace watershed aplikované na diferenční mapu D provede segmentace obrazu. Jejím účelem je vyhledání částic. Výsledkem této operace je množina Q částic, kde každé částici je přiřazeno pořadové číslo j, a mapa R rozložení částic, kde hodnoty R(x, y) uložené v mapě R jsou vztaženy k bodům na vzorku o souřadnicích (x, y) a odpovídají pořadovému číslu částice. V dalším kroku se odborným odhadem stanoví hodnota koeficientu a, což je hodnota ovlivňující váhu okrajových bodů ve váženém průměru, a pro každou částici ty z množiny Q se váženým průměrem určí ze spektrální mapy S za pomoci koeficientu a spektrum Xj rentgenového záření, kde hodnoty Xj(E) jsou kumulované hodnoty intenzity rentgenového záření o energii E. Poté se kvantitativní spektroskopickou analýzou spektra Xj určí koncentrace chemických prvků obsažených ve zkoumaném vzorku v místě, kde se nachází částice qj.
Dalším vylepšením je, že se odborným odhadem stanoví hodnoty koeficientů bmin a bmax, což jsou hodnoty představující minimální a maximální předpokládanou úroveň intenzity zpětně odražených elektronů u materiálů, které jsou předmětem prováděné analýzy. Poté se pro každou částicí q z množiny Q částic určí na základě mapy R rozložení částic a elektronové mapy B pomocí mediánu střední úroveň intenzity zpětně odražených elektronů bj. V případě, že se hodnota bj nachází v uzavřeném intervalu mezi hodnotami bmin a bmax, částice q, se vloží do nové množiny Q'. Pak se pro každou částici q, z nové množiny Q' určí ze spektrální mapy S za pomoci koeficientu a spektrum Xj rentgenového záření. Nakonec se kvantitativní spektroskopickou analýzou spektra Xj určí koncentrace chemických prvků obsažených ve zkoumaném vzorku v místě, kde se nachází částice q,.
Je rovněž možné odborným odhadem stanovit množinu Z pravidel pro klasifikaci materiálů na základě chemického složení, kde Z je množina dvojic (ck, vk) a každé třídě ck je přiřazen logický výraz vk skládající se z identifikátorů proměnných, aritmetických operátorů, logických operátorů, operátorů porovnání a číselných konstant. Po tomto stanovení se určí množina proměnných vyskytujících se ve výrazech uložených v množině Z. Pro každou částici q, z množiny Q se zjištěné koncentrace chemických prvků přiřadí do těchto proměnných a následně se vyhodnotí logická hodnota každého výrazu vk. Účelem je vytvoření množiny Cj, kde množina Cj obsahuje takové třídy ck z množiny C, kde C je množina všech tříd z množiny Z, pro které je odpovídající výraz vk pravdivý. Tento postup lze aplikovat současně i v případě, kdy se stanovují hodnoty koeficientů bmin 4 bmax·
Zařízení pro analýzu materiálů fokusovaných elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového záření a zpětně odražených elektronů je schematicky znázorněno na Obr. 2, přičemž některé běžné součásti elektronového mikroskopu, které se přímo nevztahují k předkládanému vynálezu, jsou z obrázku pro přehlednost vynechány. Zařízení sestává z rastrovacího elektronového mikroskopu 13, který se skládá mimo jiné z trysky I vytvářející svazek urychlených elektronů 2, který se vychyluje pomocí dvojice vychylovaeích cívek 3 tak, že dopadá postupné na vzorek 4 v různých bodech. Proudy vychylovacími cívkami 3 jsou řízeny vychylovacími obvody 5, jež generují vychylovací signál podle předem stanoveného předpisu, nej Častěji v pravidelné pravoúhlé mřížce. Elektronový mikroskop 13 je vybaven detektorem 8 zpětně odražených elektronů a analogově-číslicovým převodníkem 9, který převádí analogový signál z detektoru 8 zpětně odražených elektronů do číslicové podoby. Zařízení je dále vybaveno energiově-disperzním detektorem 10 rentgenového záření a pulzním procesorem 11, který zpracovává analogový signál z energiově-disperzního detektoru 10 rentgenového záření a převádí jej do číslicové podoby. Vychylování svazku a zpracování informací ze všech detektorů je synchro-7CZ 303228 B6 nizováno pomoct řídicí jednotky Γ2. Informace z obou typů detektorů se ukládají a zpracovávají v jednotce 20 zpracování.
Na výstup analogově-číslicového převodníku 9 a na výstup pulzního procesoru 11 je připojena jednotka 20 zpracování. Výstup analogově-číslicového převodníku 9 je spojen přes první paměť 2i, druhý derivační blok 29 a sedmou paměť 30 s jedním vstupem slučovacího bloku 31. Výstup pulzního procesoru J_L je spojen s jedním vstupem druhé paměti 22, Její výstup je připojen na jeden vstup prvního integračního bloku 25, na jeho druhý vstup je připojen výstup čtvrté paměti 24. Ta je propojená svým vstupem s výstupem třetím paměti 23. Výstup prvního integračního bloku 25 je přes pátou paměť 26, první derivační blok 27 a šestou paměť 28 spojen s druhým vstupem slučovacího ob vodu 31. Jeho výstup je připojen přes osmou paměť 32 na vstup transformačního bloku 33, jehožjeden výstup je přes devátou paměť 34 spojen s jedním vstupem druhého integračního bloku 36. Druhý výstup transformačního bloku 33 je přes desátou paměť 35 spojen s druhým vstupem druhého integračního bloku 36. Na třetí vstup druhého integračního bloku 36 je připojen výstup jedenácté paměti 37 a na jeho čtvrtý vstup je připojen druhý výstup druhé paměti 22. Výstup druhého integračního bloku 36 je připojen přes spektrální analyzátor 38, dvanáctou paměť 39 a řadič 40 zobrazovacího zařízení ke vstupu zobrazovacího zařízení 41. Celá jednotka 20 zpracování má předřaženo vstupní zařízení 44 pro zadávání vstupních hodnot a polohovací zařízení 42 pro označení vybraných částic. Vstupní zařízení 44 je propojené přes řadič 45 vstupního zařízení se třetí pamětí 23, se čtvrtou pamětí 24 a s jedenáctou pamětí 27. Polohovací zařízení 42 je přes řadič 43 polohovacího zařízení a přes řadič 40 zobrazovacího zařízení propojeno s tímto zobrazovacím zařízením 41.
