CS240510B1 - Sposob čistenia etylénu a žariadenie na jeho uskutočňovanie - Google Patents

Description

240510

Vynález rieši spůsob a zariadenie na čis-tenie etylénu, získaného desorpciou z ace-tonu v procese vydelovania etylénu z pyro-lýznych plynov pomocou absorpcie v aceto-ne, obsahujúceho aceton ako hlavnú nežia-dúcu látku, vypieraním.

Etylén, vyrábaný vysokoteplotnou pyro-lýzou benzínu s bodom varu 30 až 130 °C a//alebo ropných frakcií s bodom varu 130až 450 °C a/alebo benzínu s bodom varu30 až 130 °C s prídavkom propán-butáno-vých zmesí a/alebo> s prídavkom zmesl C4frakcie, sa získává z mnohozložkovej plyn-né] zmesí buď parciálnou nízkoteplotnoukondenzáciou a rektifikáciou po predchá-dzajúcom oddělení acetylénu a oxidu uhli-čitého absorpciou v acetone alebo sa zís-kává v nadvazujúcej absorpčno-desorpčnejsústave s použitím ďalšieho acetonu ako ab-sorpčného činidla. V obidvoch prípadoch, ale najmá pri zís-kávání etylénu v nadvazujúcej absorpčno--desorpčne] sústave, etylén obsahuje okremmetánu a etánu ako nežiadúcich látok ajaceton, ktorého obsah třeba znížiť na mini-málnu mieru, jednak z hradiska požiadaviekna čistotu etylénu při jeho ďalšom spraco-vaní a jednak z hladiska požiadavky hospo-dárnosti na minimalizáciu strát acetonu, po-užívaného na absorpciu.

Pri výrobě etylénu nízkoteplotnou parciál-no*u kondenzáciou a rektifikáciou acetonprechádza sústavou kondenzátorov a tepel-ných výmenníkov spolu s etylénom vo for-mě nekondenzujúcej hmly, takže týmto spň-sobom získaný etylén obsahuje značnémnožstvo acetonu aj napriek predchádza-júcemu hlbokému ochladeniu. Priemernýobsah acetonu v etyléne je 300 ppm a privyššom zatažení výrobného zariadenia sajeho obsah zvyšuje až na hodnotu blízku0,1 % mol., čó je hodnota nepřijatelná prevýrobu kvalitného vinylchloridu. Obsah ace-tonu v etyléne, získavanom pomocou ab-sorpcie v ďalšom acetone spůsobmi, popí-sanými v čs. autorskom osvedčenie č. 211 020alebo v čs. autorskom osvedčenie č. 232 632,závisí hlavně od teploty a tlaku etylénu podesorpcii z acetonu. Táto teplota sa obvyk-le pohybuje v rozmedzí 256 až 240 K pritlaku okolo 0,8 MPa. '

Obsah acetónu rovnako, ako v pred-chádzajúcom nízkoteplotnom vydělovaní e-tylénu, převyšuje aj pri tomto spósobe teo-retické množstvo', vypočítané zo stavovýchpodmienok a príslušnej tenzie pár acetonua obvykle je vyšší ako 0,5 '% mól.

Etylén vyrobený uvedenými spůsobmi, sapoužívá najma na výrobu vinylchloridu cez 1,2-dichlóretán. Z hradiska tohto použitiavyplývajú aj přísné požiadavky na čo> naj-nižší obsah acetónu v etyléne, nakolko prisyntéze 1,2-dichlóretánu chloráciou etylé-nu, obsahujúceho aceton a připadne vodu,sa vytvárajú látky, jednak nežiadúce presyntézu 1,2-dichlóretánu a jednak látky,zdravotně závadné a nebezpečné.

