CS251080B2 - Method of nickel,chrome and gold layers' electrolytic removal and equipment for realization of this method - Google Patents
Method of nickel,chrome and gold layers' electrolytic removal and equipment for realization of this method Download PDFInfo
- Publication number
- CS251080B2 CS251080B2 CS837989A CS798983A CS251080B2 CS 251080 B2 CS251080 B2 CS 251080B2 CS 837989 A CS837989 A CS 837989A CS 798983 A CS798983 A CS 798983A CS 251080 B2 CS251080 B2 CS 251080B2
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- bath
- acid
- current
- volume concentration
- volume
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 22
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 22
- 239000010931 gold Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 18
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 15
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 12
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 8
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims description 6
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 2
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 abstract 1
- 239000001117 sulphuric acid Substances 0.000 abstract 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000011664 signaling Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F5/00—Electrolytic stripping of metallic layers or coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
Vynález se týká způsobu elektrolytického odstraňování galvanicky vytvořených niklových, chromových nebo· zlatých vrstev z podkladů sestávajících z médi nebo z jejich slitin a zařízení к provádění tohoto způsobu.
V průmyslu dochází při výrobě předmětů s niklovými, chromovými nebo zlatými povlaky často к tomu, že v důsledku neúplné galvanizace, špatného lesku nebo jiných nedostatků musí být vnější povlak odstraněn.
Galvanické odstraňování povlaků se provádí prostřednictvím elektrolytů rozpouštějících nikl, chrom nebo zlato. V průběhu elektrolýzy dochází v důsledku rozdílných tlouštěk vrstev· к tomu, že z některých částí povrchu je chromová, niklová nebo zlatá vrstva již odstraněna, zatímco z jiných částí nikoliv. Proto musí elektrolýza probíhat delší dobu. Až do jejího skončení přechází uvolněný základní kov do elektrolytického odpadu, povrch je leptán nepravidelně.
Po galvanickém odstranění povlaku přijdou výrobky s napadeným povrchem přibližně ve 30 až 40 % všech případů do odpadu, zbytek může být znovu použit po renovaci následným broušením a leštěním. Zmíněný způsob se mění podle oblasti použití a dosahované hladkosti ploch.
Úkol vynálezu spočívá v navržení způsobu, který by umožňoval elektrolytické odstranění galvanicky vytvořených chromových, niklových nebo zlatých povlaků bez sebemenšího poškození základního kovového povrchu.
Vynález je založen na poznatku, že elektrolytické rozpouštění musí probíhat za takových podmínek, které mají na kovový podklad nacházející se pod odstraňovanou vrstvou pasivující účinek. V případě dodržení těchto podmínek se kovové podklady, nacházející se pod již odstraněnými vrstvami, elektrolyticky nerozpouštějí, neboť jimi protéká velmi slabý proud, takže intenzita povrchové eroze je mnohem menší, než je tomu u dosud nerozpuštěných chromových, niklových nebo zlatých vrstev. Po úplném odstranění chromové, niklové nebo zlaté vrstvy se skokem zmenšuje hodnota proudu procházejícího elektrolytem, a to je signálem ukončení rozpouštěcího procesu.
Úkol byl vyřešen podle vynálezu způsobem elektrolytického odstraňování niklových, chromových a zlatých vrstev z povrchu základních kovů, sestávajících z mědi nebo jejích slitin, s použitím kyselých lázní rozpouštějících odstraňované kovové vrstvy, přičemž je kovový předmět zapojen jako anoda. Podstata způsobu podle vynálezu pak spočívá v tom, že se elektrolýza provádí v lázni obsahující kyselinu sírovou v objemové koncentraci od 20 do 60 % a kyselinu fosforečnou a/nebo Ci_4 organickou karboxylovou kyselinu v objemové koncentraci od 10 do 50 %, potenciál odstraňované vrstvy vzhledem к lázni je záporný a potenciál základního kovu je kladný, přičemž intenzita proudu se během elektrolýzy kontroluje a při prudkém poklesu intenzity proudu pod předem určenou a vůči počáteční hodnotě menší prahovou hodnotu se tok proudu přeruší.
