CS217006B1 - Galvanic gilding bath - Google Patents

Galvanic gilding bath Download PDF

Info

Publication number
CS217006B1
CS217006B1 CS537480A CS537480A CS217006B1 CS 217006 B1 CS217006 B1 CS 217006B1 CS 537480 A CS537480 A CS 537480A CS 537480 A CS537480 A CS 537480A CS 217006 B1 CS217006 B1 CS 217006B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
bath
coating
gold
composition
salts
Prior art date
Application number
CS537480A
Other languages
English (en)
Inventor
Ivan Zehle
Original Assignee
Ivan Zehle
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ivan Zehle filed Critical Ivan Zehle
Priority to CS537480A priority Critical patent/CS217006B1/cs
Priority to FR8112666A priority patent/FR2487862A1/fr
Priority to DD23176381A priority patent/DD207467A3/de
Priority to YU169581A priority patent/YU169581A/xx
Priority to DE19813127589 priority patent/DE3127589A1/de
Publication of CS217006B1 publication Critical patent/CS217006B1/cs

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/62Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of gold

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Securing Of Glass Panes Or The Like (AREA)

Description

Vynná.ez se týká galvanické zlaticí lázně pro vytváření zlatého povlaku s příměsí obecných kovů zvláště vhodné pro hromadné zlacení drobných dílců pro elektroniku· Složení povlaku je možno řídit pomocí pH lázně ve značně Širokých· mezích od prakticky čistého povlaku až po hodnoty přesahující 50 % hmo. obecného kovu' ' v povlaku při jinak stejném složení lázně. Se zvyS^ící se hodnotou pH vzrůstá· obseh obecného kovu v povlaku·
Složení sliiioových povlaků je dáno celou řadou faktorů. Otby^e u používaných lázní má největší vliv na složení povlaku obsah obecného kovu v lázni a proudová hustota· Z praktických důvodů je značně obtížné řídit složení povlaku proudovou hustotou, zvláště při hromadném pok<^'^<^’v4^j^:í v bubnu, kde proudová hustota značně kolísá. Z tohoto důvodu také obvykle nejsou běžně používané lázně posk^^lcí slitinové povlaky vhodné pro hromadné pokovován. Konnentra.ce jedno tlivých složek lázně, jako je koncentrace zlata, obecných kovů a kojappeerotvorných látek není obvylkLe možno měnit v širším rozsahu.
Uvedené nedostatky odstraňuje galvanická zlatící lázeň podle vynálezu, jejíž podstatou je, že obsahuje 0,1 až 30 g/1 zlata ,ve farmě rozpustné sri.1, 1 až 50 g/1 kovu ze skupiny zinek, nikl, kobalt ve formě rozpustné soli, který se elektrolyticky vylučuje spolu se zlatém, 10 až 500 g/1- derivátu kyseliny octvoé podle obecného vzorce
C1
Ro--- C ---COOH nebo jeho soli, kde R^, Rg a R^ je vodík, chlor, brom nebo NH>> 10 až 500 g/1 směsi slabé kyseliny a její soli.
Podle výhodného provedení vynálezu směs slabékyseliny a jejích solí je kyselina citrónová a její sole. Směs slabé kyseliny a jejíchsolí může být tvořena deriváty octové podle vzorce
COOH
a jejich solemi.
, Složení vytvářeného slitnoového povlaku podle vynálezu je dáno především hodnotou pH, která se v silně tilmeniím prostředí snadno udržuje. Vliv proudové hustoty na složení povlaku je při tom relativně malý, lázeň je tudíž vhodná pro hromadné zlacení v bubnu. Složení povlaku je'také ovlivňováno složením lázně,tato závislost je věak při vhodně voleném složení lázně ve srovnání s vivvem pH malá. Změnou pH je proto možno
217 006 při .jinak stejném složení lázně získat povlak od prakticky čistého zlata až po povlak obsahující více než 50 % hmot, obecného kovu· Úpravou složení lázně je možno získat i povlaky s ještě vyšší koncentrací obecného kovu. Dále uváděné příklady však byly sestaveny s ohledem na praktické použití povlaku, které je s ohledem na zachování dobré korozní odolnosti povlaku omezeno na maximální obsah obecného kovu 30 až 40 % hmot., dle zamýšleného použití.
Vlastnosti lázně jsou ukázány na následujících příkladech:
Přikladl:
Byla připravena lázeň o složení:
Kyanozlatan draselný 12g
Kyselina citrónová 25g
Kyselina trichloroctová 15g
Síran nikelnatý, krystalický 10g
Voda do 1 000 ml pH této lázně bylo postupně upravováno hydroxidem draselným na hodnoty 4,0; 5,3; 6,7;
7,5; 8,7; 9,4. Při proudové hustotě 0,5 A/dm měl povlak vylučovaný ž této lázně složení:
pH lázně 4,0 5,3 6,7 7,5 8,7 9,4
% Ni hmot, v povlaku 0 2,8 12,7 17,2 31,6 40,5
Příklad 2:
Vliv koncentrace obecného kovu v lázni na složení povlaku byl zkoumán v lázni o složení:
Kyanozlatan draselný 12g
Kyselina citrónová 10g lýrofosforečnan sodný terciální 15g
Kyselina trichloroctová 15g
Voda do 1 000 ml pH = 6,5
Obsah niklu byl měněn přídavkem síranu ni ke lnatého krystalického od 4 do 17 g/1, vzniklý povlak měl při proudové hustotě 0,5 A/dm2 a 50 °C složení:
g/1 Ni v lázni 4 8 12 17
% Ni hmot, v povlaku 4 3,6 8 9,8 10,5
2ΊΊ 006
Příklad 3:
Vliv hustoty na složení povlaku byl zkoumán na lázni o složení:
Kyanozlatan draselný 12
Kyselina citrónová 25
Kyselina aminooctová 20
Síran zinečnatý krystalický 20
Voďa do 1 000
pH lázně bylo hydroxidem draselným upraveno na hodnotu 8,5, teplota lázně byla 50 °C. Vzniklý povlak měl složení:
1 (A/dm2) 0,3 0,5 0,7 1,0 l,2
% Zn hmot· v povlaku 37 35 32 30 28
Uvedené příklady dokumentují, že největáí vliv na složení povlaku má hodnota pH lázně, vliv koncentrace obecného kovu Je relativně malý. Složení povlaku je také relativně málo závislé na proudové hustotě, lázeň je proto vhodná pro hromadné pokovování v bubnu.

