CS249050B1 - Uzávěr epitaxního reaktoru - Google Patents

Uzávěr epitaxního reaktoru Download PDF

Info

Publication number
CS249050B1
CS249050B1 CS755685A CS755685A CS249050B1 CS 249050 B1 CS249050 B1 CS 249050B1 CS 755685 A CS755685 A CS 755685A CS 755685 A CS755685 A CS 755685A CS 249050 B1 CS249050 B1 CS 249050B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
graphite
flange
sliding bearing
pyrometer
distribution system
Prior art date
Application number
CS755685A
Other languages
English (en)
Inventor
Jiri Slezak
Zdenek Vesely
Josef Mikyska
Original Assignee
Jiri Slezak
Zdenek Vesely
Josef Mikyska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiri Slezak, Zdenek Vesely, Josef Mikyska filed Critical Jiri Slezak
Priority to CS755685A priority Critical patent/CS249050B1/cs
Priority to SU867774273A priority patent/SU1663061A1/ru
Priority to PL26187186A priority patent/PL147427B2/xx
Publication of CS249050B1 publication Critical patent/CS249050B1/cs

Links

Landscapes

  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Uzávěr epitaxníhé reaktoru pro nanášení monokrystalických vrstev polovodičových materiálů na monokrystalické podložky sestává z kruhové kapalinou chlazené příruby (1) se zrcadlem (11), rotujícího závěsu (2) grafitu (12), krytu (10) pyrometru, ozubeného převodu, rozvodného systému plynu a z hřídelových těsnění (8). Závěs (2) grafitu (12) je pevně spojen s hnaným ozubeným kolem (3), otočně volně uloženým v kluzných ložiscích (6, 7) s otvory pro průchod plynu. Rozvodny systém plynu tvoří zejména prstence (16), ■kanálky (1?) a výstupní otvory (18). Břit dolního kluzného ložiska. (7) odděluje prostor hřídelových těsnění (8) od prostoru reaktoru.