Pro odstraňování niklových a chromových vrstev se používá lázně, obsahující kyselinu sírovou v objemové koncentraci od 20 do 40 % a kyselinu octovou v objemové koncentraci od 20 do 40 °/o, popřípadě kyselinu fosforečnou v objemové koncentraci od 30 do 60 %.
Jako organické kyseliny se výhodně použije kyseliny octové nebo oxalové.
Pro odstraňování zlaté vrstvy se použije lázně obsahující kyselinu sírovou v objemové koncentraci alespoň 40 %.
Výhodně se použije lázně sestávající z kyseliny sírové v objemové koncentraci od 20 do 60 % a z organické kyseliny v objemové koncentraci alespoň 15 %.
Dále byl úkol vyřešen zařízením podle vynálezu к provádění způsobu, kde toto zařízení sestává ze síťové jednotky, na jejíž výstup je připojen přerušovač proudu, přes nějž jsou se síťovou jednotkou spojeny dvě elektrody ponořené do lázně. Podstata zařízení podle vynálezu spočívá v tom, že do výstupní větve od síťové jednotky je vřazeno proudové čidlo, připojené na vstup signálu komparátoru, přičemž referenční vstup komparátoru je spojen s referenčním zdrojem napětí a výstup komparátoru s řídicím vstupem přerušovače proudu.
Výhodně je proudové čidlo tvořeno odporníkem a zdroj referenčního napětí stabilizátorem, sestávajícím z odporu, připojeného na výstup síťové jednotky, ze Zenerovy diody a potenciometrů.
К realizaci zmíněných podmínek dochází tehdy, když je potenciál odstraňované vrstvy (bez vlivu vnějších proudových zdrojů}, vzhledem к lázni negativní a potenciál základního kovu pozitivní. Je-li nyní během elektrolytickéhó procesu povlečený kovový předmět zapojen jako anoda, je povlak elektrolyticky rozpouštěn, zatímco kovový podklad je podstatně menší intenzitou proudu pasivován. Složení lázně musí odpovídat těmto potenciálovým podmínkám. Podle našich experimentálních výsledků mají požadované vlastnosti lázně, obsahující 20 až 60 procent obj. kyseliny sírové, 10 až 15 % obj. kyseliny fosforečné nebo organické kyseliny, které při elektrolýze základního kovu zaručují vytvoření bezporézní pasivační vrstvičky.
Často se pod galvanickými zlatými vrstvami nacházejí ještě vrstvy niklové. Je-li zapotřebí odstranit pouze zlatou vrstvu, přičemž niklová vrstva má být ponechána, musí být potenciál lázně takový, aby potenciál zlata vůči potenciálu lázně byl negativní a potenciál niklu vůči potenciálu lázně pozitivní. V tomto případě musí být koncentrace kyseliny sírové mezi 40 až 60 % obj.
Organické kyseliny použité vedle kyselí251080 ny sírové mohou být kyselina octová, oxalová, mléčná nebo maleinová. Není-li použita žádná kyselina fosforečná, musí koncentrace organické kyseliny činit nejméně 15 % objemových.
Po odstranění galvanické vrstvy přechází elektrolytický pochod v pasivaci, což je signalizováno náhlým poklesem hodnoty proudu. Během provádění způsobu podle vynálezu musí být tedy kontrolována intenzita proudu, a při náhlém poklesu je postup ukončen.