Claims (3)

  1. ϊ· Galvanická zlatící lázeň, zejména pro hromadné zlacení elektrických kontaktů vytvářejících povlak zlata 8 příměsí obecných kovů, vyznačená tím, že obsahuje 0,1 až 30 g/1 zlata ve formě rozpustné soli, 1 až 50 g/1 kovu ze skupiny zinek, nikl, kobalt ve formě rozpustné soli, který se elektrolyticky vylučuje spolu se zlatém, 10 až 500 g/1 derivátu kyseliny octové podle obecného vzorce ř
    R?----C----COOH nebo jeho soli, kde R^, R^ a R^ je vodík, chlor, brom nebo NH2, 10 až 500 g/1 směsi slabé kyseliny a její soli.
  2. 2. Galvanická zlatící lázeň podle bodu 1, vyznačená tím, že směs slabé kyseliny a jejích solí je kyselina citrónová a její sole.
  3. 3· Galvanická zlatící lázeň podle bodu 1, vyznačená tím, že směs slabé kyseliny a jejích solí je tvořena deriváty kyseliny octové podle vzorce
CS537480A 1980-08-01 1980-08-01 Galvanic gilding bath CS217006B1 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS537480A CS217006B1 (en) 1980-08-01 1980-08-01 Galvanic gilding bath
FR8112666A FR2487862A1 (fr) 1980-08-01 1981-06-26 Bain de dorure galvanoplastique
DD23176381A DD207467A3 (de) 1980-08-01 1981-07-08 Galvanisches vergoldungsbad
YU169581A YU169581A (en) 1980-08-01 1981-07-09 Gold-plating process
DE19813127589 DE3127589A1 (de) 1980-08-01 1981-07-13 Galvanisches vergoldungsbad

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS537480A CS217006B1 (en) 1980-08-01 1980-08-01 Galvanic gilding bath

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS217006B1 true CS217006B1 (en) 1982-12-31

Family

ID=5398525

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS537480A CS217006B1 (en) 1980-08-01 1980-08-01 Galvanic gilding bath

Country Status (5)

Country Link
CS (1) CS217006B1 (cs)
DD (1) DD207467A3 (cs)
DE (1) DE3127589A1 (cs)
FR (1) FR2487862A1 (cs)
YU (1) YU169581A (cs)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1111897B (de) * 1957-08-13 1961-07-27 Sel Rex Corp Bad zum galvanischen Abscheiden glaenzender Goldlegierungsueberzuege
JPS4911978A (cs) * 1972-05-10 1974-02-01
US3864222A (en) * 1973-03-26 1975-02-04 Technic Baths for Electrodeposition of Gold and Gold Alloys and Method Therefore
US4076598A (en) * 1976-11-17 1978-02-28 Amp Incorporated Method, electrolyte and additive for electroplating a cobalt brightened gold alloy

Also Published As

Publication number Publication date
YU169581A (en) 1983-10-31
FR2487862A1 (fr) 1982-02-05
DE3127589A1 (de) 1982-03-25
DD207467A3 (de) 1984-02-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3677909A (en) Palladium-nickel alloy plating bath
US4428802A (en) Palladium-nickel alloy electroplating and solutions therefor
US5601696A (en) Silver plating baths and silver plating method using the same
KR100883131B1 (ko) 구리-주석 합금 도금용 피로인산욕
EP0611840B1 (en) Cyanide-free plating solutions for monovalent metals
DE69808497T2 (de) Cyanidfreie, monovalente kupferelektrobeschichtungslösung
US5552031A (en) Palladium alloy plating compositions
US3940319A (en) Electrodeposition of bright tin-nickel alloy
JP2001295092A (ja) 銅−スズ合金めっき用ピロリン酸浴
CN101838830A (zh) 一种电镀钯镍合金的电解液
JP3674887B2 (ja) 銅−スズ合金メッキ用ピロリン酸浴
US3380898A (en) Electrolyte and method for electrodepositing a pink gold alloy
JPH049875B2 (cs)
JPH06104914B2 (ja) 地色ないし光沢のある銅・スズ合金被膜を電着させるためのアルカリ性シアン化物浴
US4617096A (en) Bath and process for the electrolytic deposition of gold-indium alloys
JPS609116B2 (ja) パラジウム及びパラジウム合金の電着方法
US4048023A (en) Electrodeposition of gold-palladium alloys
CS217006B1 (en) Galvanic gilding bath
CA1176204A (en) Bath for the electrolytic deposition of a palladium- nickel alloy
HK74389A (en) Bath for the galvanic deposition of gold alloys
GB2151661A (en) Deposition of gold-copper-zinc alloys
CA1045577A (en) Electrodeposition of bright tin-nickel alloy
JPS6053118B2 (ja) 電着されるパラジウム−ニツケル合金の耐食性を高める方法
JPH09256187A (ja) 半光沢銀めっき用の光沢度調整剤
GB2094348A (en) Electrolytic deposition of palladium nickel alloy