Description

VESELÍ ZDENĚK, MIKYŠKA J0SEE, PRAHA
Uzávěr epitaxního reaktoru
Uzávěr epitaxníhé reaktoru pro nanášení monokrystalických vrstev polovodičových materiálů na monokrystalické podložky sestává z kruhové kapalinou chlazené příruby (1) se zrcadlem (11), rotujícího závěsu (2) grafitu (12), krytu (10) pyrometru, ozubeného převodu, rozvodného systému plynu a z hřídelových těsnění (8). Závěs (2) grafitu (12) je pevně spojen s hnaným ozubeným kolem (3), otočně volně uloženým v kluzných ložiscích (6,
7) s otvory pro průchod plynu. Rozvodny systém plynu tvoří zejména prstence (16), kanálky (1?) a výstupní otvory (18).
Břit dolního kluzného ložiska. (7) odděluje prostor hřídelových těsnění (8) od prostoru reaktoru.
249 050
249 050
Vynález se týká uzávěru epitaxního reaktoru pro nanášení monokrystal!ckýoh vrstev polovodičových materiálů na monokrystale cké podložky, u něhož rotační pohyb závěsu grafitu je vyřešen pomocí ozubeného převodu a k odstínění čelní plochy uzávěru je využito zrcadlo o
V dosud známých uzávěrech epitaxních reaktorů jsou k těsnění rotujících částí použita speciální těsnění z vysoce chemicky a tepelně odolného materiálu CALREX. Ten je však mnohonásobně dražší než běžná těsnění a obtížně dostupný. Čelní plocha uzávěrů je většinou odstíněna štítem z křemenného skla, jehož tvarové a odrazové možnosti jsou však omezené.
Popsané nevýhody odstraňuje uzávěr epitaxního reaktoru podle vynálezu. Sestává z kruhové kapalinou chlazené příruby se zrcadlem, rotujícího zavěšeného grafitu, krytu pyrometru, ozubeného převodu, rozvodného systému plynu a z hřídelových těsnění. Kryt pyrometru je soustředně uložen v trubkovém závěsu grafitu a společně jsou vedeny otvorem ve středu kapalinou chlazené příruby. Ta je opatřena zrcadlem. Uvnitř je vybavena rozvodným systémem plynu. Je tvořen prstencem, z něhož jsou vyvedeny paprskovitě ve směru k obvodu příruby kanálky s výstupními otvory do prostoru nad zrcadlo a ve směru osy příruby kanálky ke hřídelovým těsněním. Příruba je pevně spojena s hlavicí. V hlavici je otočně uloženo hnané ozubené kolo, spojené ozubeným převodem s hnacím ozubeným kolem na hřídeli motorku. V horní části hlavice je upevněn kryt pyrometru. Hnané ozubené kolo je uloženo volně, pouze v horním kluzném ložisku a dolním kluzném ložisku. Je pevně spojeno se závěsem grafitu a je těsněno hřídelovým těsněním. Dolní kluzné ložisko je opatřeno těsnícím břitem.
249 OSO
Rozvodný systém plynu je vyřešen tak, aby část čistého plynu přicházela do prostoru hřídelových těsnění a odtud středem závěsu grafitu do reaktoru. Hřídelová těsnění tedy nepřicházejí do styku s agresivními látkami, použitými při epitaxním procesu, a jsou stále ochlazována proudícím plynem. Druhá část plynu je přiváděna nad zrcadlo a tak je prostor mezi zrcadlem a přírubou dokonale vyplachován čistým plynem. Použité zrcadlo jednak tepelně stíní přírubu, jednak přihřívá nejvíce ochlazovanou horní část grafitu zpětným zářením. Toto konstrukční řešení umožňuje použít k těsnění rotujícího závěsu grafitu levných a dostupných běžných hřídelových těsnění a současně zabraňuje reakčním zplodinám usazovat se nad zrcadlem. Tyto zplodiny bývají totiž častým zdrojem kontaminace křemíkových desek.
Připojený výkres znázorňuje v nárysném řezu příklad konkrétního provedení uzávěru vertikálního epitaxního reaktoru podle vynálezu.
Základ uzávěru epitaxního reaktoru tvoří příruba J z korozivzdorné oceli, opatřená vstupem 13 a výstupem 14 chladicí kapaliny. V zářezech na obvodu příruby J je upevněno zrcadlo 11. Otvorem ve středu příruby J prochází trubkový závěs 2 grafitu 12. který je pevně spojen s volně uloženým hnaným ozubeným kolem 2· Hnané ozubené kolo 3 je pomocí ozubeného převodu poháněno hnacím ozubeným kolem 4, upevněným na hřídeli převodového motorku 5.. Je uloženo v horním kluzném ložisku '6 a v dolním kluzném ložisku 7, v jejichž tělesech jsou provedeny otvory pro průchod vodíku. Spodní okraj dolního kluzného ložiska 2 je opatřen těsnícím břitem obepínajícím trubkový závěs 2 grafitu 12, oddělujícím prostor hřídelových těsnění 8 od prostoru reaktoru. Těsnění 8 těsní rotující části na vnějších nábojích hnaného ozubeného kola Horní kluzné ložisko 6 je upevněno v hlavici 2, která je pevně spojena s přírubou _1· V horní části hlavice J je upevněn kryt 10 pyrometru, soustředně uložený v trubkovém závěsu 2 grafitu 12.
Příruba J je uvnitř vybavena rozvodným systémem vodíku s přívodem 15» Tento systém dále tvoří rozvodný prstenec 16 ve střední části příruby J, z něhož se část vodíku paprskovitě ve směru k obvodu příruby _1 uspořádanými rozvodnými kanálky s kolmými výstupními otvory 18 přivádí nad zrcadlo 11. Část vodíku z prstence 16 se přivádí ve směru osy příruby _1 uspořádaný- 3 249 050 mi kanálky 17 a otvory v dolním kluzném ložisku 7 ke hřídelovým těsněním 8, která jsou tak neustále proplachována čistým vodíkem. Z tohoto prostoru je vodík veden dále otvory v horním kluzném ložisku 6 do středu trubkového závěsu 2 grafitu 12 a tudy do reaktoru.