Zřetelný pokles hodnoty proudu lze využít i pro automatizaci procesu elektrolytického odstraňování vrstev. Zařízení ' vhodné k provádění způsobu obsahuje galvanickou stejnosměrnou síťovou jednotku, která je připojena na anodu a katodu ponořené v lázni, dále proudové čidlo, sledující velikost procházejícího proudu, přičemž podle vynálezu je proudové čidlo připojeno na vstup komparátoru, referenční vstup komparátoru je spojen se stabilizovaným zdrojem referenčního napětí, a jeho výstup je přímo nebo přes zesilovač připojen na přerušovač proudu vložený do proudového okruhu. Hladina překlopení komparátoru je volena tak, že při značném poklesu proudu procházejícího elektrolytem dochází ke stavové změně a jejím působením přeruší přerušovač proudový okruh.
Řešení podle vynálezu umožňuje odstranění chromových niklových ' nebo zlatých vrstev beze ztrát, spojených obvykle s tímto postupem, s menším vynaložením pracovních sil a s nepatrnou spotřebou energie.
Vynález je dále blíže vysvětlen pomocí příkladů provedení, a to s pomocí přiložených výkresů, na nichž značí:
obr. 1 diagram proudu a napětí charakteristický pro způsob podle vynálezu, kde t, to ti, t2 značí čas, I, Imin, Imax proud, U, Umiň, Umax napětí, a obr. 2 blokové schéma zařízení podle vynálezu, kde 1 je galvanická síťová jednotka, 2 přerušovač proudu, 3 lázeň, 4 anoda, 5 katoda, 6 odporník, 7 odpor, 8 Zenerova dioda, 9 potenciometr, 10 řídicí vstup, 11 komparátor, 12 vstup signálu a 13 referenční vstup.
Při provádění způsobu podle vynálezu je předmět opatřený chromovou, niklovou nebo zlatou vrstvou ponořen do' galvanické lázně. Lázeň obsahuje kyselinu sírovou, kyselinu octovou a kyselinu fosforečnou. Složení lázně s obsahem kyseliny fosforečné je následující:
Složení lázně pro odstranění zlaté vrstvy:
Kyselina sírová 600 ml
Kyselina fosforečná 400 ml Kyselina oxalová 10 g/1
Složení další lázně:
Kyselina sírová 50 °/o obj.
Kyselina fosforečná 15 % obj. Alkohol 10 % obj.
V-oda 25 °/o obj.
Jasnost povrchu pasivační vrstvy . ovlivňují různé přísady. Přídavek nejvýše 15 g/1 kyseliny oxalové zajišťuje homogenní a stejnoměrnou jasnost po odstranění zlaté vrstvy.
Vedle zde uvedených příkladů mohou být použity četné jiné lázně, v nichž je obsažena kyselina sírová v množství 20 až 60 % objemových a organická a/nebo fosforečná kyselina v množství 10 až 50 //o obj.
V lázni sestavené podle shora uvedených pravidel je hodnota proudu nastavena podle polarizační křivky anody základního kovu na její konstantní oblast. Povrch po' elektrolytickém odstranění niklových chromových nebo zlatých vrstev je lesklý. Tloušťka vrstvy není stejnoměrná, neboť galvanická vrstva je z některých částí plochy již odstraněna, zatímco na některých ještě zůstává. Povrch základního kovu zůstává během procesu v pasivním stavu a vznikající pasivační vrstva má izolační účinek. Neprotéká jí žádný proud.
Obr. 1 znázorňuje průběh proudu a napětí při elektrolýze. V počátečním časovém okamžiku má proud maximální hodnotu Imax, při napětí Ui. Stabilní stav trvá do okamžiku ti, kdy je galvanická vrstva z jednotlivých částí plochy odstraněna. V důsledku pasivity plochy základního kovu se neustále zmenšuje hodnota proudu, zatímco· napětí roste až na hodnotu Umax. V okamžiku t2 má proud minimální hodnotu Iml-n. V tomto okamžiku je již niklová, chromová nebo zlatá vrstva zcela odstraněna. Pro kvocient Imax/Imín je charakteristická hodnota kolem 100.