Okrem toho vznikajú chlórované zlúčeni-ny acetónu, ktoré potom prechádzajú až domonoméru vinylchloridu. Ich obsah už vstopových množstvách sťažuje suspenznúpolymerizáciu vinylchloridu, najmá výrobunáročných mikroporéznych typov suspenz-ného' polyvinylchloridu. To sú stručné uve-dené hlavně dóvody, pre ktoré sa kladiepřísná požiadavka na zníženie obsahu ace-tónu vo· vyrábanom etyléne.

Pri doterajších spůsoboch odstraňovaniaacetónu z etylénu sa využívá buď ochlade-nie a stlačenie etylénu s následujúcou ad-sorpciou na různých adsorbentoch aleboabsorpcia vo vhoďnom rozpúšťadle.

Kompresiou a nasledujúcim ochladenímmože sa odstrániť prevládajúca časť acetó-nu, ale pri požiadavke hlbokého odstráne-nie acetónu z etylénu je tento poměrně běž-ný a technicky íahko dostupný postup má-lo účinný a súčasne vel'mi nákladný, naj-ma v důsledku vyfeokej spotřeby energie nakompresiu a chladenie.

Vypieranie zostatkov acetónu z roznychplynných prúdov, medzi inými i z prúdovetylénu, vodou alebo vodnými roztokmi a-cetónu je popísané v čs. autorskom osved-čeniu č. 219 179. Tento spůsob je účinný ahospodárný, ale nemůže sa použil na čis-tenie etylénu, určeného na výrobu 1,2-di-chlčretánu, lebo etylén, odvádzaný na chlo-ráciu musí byť suchý kvůli zamedzeniu ko-rózie výrobnej aparatúry. Etylén pre tentoúčel nesmie obsahovat viac ako 10 ppmvody.

Adsorpčné spůsoby čistenia etylénu, napr.aluminou, silikagelom alebo aj aktívnymuhlím a podobnými sorbentami, sú účinné ádokážu odstrániť aceton, vodu i ďalšie ne-žiadúce látky na požadovánu mieru. Ichprevádzka však bývá poměrně komplikova-ná a nákladná. Najvačším nedostatkem ad-sorpčných spůsobov čistenia etylénu jemožnosť akumulácie sírnych a dusíkatýchzlúčenín na použitých sorbentoch až do kri-tického množstva z hladiska nebezpečia vý-buchu. Výhodou je, že adsorpčné spůsobyčistenia etylénu umožňujú redukovat obsahnečistůt na mieru, vyhovujúcu i najnároč-nejším požiadavkám na čistotu etylénu. Ob-vykle je však potřebné, aby obsah nečistůtvo vstupnom etyléne do adsorpcie bol čonajnižší, aby sa dosiahla primeraná život-nost poměrně drahých adsorbentov.

Podlá tohto vynálezu sa spůsob čisteniaetylénu desorpciou z acetónu v procese vy-delovania etylénu z pyrolýznych plynov pO'-mocou absorpcie v acetone, obsahujúcehoaceton ako hlavnú nežiadúcu látku, vypie-raním, uskutečňuje tak, že z acetónu desor-bovaný etylén sa privádza do· prechodovejčasti integrovanej absorpčno-desorpčnej sú-stavy, kde sa v absorpčnej časti sústavyvypiera 1,2-dichlóretánom pri tlaku 0,2 až0,9 MPa a pri teplote 245 až 300 K a v ďe-sorpčnej časti sústavy pracujúcej pri tep- 240510 lote 270 až 323 K sa desorbuje etylén a po-užitý 1,2-dichlóretán spolu s vypranými ne-čistotami, hlavně acetónom sa vedie dorektifikačnej sústavy, v ktorej sa získáváregenerovaný acetón pomocou dvojstupňo-vé j kondenzácie a vyvařením acetonu a o-statných vypraných nečistit zbavený 1,2--dichlóretán sa recykluje. . Zariadenie na čistenie etylénu pódia vy-nálezu pozostáva z absorpčno-desorpčnej arektifikačnej aparatúry a pomocných za-riadení, příčeni přívodně potrubie etylénu jezapojené do absorpčnej kolony, spojenej pro-stredníctvom absorpčno-desorpčného stup-ňa s desorpčným tepelným výmenníkom,ktorý je nástrekovým potrubím spojený srektifikačnou kolonou, opatřenou jednakparciálnym kondenzátcrom a totálnym kon-denzátorom a jednak varákom, spojenýmpotrubím vyvařeného dichlóretánu s de-sorpčným tepelným výmenníkom napojenýmspojovacím potrubím na zásobník, opatřenýprívodným potrubím čerstvého dichlóretá-nu a sacím potrubím připojeným do čer-padla, ktoré je spojené prostredníctvcm prí-vodného potrubia dichlóretánu s absorpč-nou kolónou, opatřenou v hornéj časti po-trubím čistého etylénu.