V případě, že se stanovují odborným odhadem hodnoty koeficientů bmi„ a bmax, je výstup první paměti 2J připojen zároveň najeden vstup třetího integračního bloku 50, na jehož druhý vstup je připojen výstup deváté paměti 34. Výstup třetího integračního bloku 50 je pak připojen najeden vstup komparačního obvodu 51, na jehož druhý vstup je připojen výstup třinácté paměti 52, vstup třinácté paměti 52 je přes řadič 45 vstupního zařízení spojen s výstupem tohoto vstupního zařízení 44. Výstup komparačního bloku 51 je přes čtrnáctou paměť 53 připojen na druhý vstup druhého integračního bloku 36.
V případě stanovování množiny Z je spektrální analyzátor 38 opatřen druhým výstupem, který je připojen najeden vstup klasifikátoru 60. Na druhý vstup klasifikátoru 60je připojen výstup patnácté paměti 61, propojené přes řadič 45 vstupního zařízení s tímto vstupním zařízením 44. Výstup klasifikátoru 60 je přes šestnáctou paměť 62 a řadič 40 zobrazovacího zařízení propojen s tímto zobrazovacím zařízením 41. Toto zapojení lze použít i současně se zapojením, kdy se stanovují odborným odhadem hodnoty koeficientů bmin a bmax.
Zařízení pracuje následujícím způsobem: Řídicí jednotka 12 vygeneruje na základě požadavku z jednotky 20 zpracování rastrovací předpis, který definuje posloupnost bodů na vzorku 4. Vychylovací obvody 5 řídí proud vychylovacími cívkami 3 tak, že elektronový svazek 2 dopadá postupně na vzorek 4 v bodech podle rastrovacího předpisu. Řídicí jednotka J2 dále komunikuje s analogově-číslicovým převodníkem 9 a pulzním procesorem JJ. Signál z analogově-číslicového převodníku 9 a pulzního procesoru U se odesílá do jednotky zpracování 20, kde se provádí jejich další zpracování.
V jednotce 20 zpracování se na základě signálu z detektoru 8 zpětně odražených elektronů vytváří elektronová mapa B, která je uložena v první paměti 21, obsahující intenzitu zpětně odražených elektronů v bodech na vzorku 4 podle rastrovacího předpisu. Elektronovou mapou B se v tomto případě rozumí dvojrozměrné pole skalárních hodnot, přičemž tyt dva rozměry odpovídají pravoúhlém systému souřadnic x a y na vzorku 4. Skalární hodnoty B(x, y) uložené v elektronové mapě B odpovídají intenzitě detekovaných zpětně odražených elektronů v místě na vzorku 4 o souřadnicích (x, y) za čas, po který elektronový svazek v tomto bodě setrval.
-8CZ 303228 B6
Současně se na základě informací z energiově-disperzního detektoru 10 rentgenového záření vytváří v druhé paměti 22 spektrální mapa S. Spektrální mapou S se rozumí trojrozměrné pole, přičemž první dva rozměry odpovídají souřadnicím y a y na vzorku 4 a dodatečným třetím rozměrem je číslo kanálu odpovídající úzkému intervalu energie fotonů E. Skalární hodnoty S(x, y,
E) uložené v spektrální mapě S odpovídají počtu detekovaných rentgenových fotonů s danou energií E v místě na vzorku 4 o souřadnicích (x, y) za čas, po který elektronový svazek v tomto bodě setrval.
Na základě znalosti předpokládaného mineralogického či chemického složení vzorků zadá zkulo šený uživatel pomocí vstupního zařízení 44 předřazeného jednotce 20 zpracování, například klávesnice, před zahájením analýzy množinu P chemických prvků, kde P = { pÉ; i = 1, 2, ... n), a množinu l intervalů energií rentgenového záření, dále jen množina í, kde l = { k; i = 1, 2, ... n}, kde n je počet zadaných prvků a interval Ij odpovídá úzkému intervalu energií v okolí jedné z emisních čar prvku p;. Množina P se uloží do třetí paměti 23 a množina I se uloží do čtvrté paměti 24 před zahájením analýzy.
Druhá paměť 22. obsahující spektrální mapu S, je přivedena na vstup prvního integračního bloku 25, který pro každý interval I, z množiny I vytvoří jednu rentgenovou mapu Mi podle následujícího vztahu.