Na obr. 2 je znázorněno blokové schéma zařízení vhodného' k provádění způsobu podle vynálezu. Galvanická síťová jednotka 1 je přes přerušovač 2 proudu připojena na anodu 4 a katodu 5, které jsou ponořeny v lázni 3. Protékající proud je registrován na odporníku 6. Na výstup galvanické síťové jednotky 1 je připojen stabilizátor, tvořený odporem 7 a Zenerovou diodou 8, který je spojen s potenciometrem 9. Přerušovač 2 proudu je bezprostředně nebo' přes zesilovač spojen s řídicím vstupem 10 a výstupem komparátoru 11. Vstup 12 signálu komparátoru 11 je spojen s odporníkem 6, referenční vstup 13 s jezdcem potenciometru 9.
Kyselina fosforečná 30 až 60 % obj.
Kyselina sírová 40 až 20 % obj.
Kyselina octová 30 až 20 % obj.
Složení další výhodné lázně je následující:
Kyselina sírová 30 % obj.
Kyselina octová 40 % obj.
Voda 30 % obj.
Spodní konec potenclometru 9 tvoří nulový bod síťového napětí komparátoru 11. Během provozu uzavírá přerušovač 2 proudu proudový okruh v lázni. Když poklesne hodnota proudu na hodnotu Imin, potom poklesne napětí na vstupu 12 signálu komparátoru 11 pod referenční napětí, komparátor 11 se překlopí a řídí přerušovač 2 proudu, který přeruší proudový okruh v lázni 3. Elektrolytické odstraňování povlaku je v tomto okamžiku ukončeno-. Rozpojení přerušovače 2 proudu je s výhodou doprovázeno zvukovým nebo světelným signálem.
Claims (7)
1. Způsob elektrolytického odstraňování niklových, chromových a zlatých vrstev z povrchu základních kovů, sestávajících z mědi nebo jejích slitin, s použitím kyselých lázní rozpouštějících odstraňované kovové vrstvy, přičemž je kovový předmět zapojen jako anoda, vyznačující se tím, že se elektrolýza provádí v lázni obsahující kyselinu sírovou v objemové koncentraci od 20 do 60 % ,a kyselinu fosforečnou a/nebo Ci_4 organickou karboxylovou kyselinu v objemové koncentraci od 10 do 50 °/o, potenciál odstraňované vrstvy vzhledem к lázni je záporný a potenciál základního kovu je kladný, přičemž intenzita proudu se během elektrolýzy kontroluje a při prudkém poklesu intenzity proudu pod předem určenou a vůči počáteční hodnotě menší prahovou hodnotu se tok proudu přeruší.
2. Způsob podle bodu 1, pro odstraňování niklových a chromových vrstev, vyznačující se tím, že se použije lázně, obsahující kyselinu sírovou v objemové koncentraci od 20 do 40 % a kyselinu octovou v objemové koncentraci od 20 do 40 °/o, popřípadě kyselinu fosforečnou v objemové koncentraci od 30 do 60 °/o.
3. Způsob podle bodu 1, vyznačující se tím, vynalezu že se jako organické kyseliny použije kyseliny octové nebo oxalové.
4. Způsob podle bodů 1 a 3 pro odstraňování zlaté vrstvy, vyznačující se tím, že se použije lázně obsahující kyselinu sírovou v objemové koncentraci alespoň 40 %.
5. Způsob podle bodů 1 a 3, vyznačující se tím, že se používá lázně sestávající z kyseliny sírové v objemové koncentraci od 20 do 60 % a z organické kyseliny v objemové koncentraci alespoň 15 °/o.
6. Zařízení к provádění způsobu podle bodu 1, sestávající ze síťové jednotky, na jejíž výstup je připojen přerušovač proudu, přes nějž jsou se síťovou jednotkou spojeny dvě elektrody ponořené do lázně, vyznačené tím, že do výstupní větve od síťové jednotky (1) je vřazeno proudové čidlo, připojené na vstup signálu komparátoru (11), přičemž referenční vstup (13) komparátoru (11) je spojen s referenčním zdrojem napětí a výstup komparátoru (11) s řídicím vstupem (10) přerušovače proudu (2).