Pri postupe pódia tohto vynálezu sa zís-kává etylén prakticky úplné zbavený ace-tonu s redukovaným obsahom metánu a e-tánu v závislosti od teplotných a tlakovýchpodmienok v absorpčno-desorpčnej súsín-ve. Ukázalo' sa, že neobvyklým riešením te-pelného výmenníka a jeho· konštrukčnéhospojenia s absorpčnou kolonou sa vytvoriapriaznivé podmienky pre optimálně riade-nie procesu podlá vopred zadaného krité-ria optimality, zohfadňujúceho jednak po-žiadavku na minimalízáciu strát etylénu ajednak po<žiadavku na zníženie obsahu me-tánu a etánu v čistom etyléne. Ďalšie vý-hody nového spůsobu možno pripísať spo-jeniu spomenutého efektívneho ahsorpčno--desorpčného' systému s regeneračnou rek-tifikačnou kolonou a taktiež neobvyklémuriešeniu získavania regenerovaného acetó-nu pomocou dvojstupňovej kondenzácie vpareiůlnom kondenzátore, chladenom chla-diacou vodou a v totálnom kondenzátore,chladenom odpařováním kvapalného pro-pylénu. Týmto sposobom sa dosiahne nielenvyššia hospodárnost prevádzky, ale aj vy-soká výťažnosť regenerácie acetonu, ob-siahnutého v etyléne, určenom na čistenie. Přitom z hiadiska hospodárnosti prevádz-ky absorpčno-desorpčnej sústavy je doleži-té, že příslušný efekt sa dosahuje využitímentalpie vyvařeného 1,2-dichlóretánu, kto-rý sa potom prakticky může bez ďalšej ú-pravy, po doplnění čerstvým 1,2-dichlóre-tánom, znovu použil ako účinné absorpčněčinidlo.

Dalším důležitým prvkom vyvinutého spů-sobu čistenia etylénu je, že pri ňom prak-ticky nevznikajú straty absorpčného činidla 1,2-dichlóretánu — keď neuvažujeme běž- né manipulačně straty — sa jedná o lát-ku, vznikajúcu ako produkt pri následnejchlorácii etylénu. Pravda, má to aj nevýhoduv tom, že tento-spůsób čistenia etylénu jevýlučné vyvinutý pře specifické požiadav-ky čistenia etylénu, určeného na syntézu. 1,2-dichlóretánu. Pri postupe podlá tohtovynálezu sa aceton odstraňuje z etylénu svysokou účinnosťou aj napriek tomu, že sajedná o relativné nízké vstupné koncentrá-cie. Pozitívnym prvkom nového sposobu je.aj velmi nízké zaťaženie absorpčnej kolo-ny kvapalným 1,2-dichlóretánom, čo umož-ňuje podstatné znížiř náklady na zariadenieregeneračnej časti aparatury. Čistenie etylénu absorpciou v dichlóretá-ne a účinná regensrácia acetonu sa dosa-hujú na zariadení, znázorněném na prilo-ženom obrázku.