M, (.x<y) = YJS(x,y,E)
Zie f,
Rentgenové mapy Mj jsou reprezentovány dvojrozměrným polem, přičemž tyto dva rozměry odpovídají pravoúhlému systému souřadnic x a y na vzorku. Skalární hodnoty M,(x, y) uložené v rentgenových mapách Mj jsou úměrné intenzitě rentgenového záření charakteristického pro prvek pi v místě na vzorku o souřadnicích (x, y). Výstup prvního integračního bloku 25 se před dalším zpracováním uloží do páté paměti 26.
Pátá paměť 26, obsahující rentgenové mapy Mi, je přivedena na vstup prvního derivačního bloku
27, který pro každou rentgenovou mapu Mj vytvoří diferenční rentgenovou mapu Dj tak, že pro každý bod vstupní mapy se pomocí Sobeíova operátoru vypočítá velikost gradientu intenzity rentgenového záření o energii v intervalu Ij. Výsledné diferenční rentgenové mapy Dj se uloží do šesté paměti 28.
První paměť 21, obsahující elektronovou mapu B, je přivedena na vstup druhého derivačního bloku 29. jenž vytvoří diferenční elektronovou mapu D0 tak, že pro každý bod vstupní mapy B(x, y) se pomocí Sobeíova operátoru vypočítá velikost gradientu intenzity zpětně odražených elektronů Db(x, y) v bodě na vzorku o souřadnicích (x, y). Výstup druhého derivačního bloku 29, diferenční elektronová mapa D0 se uloží do sedmé paměti 30.
Šestá paměť 28, obsahující diferenční rentgenové mapy D„ a sedmá paměť 30, obsahující diferenční elektronovou mapu DB, jsou přivedeny na vstup slučovacího bloku 31, který vytvoří výslednou diferenční mapu D podle následujících rovnic, kde Dj(x, y) jsou hodnoty z diferenční rentgenové mapy Dj, Ds(x, y) jsou hodnoty výsledné diferenční rentgenové mapy Ds, DB(x, y) jsou hodnoty uložené v diferenční elektronové mapě DB a D(x, y) jsou hodnoty ve výsledné diferenční mapě D. Výstup slučovacího bloku 3_L, tedy výsledná diferenční mapa D, se uloží do osmé paměti 32.
D^(xty)- max Djx.y)
1= I
D(x, v)- max(Ds(x. y), D„(.v, y))
-9 CZ 303228 B6
Osmá paměť 32, obsahující výslednou diferenční mapu D, je přivedena na vstup transformačního bloku 33, který provádí segmentaci obrazu pomocí transformace watershed. Výsledkem segmentace je množina Q nalezených částic, kde Q — j = 1,2,... m}, kde m je počet nalezených částic, a mapa R rozložení částic, která definuje pro každou částici ty z množiny Q množinu bodů (x, y) na vzorku 4, které patří k částici Množina O se uloží do deváté paměti 34 a mapa R se uloží do desáté paměti 35.
Druhý integrační blok 36 přečte množinu Q uloženou v deváté paměti 34 a mapu rozložení částic R uloženou v desáté paměti 35 i spektrální mapu S, uloženou v druhé paměti 22. Sekvenčním způsobem se pro každou částici qj z množiny Q vypočtou kumulované hodnoty X/E) spektra Xj rentgenového záření podle následující rovnice, a to ze všech bodů (x, y), které se podle mapy R prostorově nacházejí uvnitř částice qj.
Σ ™ Sx yw* y. e)
Έ w,(x y)
Váha příspěvku w/x, y) v bodě o souřadnicích (x, y) se vypočte z minimální vzdálenosti dmin(x, y) bodu (x, y) od bodů na okraji částice qj a koeficientu a podle následujících vztahů. Koeficient a určí zkušený uživatel před zahájením analýzy na základě znalosti charakteru zkoumaných vzorků, tato hodnota se uloží v paměti jedenácté 37. Tento krok má zásadní vliv na přesnost výsledku analýzy a spolehlivost následné klasifikace. Kvantitativní spektroskopická analýza předpokládá, že materiál v interakčním objemu, ze kterého pochází analyzované spektrum, je homogenní. U nehomogenních materiálů není tato podmínka splněna obecně, protože díky nezanedbatelné velikosti interakčního objemu dochází v blízkosti rozhraní dvou částic k emisi rentgenového záření na obou stranách rozhraní. Použitím váženého průměru, kde body na okraj částice mají nižší váhu než body v jejím vnitřku, se tento nežádoucí jev výrazně omezí.
h’x,y)= ^m,n^ '·>) pr0 d„„„(x. y)< a a ivt(x. y)= 1 pro ostatní hodnoty dm/n(x, y)
Spektrum Xj vstupuje do spektrálního analyzátoru 38, v němž se pomocí kvantitativní spektroskopické analýzy určí procentuální zastoupení chemických prvků. Výsledek spektrální analýzy se uloží do dvanácté paměti 39 a je prezentován uživateli na zobrazovacím zařízení 41 připojeném k jednotce zpracování 20 ve formě dvojrozměrného obrázku, ve kterém je vyznačeno prostorové rozložení nalezených částic na základě mapy R rozložení Částic, uložené v desáté paměti 35. Uživateli je umožněno pomocí polohovacího zařízení 42 předřazeného jednotce zpracování 20, například myši, označit na obrázku jednu z částic, následně je v jiné části zobrazovacího zařízení 41 uživateli prezentováno procedurální zastoupení chemických prvků uložené pro vybranou částici ve dvanácté paměti 39.