7. Zařízení podle bodu 6, vyznačené tím, že proudové čidlo je tvořeno odporníkem (6) a zdroj referenčního napětí stabilizátorem, sestávajícím z odporu (7), připojeného na výstup síťové jednotky (1), ze Zenerovy diody (8) a potenciometru (9).
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| HU823483A HU186150B (en) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | Process for the removal electrolitically of nickel, chrome ot gold layers from the surface of copper or cupric alloys and equipemnt for carrying out the process |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS251080B2 true CS251080B2 (en) | 1987-06-11 |
Family
ID=10964197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS837989A CS251080B2 (en) | 1982-10-29 | 1983-10-28 | Method of nickel,chrome and gold layers' electrolytic removal and equipment for realization of this method |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4539087A (cs) |
| JP (1) | JPS59166700A (cs) |
| AT (1) | AT381329B (cs) |
| CH (1) | CH657385A5 (cs) |
| CS (1) | CS251080B2 (cs) |
| DD (1) | DD218399A5 (cs) |
| DE (1) | DE3338175A1 (cs) |
| DK (1) | DK495983A (cs) |
| FI (1) | FI833892A7 (cs) |
| FR (1) | FR2535349A1 (cs) |
| GB (1) | GB2129443B (cs) |
| HU (1) | HU186150B (cs) |
| IT (1) | IT1169647B (cs) |
| NL (1) | NL8303736A (cs) |
| NO (1) | NO833930L (cs) |
| SE (1) | SE8305928L (cs) |
| YU (1) | YU215883A (cs) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4678552A (en) * | 1986-04-22 | 1987-07-07 | Pennwalt Corporation | Selective electrolytic stripping of metal coatings from base metal substrates |
| GB2204593A (en) * | 1987-05-12 | 1988-11-16 | Metal Box Plc | Removing cobalt layers |
| JPH02190930A (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-26 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | ソフトウエア命令実行装置 |
| GB9700819D0 (en) * | 1997-01-16 | 1997-03-05 | Gkn Westland Helicopters Ltd | Method of and apparatus for removing a metallic component from attachmet to a helicopter blade |
| TW567545B (en) * | 2002-06-04 | 2003-12-21 | Merck Kanto Advanced Chemical | Electropolishing electrolytic solution formulation |
| RU2227181C1 (ru) * | 2003-03-03 | 2004-04-20 | Уфимский государственный авиационный технический университет | Способ определения момента окончания процесса электролитно-плазменного удаления покрытия |
| EP1473387A1 (de) * | 2003-05-02 | 2004-11-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Entschichtung eines Bauteils |
| DE102004002763A1 (de) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Mtu Aero Engines Gmbh | Verfahren zum elektrochemischen Entschichten von Bauteilen |
| ATE389739T1 (de) * | 2004-06-30 | 2008-04-15 | Siemens Ag | Verfahren und vorrichtung zur oberflächenbehandlung eines bauteils |
| JP5412184B2 (ja) * | 2009-06-10 | 2014-02-12 | 三菱伸銅株式会社 | ニッケルめっきが施された銅又は銅合金屑のリサイクル方法 |
| JP5518421B2 (ja) * | 2009-10-13 | 2014-06-11 | 三菱伸銅株式会社 | ニッケルめっきが施された銅又は銅合金屑のリサイクル方法 |
| CN103088399B (zh) * | 2011-10-31 | 2016-01-06 | 通用电气公司 | 多步骤电化学去金属涂层方法 |
| CN102978683A (zh) * | 2013-01-02 | 2013-03-20 | 陈立晓 | 自行车零件的铜镍铬电镀层的退镀方法 |
| CN104419975A (zh) * | 2013-09-05 | 2015-03-18 | 通用电气公司 | 控制电化学剥离过程的系统和方法 |