Do čiastiaceho zariadenia sa privádza e-tylén, odoberaný z desorpčnej kclóny v pre-vádzkovom súbore vydefovania etylénu zpyrolýznych plynov absorpciou v acetone(na priloženej schéma nezakreslenéj, ob-sahujúci ccetón ako hlavní’ nečistotu z h?a-diska ďalšieho použitia etylénu na syntézu 1,2-dichlóretánu. Obsah acetonu je obvyk-le okolo 0,7 až 0,9 % obj. a nemal by pře-sahovat hodnotu 4,0 % ohj. Etylén uvede-nej proveniencle ďalsj obsahuje pri&amp;merne0,8 % obj. metánu, 0,9 % obj. etánu a 0,05pere. obj. oxidu uhelnatého. Etylén sa pri-vádza prívodným potrubím 1 do spodněj čas-ti absorpčnej veže 2, vybavenej eíážami si-tovej konštrukcie. Můžu sa však použit iiné typy etáží s podobnou účinnosťou. Ace-ton sa z etylénu vypiera prakticky úplnéprotiprúdne stekajúcim 1,2-dichJóretánom,privádzaným doi hornej časti kolony prívod-ným potrubím 4 dichlóretánu. Ďalšie příměsi, ako metán a etán sa vy-pierajú čiastočne v závislosti od teplotnýcha tlakových podmienok v absorpčnej kole-ne 2 a v desorpčnom výmenníku 8. Vyčiš-těný etylén sa odvádza potrubím 3 čistého;etylénu. Spodná část absorpčnej kolony jespoijená prostredníctvom absorpčno-desorpč*ného stupňa 5 kolony s desorpčným vý-menníkom B, v ktorom sa 1,2-dichlóretán svypraným acetónom, metánom a etánomzohrieva regenerovaným 1,2-dichlóretánomprivádzaným z varáka 24 potrubím vyva-řeného dichlóretánu 2.5 a odvádzaným spo-jovacím potrubím 26 do zásobníka 28.

Funkcia absorpčno-desorpčného stupňa 5kolony spočívá v stabilizácii priméranýchteplotných a lým aj koncentračných proíi-lov desorpčnej a absorpčnej časti systémupódia zadaných požiadaviek ha čistotu ety-lénu a hospodárnost procesu. Po konštruk-čnej stránke sa jedná o zariadenie válco-vého tvaru s etážami, umožňujúcimi inten-zívny styk kvapaliny ,a desorbovaných ply-nov.

Desorpčný výmenník 6 je spojený pomo-cou nástrekového potrubia 7 s rektifikač- 24 OS 10 nou kolóno-u 8, z ktorej odchádzajú páryco?.·!!·! ako< prchavejšej zložky spolu s de-sorbovanými plynrni potrubím 0 do parciál-y.ip ko .dsnzátora 10, opatřeného potrubímcil oiacej vody, odvodným potrubím 14purne fázy 14 a potrubím 11 kondenzátu,kterým sa z parciálneho kondenzátora od-

• ádz skondenzovsný aceton při kondenzač-rej teplote okolo 303 K. Parciálny konden-záior 10 slúži jednak na vytvorenie potřeb-né' o refluxného toku, privádzaného do rek-tifikačnej kolony refluxným potrubím 12λ jednak na kondenzáciu odpovedajúcehopodielu pár acetonu pri teplote 309 K, o-teber é' o potrubím kvapalného acetonuA P rciálny kondenzátor 18 je spojený od-nodným, potrubím 14 parnej fázy s totálnymkondenzátorom 18, opatřeným prívodnýmpotrubím 18 kvapalného propylénu, potru-’ ím 1€! plynného propylénu, odplyňovscímpotrubím 17 a odvodným potrubím 20 kon-denzátu. Totálny kondenzátor slúži napraktickú úplnú kondenzáciu pár acetonu,v dosledku čoho sa dosahuje větrní vysokávýažnoeť regenerácie acetonu. Regenero-vaný acetón, pozostávajúci z kondenzátu zparciálneho kondenzátora a kondenzátu zto'álneho kondenzátora, sa odvádza na ďal-šie použitis potrubím 21 regenerovanéhoacetonu. Spodná časí rektifikačnej kolony8 je priamoi spojená s varákom 24, opatře-ným parným potrubím 22, potrubím parné-ho kondenzátů 23 a potrubím 25 vyvařené-ho dichljretánu, spájajúcim vařák 24 s de-sorpčným tepelným výmenníkom 8 a pro-stredníctvom spojovacieho potrubia 28 sozásobníkom 28. Zásobník 28 Je opatřený prí-vodným potrubím 27 čerstvého dichlóretá-nu a je spojený sacím potrubím 29 s čer-psdlom 30, napojeným prostredníctvom prí-vodného potrubia 1 etylénu na absorpčnúkolonu 2. Takto je vytvořený uzavretý cyk-lus vypierania acetonu-a regenerácie takvypraného aceťnu, ako aj 1,2-dichlóretá-nu.