V druhém možném provedení, jehož blokové schéma je znázorněno na obrázku 3a, přičemž některé společné části jsou pro přehlednost vynechány, jsou množina Q, uložená v deváté paměti 34, a mapa R rozložení částic, uložená v desáté paměti 35, spolu s elektronovou mapou B, uloženou v první paměti 2|, přivedeny na vstup třetího integračního bloku 50, který sekvenčním způsobem pro každou částici qj z množiny Q vypočítá z elektronové mapy B pomocí mediánu střední hodnotu intenzity zpětně odražených elektronů bj. Medián se počítá ze všech hodnot uložených v elektronové mapě B, které podle mapy R spadají prostorově do částice qj. Výstup třetího integračního bloku 50 je přiveden na vstup komparačního bloku 51, který vypočtená hodnota bj se porovná se dvěma hodnotami brain a bmax. Hodnoty bmin a bmax určí zkušený uživatel pomocí vstupního zařízení 44 předřazeného jednotce zpracování 20 před zahájením analýzy na základě znalosti charakteru signálu zpětně odražených elektronů u zkoumaných vzorků, tyto hodnoty se uloží před zahájením analýzy do třinácté paměti 52. Výstupem komparačního bloku 51 je množi- 10CZ 303228 B6 na Q', kde množina Q' je podmnožinou množiny Q přičemž množina Q' obsahuje pouze ty částice q, z množiny Q, jejichž hodnota b, spadá do uzavřeného intervalu mezi hodnotami bmjn a bmax. Množina Q' se uloží do čtrnácté paměti 53. V tomto provedení je vstup druhého integračního bloku 36 upraven tak, že seznam částic se čte ze čtrnácté paměti 53 místo deváté paměti 34.
Ve třetím možném provedení, jehož blokové schéma je znázorněno na obrázku 3 b, přičemž některé společné části jsou pro přehlednost vynechány, je výstup spektrálního analyzátoru 38 přiveden na vstup klasifikátoru 60, který na základě procentuálního zastoupení chemických prvků a množiny Z přiřadí částici qj do žádné, jedné nebo více než jedné třídy. Množinu Z zadá zkušený uživatel pomocí vstupního zařízení 44 předřazeného jednotce 20 zpracování před zahájením analýzy na základě znalosti chemického složení materiálů, které mohou být obsaženy ve zkoumaném vzorku. Množina Z je definována ve formě množiny uspořádaných dvojic, ke Z = { (ck, vk); k = 1, 2, ... nc}, kde nc je počet tříd a každá třída ck má přiřazený logický výraz vk, který sestává z identifikátorů proměnných, číselných konstant, aritmetických operátorů pro negaci, sčítání, násobení, odečítání a dělení, operátorů pro porovnání dvou číselných hodnot (ekvivalence, non-ekvivalence, větší, větší nebo rovno, menší, menší nebo rovno) a logických operátorů pro negaci, logický součet a logický součin. Množina Z se uloží před zahájením analýzy do patnácté paměti 61_. Částice se vyhodnocují postupně, nejprve se do proměnných přiřadí hodnoty procentuálního zastoupení chemických prvků pro jednu z částic (výstup spektrálního analyzátoru 38), následně se pro každou třídu ck z množiny C, kde C = { ck; k = 1, 2,... nc}, vyhodnotí její logický výraz vk. Po vyhodnocení pravdivostních hodnot logických výrazů všech tříd po částici qj se vytvoří množina Cp která je podmnožinou množiny C a obsahuje ty prvky ck z množiny C, pro něž je pra vodivostní hodnota logického výrazu vk pravda. Výstup klasifikátoru 60 je uložen do šestnácté paměti 62 ve formě tabulky, která obsahuje identifikační číslo každé částice, procentuální zastoupení chemických prvků, tedy data na výstupu spektrálního analyzátoru 38, a množinu Cj tříd, která byla k této částici přiřazena v klasifikátoru 60. V tomto provedení je výsledek analýzy uložený v šestnácté paměti 62 prezentován uživateli na zobrazovacím zařízení 41 připojeném k jednotce zpracování 20 ve formě dvojrozměrného obrázku, v němž je vyznačeno prostorové rozložení nalezených částic. Uživateli je umožněno pomocí polohovacího za řízení 42 předřazeného jednotce zpracování 20, například myši, označit na obrázku jednu z částic, následně jsou v jiné části zobrazovacího zařízení prezentovány uživateli výsledky klasifikace vybrané částice, uložené v šestnácté paměti 62, a procentuální zastoupení prvků pro vybranou částici, uložené ve dvanácté paměti 39.
Možné je také čtvrté provedení, kde jsou provedeny obě úpravy podle výše popsaného druhého a třetího provedení.
Průmyslová využitelnost
Uvedený nový postup a zařízení jsou zvlášť vhodné pro použití v petrografii při kvantitativní analýze hornin. Při této analýze se zkoumaný vzorek horniny obvykle rozdrtí nájemné částice o velikosti řádově jednotky až desítky mikrometrů, síty se rozdělí podle velikosti částic do několika tak zvaných frakcí. Z každé frakce se odebere několik vzorků. Tyto vzorky se obvykle smíchají s plnidlem a epoxidovou pryskyřicí a nechají se ztvrdnout do válcových bloků, které se dále leští a následně pokryjí tenkou vodivou vrstvou, obvykle uhlíkem, kvůli odvedení povrchového náboje. Tyto bloky se umístí do rastrovacího elektronového mikroskopu, který postupně sbírá data a analyzuje materiál na jejich povrchu. Předkládané zařízení umožňuje provádět plně automatizovanou analýzu takových vzorků, jejímž výsledkem jsou nejen morfologické a chemické vlastnosti minerálů, z nichž se zkoumaný vzorek skládá, ale především informace o vzájemném prostorovém uspořádání minerálů, což je v mnoha případech zcela podstatná informace z hlediska určování fyzikálních a chemických vlastností hornin.