| US10514242B1 (en) | 2015-10-14 | 2019-12-24 | The University Of Massachusetts | Method and apparatus for electrochemical ammunition disposal and material recovery |
| CN108396369A (zh) * | 2018-03-15 | 2018-08-14 | 厦门建霖健康家居股份有限公司 | 一种合金基材电镀镀层退镀免抛光退镀液及退镀方法 |
| RU2743195C1 (ru) * | 2019-09-05 | 2021-02-16 | Акционерное общество "Иркутский научно-исследовательский институт благородных и редких металлов и алмазов" АО "Иргиредмет" | Способ обеззолачивания и регенерации катодов |
| JP2023107623A (ja) * | 2022-01-24 | 2023-08-03 | 株式会社大和化成研究所 | 金の電解剥離液及び金の剥離方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1926228C3 (de) * | 1969-05-22 | 1974-02-21 | Bergische Metallwarenfabrik Dillenberg & Co Kg, 5601 Gruiten | Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallüberzügen aus Nickel oder Chrom von Grundkörpern aus Buntmetall |
| DE1938976A1 (de) * | 1969-07-31 | 1971-02-18 | Bosch Gmbh Robert | Elektrische Anlage,mit deren Hilfe von einem Werkstueck Metall elektrolytisch abtragbar ist |
| DE2131078A1 (de) * | 1971-06-23 | 1972-12-28 | Dillenberg Bergische Metall | Bad zum elektrolytischen Abloesen von UEberzuegen aus Silber,Chrom oder Nickeloxyd von Grundkoerpern aus Kupfer,Kupferlegierung,Zinnlegierung,rostfreiem Stahl oder Superlegierungen |
| US3793172A (en) * | 1972-09-01 | 1974-02-19 | Western Electric Co | Processes and baths for electro-stripping plated metal deposits from articles |
| US3826724A (en) * | 1972-09-11 | 1974-07-30 | O Riggs | Method of removing a metal contaminant |
| GB1434199A (en) * | 1972-10-19 | 1976-05-05 | Wilkinson Sword Ltd | Selective electrolytic dissolution of predetermined metals |
| US3886055A (en) * | 1973-12-12 | 1975-05-27 | Texas Instruments Inc | Electrolytic separation of metals |
| US3900375A (en) * | 1973-12-13 | 1975-08-19 | Texas Instruments Inc | Electrolytic separation of metals |
| DE2536690A1 (de) * | 1975-08-18 | 1977-03-03 | Siemens Ag | Bad und verfahren zum elektrolytischen abloesen von stromlos abgeschiedenen nickelueberzuegen von buntmetallen und buntmetallegierungen |
| US4264419A (en) * | 1979-10-09 | 1981-04-28 | Olin Corporation | Electrochemical detinning of copper base alloys |
-
1982
- 1982-10-29 HU HU823483A patent/HU186150B/hu unknown
-
1983
- 1983-10-20 DE DE19833338175 patent/DE3338175A1/de active Granted
- 1983-10-20 CH CH5699/83A patent/CH657385A5/de not_active IP Right Cessation
- 1983-10-24 AT AT0376783A patent/AT381329B/de not_active IP Right Cessation
- 1983-10-24 GB GB08328367A patent/GB2129443B/en not_active Expired
- 1983-10-25 FI FI833892A patent/FI833892A7/fi not_active Application Discontinuation
- 1983-10-27 FR FR8317147A patent/FR2535349A1/fr not_active Withdrawn
- 1983-10-28 NL NL8303736A patent/NL8303736A/nl not_active Application Discontinuation
- 1983-10-28 CS CS837989A patent/CS251080B2/cs unknown
- 1983-10-28 JP JP58202495A patent/JPS59166700A/ja active Pending
- 1983-10-28 YU YU02158/83A patent/YU215883A/xx unknown
- 1983-10-28 NO NO833930A patent/NO833930L/no unknown
- 1983-10-28 IT IT23534/83A patent/IT1169647B/it active