Schéma zariadenia na priloženom obráz-ku obsahuje základné zariadenia a ich pre-pojenie potřebné na vytvorenie uzavretéhosvstému. Nie sú na nej znázorněné pomoc-né zariadenia, meracie a indikačně přístro-je, ako aj armatury, áko sú například regu-lačně alebO' uzatváracie ventily, lebo nie súcharakteristické pře vyvinuté zariadenie asú závislé od roznych technicko-ekonomic-kých podmienok a od výkonu výrobnéhoz'.rit do: ia cp6soh zarňdenie podl'a tohto vynále-ze umožňuj j prakticky úplné odstráneniepár učetónu z etylénu, odoberaného z de-snrpčnej kolony v procese vydelovania ety-:'r>·· z pyrolýznych plynov pomocou ab-nwnci·- v "cot ne. Súčasne umožňujú jed-noduchý spůsob regenerácie oddesleného a-u^tónu o čistotě vyhovujúcej pre jeho opá-: ·. é použitie v procese vydelovania ety-lénu absorpciou v acetone. . Výhodou tohto nového' sposobu, uskuteč-ňovaného na popísanom zariadení je, žepri vypieraní 1,2-dichlóretánom sa neza-vádza do čistého etylénu žiadna cudzia lát-ka z hladiska nadvazujúcej chlorácie ety-lénu na 1,2-dichlóretán, pričom okrem ace-tonu sa vypierajú aj dalšie látky, napr. me-tán, etan a aj zbytky oxidu uhelnatého, čímsa ešte viac zvyšuje čistota etylénu. Důle-žité je, že pri tomto novom sposobe nehro-zí nebezpečenstvo preniknutia acetonu voferme hmly, ako je to běžné u systémov sochladením na hlboké teploty, ani nebez-pečensívo akumulácie nebezpečných pyro-forických látek, čo tento nový proces čis-tonia etylénu velmi zvýhodňuje oproti ostat-ným, doteraz používaným. Ďalej uvedené příklady ilustrujú, ale ne-vymedzujú sposob použitia. Přikladl

Etylén, pcchádzajúci z desorpčného stup-ňa procesu izolácie etylénu z pyrolýznychplynov absorpciou v acetone, sa čistí ďalejpopísaným spdsobom na zariadení schema-ticky znázornenom na priloženom obráz-ku.

Etylén, určený na čisteaie, sa podlá fotí-te sposobu najprv privádza prívodným po-trubím 1 etylénu do absorpčnej kolóny 2,v kíorej sa acetón a čiasíočne aj ďalšie ne-žisdáce látky, ako napr. CPL·, a C2HG, vy-pierajú malým množstvom protiprúdne ste-ksjúceho 1,2-dichlóretánu, privádzaného doabsorpčnej kolóny prívodným potrubím 4dichlóretánu. Vyčištěný etylén odchádza zabsorpčnej kolony potrubím 3 čistého ety-lénu, napojeným na hlavu absorpčnej ko-lóny 2.