Claims (6)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Způsob analýzy materiálů fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového záření a zpětně odražených elektronů, kdy se nejprve odborným odhadem stanoví přiměřeně velká množina P chemických prvků, které se ve zkoumaném vzorku mohou vyskytovat a pro každý prvek pj z množiny P se určí interval energií rentgenových fotonů h odpovídající jedné z emisních čar tohoto prvku, načež se fokusovaný elektronový svazek vychyluje postupně do bodů na zkoumaném vzorku a v těchto bodech se zjišťuje intenzita zpětně odražených elektronů za účelem vytvoření elektronové mapy B a zjišťuje se histogram energií rentgenového záření emitovaného v tomto bodě za účelem vytvoření spektrální mapy S, vyznačující se tím, že pro každý prvek pj z množiny P se vytvoří rentgenová mapa Mi, kde hodnoty M;(x, y) uložené v mapě Mj jsou vztaženy k bodům na vzorku o souřadnicích (x, y) a odpovídají intenzitě rentgenového záření o energii v intervalu h emitovaného v těchto bodech, poté se rentgenové mapy Mj převedou na diferenční rentgenové mapy Ds, kde hodnoty Dj(x, y) uložené v mapě Dj jsou vztaženy k bodů na vzorku o souřadnicích (x, y) a odpovídají velikosti gradientu intenzity rentgenového záření o energii v intervalu l, v těchto bodech, současně se elektronová mapa B převede na diferenční elektronovou mapu DB, kde hodnoty Db(x, y) uložené v mapě Db jsou vztaženy k bodům na vzorku o souřadnicích (x, y) a odpovídají velikosti gradientu intenzity zpětně odražených elektronů v těchto bodech, diferenční rentgenové mapy D; a diferenční elektronová mapa D0 se poté sloučí do výsledné diferenční mapy D, následně se pomocí transformace watershed aplikované na diferenční mapu D provede segmentace obrazu za účelem vyhledání částic, přičemž výsledkem operace je množina Q částic, kde každé částici je přiřazeno pořadové číslo j, a mapa R rozložení částic, kde hodnoty R(x, y) uložené v mapě Rjsou vztaženy k bodům na vzorku o souřadnicích (x, y) a odpovídají pořadovému číslu částice, poté se odborným odhadem stanoví hodnota koeficientu a, pro každou částici qj z množiny Q se určí ze spektrální mapy S za pomoci koeficientu a spektrum Xj rentgenového záření, kde hodnoty Xj(E) jsou kumulované hodnoty intenzity rentgenového záření o energii E a po té se kvantitativní spektroskopickou analýzou spektra Xj určí koncentrace chemických prvků obsažených ve zkoumaném vzorku v místě, kde se nachází částice qj.
- 2. Způsob podle nároku 1, vyznačující se tím, že se odborným odhadem stanoví hodnoty koeficientů bmjn a bmax a poté se pro každou částici qj z množiny Q určí na základě mapy R rozložení částic a elektronové mapy B pomocí mediánu střední úroveň intenzity zpětně odražených elektronů bj, přičemž v případě, že hodnota bj se nachází v uzavřeném intervalu mezi hodnotami bmin a bmax, částice qj se vloží do nové množiny Q' částic, poté se pro každou částici qj z nové množiny Q' určí ze spektrální mapy S za pomoci koeficientu a spektrum Xj rentgenového záření a po té se kvantitativní spektroskopickou analýzou spektra Xj určí koncentrace chemických prvků obsažených ve zkoumaném vzorku v místě, kde se nachází částice qj.
- 3. Způsob podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že se odborným odhadem stanoví množina Z pravidel pro klasifikaci materiálů, kde Z je množina dvojic (ck, vk) a každé třídě ck je přiřazen logický výraz vk skládající se z identifikátorů proměnných, aritmetických operátorů, logických operátorů, operátorů porovnání a číselných konstant, po té se určí množina proměnných vyskytujících se ve výrazech uložených v množině Z, pro každou částici qj z množiny Q se zjištěné koncentrace chemických prvků přiřadí do těchto proměnných a následně se vyhodnotí logická hodnota každého výrazu vk za účelem vytvoření množiny Cj, kde množina Cj obsahuje takové třídy ck z množiny C, kde C je množina všech tříd z množiny Z, pro které je odpovídající výraz vk pravdivý.