- 1983-10-28 DK DK495983A patent/DK495983A/da not_active Application Discontinuation
- 1983-10-28 SE SE8305928A patent/SE8305928L/ not_active Application Discontinuation
- 1983-10-31 DD DD83256134A patent/DD218399A5/de not_active IP Right Cessation
-
1984
- 1984-11-05 US US06/668,678 patent/US4539087A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| HU186150B (en) | 1985-06-28 |
| DD218399A5 (de) | 1985-02-06 |
| CH657385A5 (de) | 1986-08-29 |
| SE8305928L (sv) | 1984-04-30 |
| AT381329B (de) | 1986-09-25 |
| IT1169647B (it) | 1987-06-03 |
| GB2129443B (en) | 1986-04-23 |
| DK495983A (da) | 1984-04-30 |
| NL8303736A (nl) | 1984-05-16 |
| SE8305928D0 (sv) | 1983-10-28 |
| DK495983D0 (da) | 1983-10-28 |
| FI833892A0 (fi) | 1983-10-25 |
| NO833930L (no) | 1984-04-30 |
| FR2535349A1 (fr) | 1984-05-04 |
| US4539087A (en) | 1985-09-03 |
| FI833892A7 (fi) | 1984-04-30 |
| GB2129443A (en) | 1984-05-16 |
| GB8328367D0 (en) | 1983-11-23 |
| DE3338175C2 (cs) | 1989-04-27 |
| ATA376783A (de) | 1986-02-15 |
| DE3338175A1 (de) | 1984-05-03 |
| IT8323534A0 (it) | 1983-10-28 |
| JPS59166700A (ja) | 1984-09-20 |
| YU215883A (en) | 1986-04-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CS251080B2 (en) | Method of nickel,chrome and gold layers' electrolytic removal and equipment for realization of this method | |
| EP0242583B1 (en) | Selective electrolytic stripping of metal coatings from base metal substrates | |
| JPS59137853A (ja) | 銅電気めつき浴中の有機添加剤の濃度を決定するための方法 | |
| US2596307A (en) | Process of electrostripping electrodeposited metals | |
| US3989606A (en) | Metal plating on aluminum | |
| NZ258702A (en) | Phosphating compositions, method for providing phosphate conversion coating on metal substrate, and use in the fabrication of printed circuits utilising organic resins | |
| US3518168A (en) | Electrolytic process of preparing a copper foil for a plastic coat | |
| CA1229320A (en) | Method for cathodic protection of aluminum material | |
| US3826724A (en) | Method of removing a metal contaminant | |
| US7033466B2 (en) | Electrochemical stripping using single loop control | |
| US3282821A (en) | Apparatus for making precision resistors | |
| JPS58164800A (ja) | 電解はくり方法 | |
| JPS60181300A (ja) | 酸性鋼浴かやの鋼被覆層の電着を自動制御する方法 | |
| US2330170A (en) | Electrolytic polishing of metal | |
| US2408220A (en) | Stripping of copper from zinc | |
| US3647654A (en) | Beryllium-copper electropolishing solution | |
| US4810337A (en) | Method of treating a chromium electroplating bath which contains an alkyl sulfonic acid to prevent heavy lead dioxide scale build-up on lead or lead alloy anodes used therein | |
| JPH0463286A (ja) | めっき方法および装置 | |
| SU775196A1 (ru) | Система контрол средней толщины гальванических покрытий на детал х | |
| SU1299719A1 (ru) | Способ электрохимической обработки металлических покрытий на диэлектриках | |
| SU1060017A1 (ru) | Способ определени коррозионной стойкости изделий из вентильных металлов | |
| JPH04131398A (ja) | めっき装置 | |
| Eaves et al. | Galvanic corrosion of aluminum in metal stacks | |
| TW202426711A (zh) | 銅箔表面的平滑化方法及所製得的銅箔 | |
| SU1619004A1 (ru) | Способ восстановлени металлопокрыти при измерении толщины |