Etylén, určený na čistene, má nasledujú-ce priemerné zloženie: 97.75 % obj. CiH4,0,95 0/o obj. CII4, 0,69 % obj. C2H6, 0,61 %obj. acetón a stopy oxidu uholnatého. Tep-lot.· privádzaného etylénu je 253 K. Tlakv miesíe přívodu etylénu do' absorpčnej ko-lony je 0,8 MPa. Celkové množstvo privádza-nej plynnej zmesi hora uvedeného zloženiaje 115,5 kmol. h~ *.

Prevládajúca část acetonu a časť metá-nu a otánu sa vypierajú protiprúdne steka-júcim dichlóretánom, privádzaným na hla-vu absorpčnej kolóny 2 o teplote 293 K vmnožstvo 3,9 kmol.h"·1. Vyčištěný etylénodchádza pri tlaku 0,77 MPa a pri teplote256,4 K. Kvapalný dichlóretán, odchádzajú-ci zo spodku absorpčnej kolony 2 prechádzaabsorpčno-desorpčným stupňom kolóny 5'do desorpčného výmenníka fi, v ktorom saoteplí z teploty 259 K na teplotu 313 K 1,2--dichlóretánom, odchádzajúcim z varáka 24rektifikačnej kolóny 8. Toto spojenie de-sorpčného' tepelného výmenníka 8 a ab-sorpčnej kolóny 2 prostredníctvom ab-sorpčno-desorpčného stupňa kolóny 5 vy-tvára priaznivé předpoklady pre nastave- 240510 10 9 nie teplotného profilu, vhodného' buď preúčinné vypieranie zbytkov metánu a a] e-tánu z čistého etylénu, alebo v opačnompřípade, vhodného z hťadiska minimalizá-cie strát etylénu, rozpuštěného v dichlóre-táne pri stékaní absorpčnou kolonou. Kva-palná zmes 1,2-dichlóretánu s rozpustnýmacetónom a s n&amp;desorbovanými plynmi sapotom privádza nástrekovým potrubím 7do rektifíkačnej kolony 3, určenej na rege-neráciu 1,2-dichlóretánu a acetonu. Hlavarektifíkačnej kolony 0 je spojená potrubím 9 s parciálnym kondenzátorom 10, opatře-ným prívodným a cdvódným potrubím 13chladíš eeí vody, potrubím 11 kondenzátu aodvodným potrubím 14 parnej fázy, kterýmsa odvádzajú nokondenzujúce plyny s ob-sahem acetonu na totálnu kondenzacím

Kondenzácia v parciálnom kondenzátoreprebieha pri atmosférickém tlaku a teplo-tě 303 K. Převážná časť pri týchto podmien-ksch skondenzovaného acetonu sa vraciaspa< do rektifíkačnej kol-óny refluxným po-trubím 12 a mehšia časť sa odvádza ako re-generát potrubím 15 kvapalného acetónu.Použitý reflutný poměr je 5 : 1.

Regenerovaný aceton, skondenzovaný vparciálnom kondenzátore obsahuje 99 %m-ól. acetonu a přišineme 0,97 % mól. ety-lénu. Množstvo odoberaného regenerované-ho acetonu je 0,514 kmol.h-1. Neskonden-zovaný aceton v parciálnom kondenzátore 10 a nekondezujúce plyny, ako sú etylén apřipadne metán a etán, odchádzajú z par-ciálneho kondenzátora vodovodným potru-bím 14 parnej fázy do totálneho konden-zátora 16, opatřeného prívodným potrubím18 kvapalného propylénu a potrubím 19plynného propylénu. V totálncm kondenzá-tore vykondenzuje prakticky všetok aceton,ktorý ešte obsahovala plynná zmes, od-chádzajúca z parciálneho kondenzátora.