- 4. Zařízení k provádění způsobu podle nároku l, kdy se analýzy provádí pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu (13) opatřeného detektorem (8) zpětně odražených elektronů připojeného na vstup analogově-číslicového převodníku (9) a energiově-disperzního detektoru (10) rentgenového záření připojeného na vstup pulzního procesoru (11), vyznačující se- 12CZ 303228 B6 tím, že na výstup analogové—Číslicového převodníku (9) a na výstup pulzního procesoru (11) je připojena jednotka (20) zpracování, kde výstup analogově-číslicového převodníku (9) je spojen přes první paměť (21), druhý derivační blok (29) a sedmou paměť (30) s jedním vstupem slučovacího bloku (31) a výstup pulzního procesoru (ll) je spojen s jedním vstupem druhé paměti (22), jejíž výstup je připojen najeden vstup prvního integračního bloku (25), na jehož druhý vstup je připojen výstup čtvrté paměti (24) propojené svým vstupem s výstupem třetí paměti (23) a výstup prvního integračního bloku (25) je přes pátou paměť (26), první derivační blok (27) a šestou paměť (28) spojen s druhým vstupem slučovacího obvodu (31), jehož výstup je připojen přes osmou paměť (32) na vstup transformačního bloku (33), jehož jeden výstup je přes devátou paměť (34) spojen s jedním vstupem druhého integračního bloku (36) a jehož druhý výstup je přes desátou paměť (35) spojen s druhým vstupem druhého integračního bloku (36), na jehož třetí vstup je připojen výstup jedenácté paměti (37) a na jehož čtvrtý vstup je připojen druhý výstup druhé paměti (22), přičemž výstup druhého integračního bloku (36) je připojen přes spektrální analyzátor (38), dvanáctou paměť (39) a řadič (40) zobrazovacího zařízení se vstupem zobrazovacího zařízení (41) a celá jednotka (20) zpracování má předřazeno vstupní zařízení (44) pro zadáváni vstupních hodnot, propojené přes řadič (45) vstupního zařízení se třetí pamětí (23), čtvrtou pamětí (24) a jedenáctou pamětí (37) a polohovací zařízení (42) pro označení vybraných částic propojené přes řadič (43) polohovacího zařízení a přes řadič (40) zobrazovacího zařízení se zobrazovacím zařízením (41).
- 5. Zařízení podle nároku 4, vyznačující se tím, že v případě provádění způsobu podle nároku 2 je výstup první paměti (21) připojen zároveň najeden vstup třetího integračního bloku (50), na jehož druhý vstup je připojen výstup deváté paměti (34) a výstup tohoto třetího integračního bloku (50) je připojen najeden vstup komparačního obvodu (51), na jehož druhý vstup je připojen výstup třinácté paměti (52), jejíž vstup je přes řadič (45) vstupního zařízení spojen s výstupem vstupního zařízení (44) a výstup komparačního bloku (51) je přes čtrnáctou paměť (53) připojen na druhý vstup druhého integračního bloku (36),
- 6. Zařízení podle nároku 5 nebo 6, vyznačující se tím, že v případě provádění způsobu podle nároku 2 nebo 3 je spektrální analyzátor (38) opatřen druhým výstupem, který je připojen najeden vstup klasifikátoru (60), na jehož druhý vstup je připojen výstup patnácté paměti (61) propojené přes řadič (45) vstupního zařízení s tímto vstupním zařízením (44) a výstup klasifikátoru (60) je přes šestnáctou paměť (62) a řadič (40) zobrazovacího zařízení propojen s tímto zobrazovacím zařízením (41),
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CZ20110154A CZ303228B6 (cs) | 2011-03-23 | 2011-03-23 | Zpusob analýzy materiálu fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového zárení a zpetne odražených elektronu a zarízení k jeho provádení |
ZA2012/01095A ZA201201095B (en) | 2011-03-23 | 2012-02-15 | Method of material analysis by means of a focused electron beam using characteristic x-rays and back-scattered electrons and the equipment to perform it |
US13/398,114 US20130054153A1 (en) | 2011-03-23 | 2012-02-16 | Method and apparatus for material analysis by a focused electron beam using characteristic x-rays and back-scattered electrons |
AU2012201146A AU2012201146B2 (en) | 2011-03-23 | 2012-02-27 | Method of material analysis by means of a focused electron beam using characteristic X-rays and back-scattered electrons and the equipment to perform it |
BR102012005032-3A BR102012005032B1 (pt) | 2011-03-23 | 2012-03-06 | Método para análise dos materiais por meio de feixe de elétrons focalizado utilizando os característicos raios x e elétrons retrodispersados e dispositivo para executar o mesmo |
EA201270260A EA021273B1 (ru) | 2011-03-23 | 2012-03-06 | Способ и устройство анализа материалов с помощью сфокусированного пучка электронов с использованием характеристического рентгеновского излучения и обратноотраженных электронов |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CZ20110154A CZ303228B6 (cs) | 2011-03-23 | 2011-03-23 | Zpusob analýzy materiálu fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového zárení a zpetne odražených elektronu a zarízení k jeho provádení |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ2011154A3 CZ2011154A3 (cs) | 2012-06-06 |
CZ303228B6 true CZ303228B6 (cs) | 2012-06-06 |
Family
ID=46160534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ20110154A CZ303228B6 (cs) | 2011-03-23 | 2011-03-23 | Zpusob analýzy materiálu fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového zárení a zpetne odražených elektronu a zarízení k jeho provádení |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130054153A1 (cs) |