Claims (1)

  1. PŘEDMĚT VYNÁLEZU
    Uzávěr epitaxního reaktoru, sestávající z kruhové kapalinou chlazené příruby se zrcadlem, rotujícího zavěšeného grafitu, krytu pyrometru, ozubeného převodu, rozvodného systému plynu a z hřídelových těsnění, vyznačený tím, že soustředně uložené kryt (10) pyrometru uvnitř a trubkový závěs (2) grafitu (12) vně jsou vedeny otvorem ve středu kapalinou chlazené a zrcadlem (11) opatřené příruby (1), která je uvnitř vybavena rozvodným systémem plynu ve tvaru prstence (16), z něhož jsou vyvedeny paprskovitě ve směru k obvodu příruby (1) kanálky (17) s výstupními otvory (18) do prostoru nad zrcadlo (11) a ve směru osy příruby (1) kanálky (17) ke hřídelovým těsněním (8), a je pevně spojena s hlavicí (9), v níž je otočně volně v horním kluzném ložisku (6) a dolním kluzném ložisku (7) uloženo hnané ozubené kolo (3) spojené ozubeným převodem s hnacím ozubeným kolem (4) na hřídeli motorku (5) a v jejíž horní Části je upevněn kryt (10) pyrometru, přičemž hnané ozubené kolo (3) pevně spojené se závěsem (2) grafitu (12) je těsněno hřídelovým těsněním (8) a jeho dolní kluzné ložisko (7) je opatřeno těsnícím břitem.
CS755685A 1985-10-22 1985-10-22 Uzávěr epitaxního reaktoru CS249050B1 (cs)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS755685A CS249050B1 (cs) 1985-10-22 1985-10-22 Uzávěr epitaxního reaktoru
SU867774273A SU1663061A1 (ru) 1985-10-22 1986-09-17 Затвор реактора дл газовой эпитаксии
PL26187186A PL147427B2 (en) 1985-10-22 1986-10-15 Closure arrangement for an epitaxy reactor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS755685A CS249050B1 (cs) 1985-10-22 1985-10-22 Uzávěr epitaxního reaktoru

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS249050B1 true CS249050B1 (cs) 1987-03-12

Family

ID=5424942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS755685A CS249050B1 (cs) 1985-10-22 1985-10-22 Uzávěr epitaxního reaktoru

Country Status (3)

Country Link
CS (1) CS249050B1 (cs)
PL (1) PL147427B2 (cs)
SU (1) SU1663061A1 (cs)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5887344B2 (ja) 2010-07-28 2016-03-16 モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク 高温及び高圧で材料を処理する装置

Also Published As

Publication number Publication date
PL261871A2 (en) 1987-10-19
PL147427B2 (en) 1989-06-30
SU1663061A1 (ru) 1991-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5493987A (en) Chemical vapor deposition reactor and method
US4592307A (en) Vapor phase deposition apparatus
KR100722592B1 (ko) 화학 기상 증착 반응기
EP0270991A2 (en) Apparatus for forming thin film
JPS62270776A (ja) 光化学蒸着の装置および方法
JP2002064078A (ja) ディスク状対象物を処理するための装置
KR20010070976A (ko) 반도체 제조장치 및 그 제조방법
EP1681714A1 (en) Vertical heat treatment device
US6406543B1 (en) Infra-red transparent thermal reactor cover member
CS249050B1 (cs) Uzávěr epitaxního reaktoru
EP0757013B1 (en) Apparatus for purifying metal
US4632060A (en) Barrel type of epitaxial vapor phase growing apparatus
US20140261158A1 (en) Furnance employing components for use with graphite hot zone
JPH0214316B2 (cs)
US4275282A (en) Centering support for a rotatable wafer support susceptor
JPS62235729A (ja) 気相エピタキシヤル成長装置
JP4094785B2 (ja) 金属の精製装置
JPH06168904A (ja) 縦型反応炉
CN221071724U (zh) Cvd反应装置
KR102884553B1 (ko) 기상 성장 장치
JP2001107153A5 (cs)
CN111575783B (zh) 单晶硅提拉装置
JPS6197192A (ja) 気相成長装置
JPS6215816A (ja) 赤外線加熱装置
JPH03120367A (ja) Cvd反応炉の覆い蓋