Teplota kondenzácie je 248 K. Propylén,použitý na chladenie, sa odpařuje pri tep-lotě 236 K Vzniklý kondenzát acetonu od-chádza z totálneho kondenzátora odvod-ným potrubím 20 kondenzátu a po spojení sregenerátora, odvádzaným z parciálnej kon-denzácie potrubím 15 kvapalného acetonu,sa všetok týmto sposobom získaný aceton od-vádza potrubím 21 regenerovaného- aceto-nu na ďalšie použitie v procese vydeTo-va-nia etylénu z pyrolýznych plynov pomocouabsorpcie v acetone. Kondenzát z totálneho-kondenzátora v celko-vom množstve 0,171kmol.h-1 obsahuje 97,0 % mól. acetonu a2,92 % mól. ro-zpusteného etylénu. Spojeníms prúdo-m regenerátu z parciálneho kon-denzátora sa. získává po přepočítaní na čis-tý aceton 0,65 kmol.h-1 čistého- acetonu,čo představuje výše 95 %-nú výřažnosť re-generácie. Straty acetonu cdplynom činiavelmi zanedbatelné množstvo 0,02 kmol.. h-1. .

Manipulačně straty sú cca 0,01 kmo-1.. ti-1. Odplyn z totálneho kondenzátora ob-sahuje priemerne 96,7 % mól. etylénu a asi 1,5 % mól. acetónu. Zbytek sú metán a e-tán. Vyšší obsah acetonu Oproti teoretickýmpředpoklado-m pri daných stavových pod-mienkach · (teplota 248 K, atmosferickýtlak) je zře jme spósobený ohsahom aceto-nu vo formě hmly, která sa v kondenzáto-re bežnej konštrukcie nedá o-ddeliť. Z varáka 24 rektifíkačnej kolony 8 sakontinuálně odoberá ho-rúci 1,2-dichlóretán,prakticky úplné zbavený acetónu. Vařák 24je opatřený parným potrubím 22, potrubímparného kondenzátu a potrubím 23 vyvaře-ného dichlóretánu, kterým sa odvádza ho-rúci 1,2-dichlíretán do desorpčného výmen-níka fi. Teplo-ta vyvařeného 1,2-dichlóretá-nu je 353 K. Obsah acetónu vo- vyvarenom. 1,2-dichlóretáne je menší ak 0,01 % mól. Vtepelnom výmenníku c-chladený 1,2-dichlór-etán sa odvádza spojovacím potrubím 26do zásobníka 28, do kterého sa pódia potře-by načerpá čerstvý 1,2-dichlóretán cez pří-vodně potrubie čerstvého dichlóretánu 27.Nako-niec sa 1,2-dichlóretán čerpá čerpad-lem 30, spojeným sacím potrubím 29 so zá-sobníková 28 a dávkuje sa prívodným po-trubím dichl-óretánu spař do absorpčnej ko-lony 2. Po-písané zarladenie je o-patrené po-třebnými aparaturami a regulačnými prí-stro-jml na reguláciu tlaku, prietoku a hla-diny, které nie sú v schéme zakreslené, alesú bezpodmienečne potřebné pre stabilnýchoď prevádzky. Týmto sposobom na popí-sanom zariadení sa získává etylén praktic-ky úplné zbavený acetónu a čiastočne zba-v.ený aj zostatkov metánu a etánu z pred-chádzájúcich výrobných operách. Priemer-né zloženie čistého etylénu je nasedujúce:93,65 % mól C2H4, 0,15 % mól. dlchlóre-tán, 0,008 % mól. aceton, 0,65 % mól. CH4a 0,53 % mól. etán.