AU (1) | AU2012201146B2 (cs) |
CZ (1) | CZ303228B6 (cs) |
EA (1) | EA021273B1 (cs) |
ZA (1) | ZA201201095B (cs) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017050303A1 (en) | 2015-09-22 | 2017-03-30 | Tescan Brno, S.R.O. | A method of analysis of materials by means of a focused electron beam using characteristic x-rays and back-scattered electrons |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2697631A2 (en) * | 2011-04-15 | 2014-02-19 | American Science & Engineering, Inc. | Backscatter system with variable size of detector array |
US9593982B2 (en) * | 2012-05-21 | 2017-03-14 | Digimarc Corporation | Sensor-synchronized spectrally-structured-light imaging |
US9453801B2 (en) * | 2012-05-25 | 2016-09-27 | Kla-Tencor Corporation | Photoemission monitoring of EUV mirror and mask surface contamination in actinic EUV systems |
US9778215B2 (en) * | 2012-10-26 | 2017-10-03 | Fei Company | Automated mineral classification |
US9621760B2 (en) | 2013-06-07 | 2017-04-11 | Digimarc Corporation | Information coding and decoding in spectral differences |
EP2835817B1 (en) | 2013-08-09 | 2017-12-20 | Carl Zeiss Microscopy Ltd. | Method for semi-automated particle analysis using a charged particle beam |
EP2879156A1 (en) * | 2013-12-02 | 2015-06-03 | Fei Company | Charged-particle microscopy with enhanced electron detection |
JP6328456B2 (ja) * | 2014-03-20 | 2018-05-23 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | エネルギー分散型x線分析装置及びエネルギー分散型x線分析方法 |
US20170140538A1 (en) * | 2015-11-16 | 2017-05-18 | Le Holdings (Beijing) Co., Ltd. | Image preprocessing method and electronic device for image registration |
RU2664012C1 (ru) * | 2017-05-12 | 2018-08-14 | Борис Никитович Васичев | Электронно-лучевой процессор квантового компьютера и способ его осуществления |
JP2019191168A (ja) * | 2018-04-23 | 2019-10-31 | ブルカー ジェイヴィ イスラエル リミテッドBruker Jv Israel Ltd. | 小角x線散乱測定用のx線源光学系 |
EP3614414A1 (en) * | 2018-08-20 | 2020-02-26 | FEI Company | Method of examining a sample using a charged particle microscope |
AT524288B1 (de) * | 2020-09-16 | 2024-05-15 | Gatan Inc | Computergestütztes Verfahren zur Bestimmung eines Elementanteiles eines Bestimmungselementes kleiner Ordnungszahl, insbesondere eines Li-Anteiles, und Vorrichtung zur Datenverarbeitung hierzu |
EP4067888A1 (en) * | 2021-03-31 | 2022-10-05 | FEI Company | Multiple image segmentation and/or multiple dynamic spectral acquisition for material and mineral classification |
DE102021117592B9 (de) | 2021-07-07 | 2023-08-03 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren zum Betreiben eines Teilchenstrahlmikroskops, Teilchenstrahlmikroskop und Computerprogrammprodukt |
JP7307770B2 (ja) * | 2021-07-20 | 2023-07-12 | 日本電子株式会社 | 分析装置および画像処理方法 |
GB2621003B (en) * | 2023-01-13 | 2024-09-04 | Oxford Instruments Nanotechnology Tools Ltd | Live chemical imaging with multiple detectors |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5065020A (en) * | 1989-11-22 | 1991-11-12 | Hitachi, Ltd. | Energy dispersive X-ray spectrometer |
US5481109A (en) * | 1992-09-28 | 1996-01-02 | Hitachi, Ltd. | Surface analysis method and apparatus for carrying out the same |
US6751287B1 (en) * | 1998-05-15 | 2004-06-15 | The Trustees Of The Stevens Institute Of Technology | Method and apparatus for x-ray analysis of particle size (XAPS) |
US20070187597A1 (en) * | 2006-02-13 | 2007-08-16 | Hitachi High-Technologies Corporation | Focused ion beam system and a method of sample preparation and observation |
US20080111072A1 (en) * | 2006-11-14 | 2008-05-15 | Jeol Ltd. | Method and Apparatus for Analyzing Sample |
US20100027748A1 (en) * | 2008-08-04 | 2010-02-04 | Rohde David B | Synergistic Energy-Dispersive and Wavelength-Dispersive X-Ray Spectrometry |
JP2010164442A (ja) * | 2009-01-16 | 2010-07-29 | Jeol Ltd | エネルギー分散型x線分光器による分析方法及びx線分析装置 |
EP2284524A2 (en) * | 2009-08-10 | 2011-02-16 | FEI Company | Microcalorimetry for X-ray spectroscopy |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ZA80633B (en) * | 1979-02-09 | 1981-02-25 | Martin Marietta Corp | Field portable element analysis unit |
EP0053620B1 (en) * | 1980-06-11 | 1986-10-01 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Method and apparatus for material analysis |
JP3607023B2 (ja) * | 1996-05-10 | 2005-01-05 | 株式会社堀場製作所 | X線定量分析装置および方法 |
US5798525A (en) * | 1996-06-26 | 1998-08-25 | International Business Machines Corporation | X-ray enhanced SEM critical dimension measurement |
US7490009B2 (en) * | 2004-08-03 | 2009-02-10 | Fei Company | Method and system for spectroscopic data analysis |
US20070114419A1 (en) * | 2005-08-29 | 2007-05-24 | Glenn Bastiaans | Apparatus and method for detecting a designated group of materials and apparatus and method for determining if a designated group of materials can be distinguished from one or more other materials |
JP5157768B2 (ja) * | 2008-09-08 | 2013-03-06 | ソニー株式会社 | 画像処理装置および方法、並びにプログラム |
US8588486B2 (en) * | 2009-06-18 | 2013-11-19 | General Electric Company | Apparatus and method for isolating a region in an image |
JP5764380B2 (ja) * | 2010-04-29 | 2015-08-19 | エフ イー アイ カンパニFei Company | Sem画像化法 |
EP2605005A1 (en) * | 2011-12-14 | 2013-06-19 | FEI Company | Clustering of multi-modal data |
-
2011
- 2011-03-23 CZ CZ20110154A patent/CZ303228B6/cs unknown
-
2012
- 2012-02-15 ZA ZA2012/01095A patent/ZA201201095B/en unknown
- 2012-02-16 US US13/398,114 patent/US20130054153A1/en not_active Abandoned
- 2012-02-27 AU AU2012201146A patent/AU2012201146B2/en active Active
- 2012-03-06 EA EA201270260A patent/EA021273B1/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5065020A (en) * | 1989-11-22 | 1991-11-12 | Hitachi, Ltd. | Energy dispersive X-ray spectrometer |
US5481109A (en) * | 1992-09-28 | 1996-01-02 | Hitachi, Ltd. | Surface analysis method and apparatus for carrying out the same |
US6751287B1 (en) * | 1998-05-15 | 2004-06-15 | The Trustees Of The Stevens Institute Of Technology | Method and apparatus for x-ray analysis of particle size (XAPS) |
US20070187597A1 (en) * | 2006-02-13 | 2007-08-16 | Hitachi High-Technologies Corporation | Focused ion beam system and a method of sample preparation and observation |
US20080111072A1 (en) * | 2006-11-14 | 2008-05-15 | Jeol Ltd. | Method and Apparatus for Analyzing Sample |
US20100027748A1 (en) * | 2008-08-04 | 2010-02-04 | Rohde David B | Synergistic Energy-Dispersive and Wavelength-Dispersive X-Ray Spectrometry |
JP2010164442A (ja) * | 2009-01-16 | 2010-07-29 | Jeol Ltd | エネルギー分散型x線分光器による分析方法及びx線分析装置 |
EP2284524A2 (en) * | 2009-08-10 | 2011-02-16 | FEI Company | Microcalorimetry for X-ray spectroscopy |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017050303A1 (en) | 2015-09-22 | 2017-03-30 | Tescan Brno, S.R.O. | A method of analysis of materials by means of a focused electron beam using characteristic x-rays and back-scattered electrons |
CZ309309B6 (cs) * | 2015-09-22 | 2022-08-17 | TESCAN BRNO s.r.o. | Způsob analýzy materiálů fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového záření a zpětně odražených elektronů a zařízení k jejímu provádění |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EA201270260A1 (ru) | 2012-10-30 |
CZ2011154A3 (cs) | 2012-06-06 |
US20130054153A1 (en) | 2013-02-28 |
BR102012005032A2 (pt) | 2014-02-04 |
EA021273B1 (ru) | 2015-05-29 |
AU2012201146B2 (en) | 2013-05-23 |
AU2012201146A1 (en) | 2012-10-11 |
ZA201201095B (en) | 2012-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CZ303228B6 (cs) | Zpusob analýzy materiálu fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového zárení a zpetne odražených elektronu a zarízení k jeho provádení | |
US9582875B2 (en) | Defect analysis assistance device, program executed by defect analysis assistance device, and defect analysis system | |
US8664595B2 (en) | Cluster analysis of unknowns in SEM-EDS dataset | |
US9048067B2 (en) | Mineral identification using sequential decomposition into elements from mineral definitions | |
US8937282B2 (en) | Mineral identification using mineral definitions including variability | |
US9230319B2 (en) | Method of reconstructing a biological tissue image, and method and apparatus for acquiring a biological tissue image | |
US9091635B2 (en) | Mineral identification using mineral definitions having compositional ranges | |
EP2835817B1 (en) | Method for semi-automated particle analysis using a charged particle beam | |
Mueller et al. | Mineral classification of lithium-bearing pegmatites based on laser-induced breakdown spectroscopy: Application of semi-supervised learning to detect known minerals and unknown material | |
CN104174505A (zh) | 一种定量预报矿石浮选理论选矿回收率和精矿品位的方法 | |
Juránek et al. | Graph-based deep learning segmentation of EDS spectral images for automated mineral phase analysis | |
CN110927195A (zh) | 一种微量物相定量分析方法 | |
JP2011038939A (ja) | エネルギー分散型x線分析装置のスペクトルの分類方法及び装置 | |
Englisch et al. | 3d analysis of equally x-ray attenuating mineralogical phases utilizing a correlative tomographic workflow across multiple length scales | |
CZ2015651A3 (cs) | Metoda analýzy materiálů fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového záření a zpětně odražených elektronů a zařízení k jejímu provádění | |
Contreras et al. | A machine learning technique for drill core hyperspectral data analysis | |
Zeitvogel et al. | ScatterJn: an ImageJ plugin for scatterplot-matrix analysis and classification of spatially resolved analytical microscopy data | |
KR20190105363A (ko) | 마이크로웰 어레이를 이용한 dPCR 분석방법 및 분석장치 | |
Siepka et al. | Combining Raman microspectrometry and chemometrics for determining quantitative molecular composition and mixing state of atmospheric aerosol particles | |
Brodusch et al. | Phase differentiation based on x-ray energy spectrum correlation with an energy dispersive spectrometer (EDS) | |
Matsuyama et al. | Spectrum prediction in X-ray fluorescence analysis using Bayesian estimation | |
US20250216347A1 (en) | Nondestructive estimation of structural properties of a specimen via x-ray modelling based on simulations and ground truth measurements | |
US20250130185A1 (en) | Non-destructive three-dimensional probing and characterization of specimens | |
Tarolli et al. | Fully convolutional neural network for removing background in noisy images of uranium bearing particles | |
US20250231132A1 (en) | Nondestructive estimation of structural properties of a specimen via x-ray modelling based on ground truth measurements |