Obsah metánu a etánu je závislý najmaod ich obsahu vo vstupnom etyléne, urče-no-m na čistenie. Přitom pri používaní ety-lénu na výrobu vinylchloridu cez 1,2-di-chlóretán sa 1,2-dichlóretán v etyléne ne-považuje za nečistotu, takže skutečná čisto-ta etylénu je ešte vyššia ako 98,65 % obj.Příklad 2

Na čistenie etylénu je použitý rovnakýpostup ako v příklade 1. Ro-zdiel spočíváv tom, že abserpčno-desorpčný stupeň kolo-ny 5 a desorpčný výmenník sú vyřaděnéz prevádzky, takže teplota .1,2-dichlóretánu,odchádzsjúceho z absorpčnej ko-lúny 2 je259 K. Ostatně teplotně a tlakové podmien-ky sú rovnaké ako v příklade 1 a rovnakéje aj prleto-kové zafaženie aparatúry. V dó-sledku toho, abso-rpcia i regenerácia ace-tónu majú stabilný chod, neodlišujúci sa odchodu prevádzky na zariadení, popísanom vpříklade 1. Výsledko-m tejto úpravy zaria-denia je vyššie množstvo etylénu, odchádza-jLiceho- odplyňo-vacím potrubím 17 z totál-neho kondenzátora 16 chladeného odparo-

Claims (2)

240510 11 12 váním propylenu pri teplote okolo 236 K.Množstvo etylénu v odplyne v tomto pří-pade činí 0,7 kmol.h''1. To značí, že stra-ty etylénu odplynom sú vyššie o 0,42 kmol.. h_1 oproti stratám v příklade 1 (0,28 kmol.. h-1). A] straty acetónu sú vyššie ako vpříklade 1 (0,013 kmol. h_1 oproti 0,005 kmol.hr1). Na druhé] straně sa zlepšilačistota etylénu, odchádzajúceho z absorpč-ně] kolony 2 potrubím 3 čistého etylénu dovýrobně 1,2-dtchlóretánu. Celkové množstvometánu a etánu sa pri týchto podmienkachznížilo v priemere o 30 % oproti příkladu1. PREDMET

1. Spósob čistenia etylénu, získaného^ de-sorpciou z acetónu v procese vydelovaniaetylénu z pyrolýznych plynov pomocou ab-sorpcie v acetone, obsahujúceho aceton akohlavnú nežiadúcu látku, ’ vypieraním, vyzna-čujúci sa tým, že z acetónu desorbovaný e-tylén sa privádza do přechodové] časti in-tegrované] absorpčno-desorpčnej sústavy,kde sa v absorpčně] časti sústavy vypiera 1,2-dichlóretánom pri tlaku 0,2 až 0,9 MPaa pri teplote 245 až 300 K a v desorpčnejčasti sústavy pracujúcej pri teplote 270 až323 K sa desorbuje etylén a použitý 1,2--dichlóretán spolu s vypranými nečistota-mi, hlavně acetónom sa vedie do rektifi-kačnej sústavy, v ktorej sa získává regene-rovaný aceton pomocou dvojstupňové] kon-denzácie a vyvařením acetónu a ostatnýchvypraných nečistot zbavený 1,2-dichlóretánsa recykluje.

2. Zariadenie na uskutočňovanie spóso-bu podlá bodu 1, pozostávajúce z absorpč- VYNALEZU no-desorpčnej a rektifikačnej aparatúry apomocných zariadení, vyznačujúce sa tým,že přívodně potrubie (1) etylénu je zapo-jené do absorpčně] kolóny (2), spojenejprostredníctvom absorpčno-desorpčnéhostupňa (5) s desorpčným tepelným výmen-níkom (6), ktorý je nástrekovým potrubím(7) spojený s rektifikačnou kolonou (8), o-patrenou jednak parciálnym kondenzáto-rom (10) a totálnym kondenzátorom (16)a jednak varákom (24), spojeným potru-bím (25) vyvařeného dichlóretánu s de-sorpčným tepelným výmenníkom (6), napo-jeným spojovacím potrubí (26) na zásob-ník (28), opatřený pří vodným potrubím (27)čerstvého dichlóretánu a sacím potrubím(29), připojeným na čerpadlo (30), ktoréje prostredníctvom prívodného potrubia (4)dichlóretánu spojené s absorpčnou kolónou(2), opatřenou v hornéj časti potrubím (3)čistého etylénu. 1 list výkresov