CS216159B2 - Radiation sensible plate - Google Patents

Radiation sensible plate Download PDF

Info

Publication number
CS216159B2
CS216159B2 CS764250A CS425076A CS216159B2 CS 216159 B2 CS216159 B2 CS 216159B2 CS 764250 A CS764250 A CS 764250A CS 425076 A CS425076 A CS 425076A CS 216159 B2 CS216159 B2 CS 216159B2
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
acid
radiation
ammonium salt
salt
quaternary ammonium
Prior art date
Application number
CS764250A
Other languages
English (en)
Inventor
John M Kitteridge
Robert J Armstrong
Original Assignee
Vickers Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vickers Ltd filed Critical Vickers Ltd
Publication of CS216159B2 publication Critical patent/CS216159B2/cs

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
    • G03C5/58—Processes for obtaining metallic images by vapour deposition or physical development

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Description

Vynález se týká radiačně sensibilní desky.
Britský patent č. 1 310 812 popisuje radiačnů sensibilní desku, obsahující radiačně sensibilní vrstvu kompozice na bázi kvartérních amoniových solí. Jako· podložku obsahuje popsaná deska laminátový materiál (na který se kompozice nanáší namočením nebo poléváním), papír, jiný listový materiál nebo· sklo. Tato· deska může být •obecně použita jako- záznamový materiál s výjimkou jejího použití jako litografické desky, což je její podstatnou nevýhodou.
Výše uvedené nedostatky nemá radiačně sensibilní deska podle vynálezu, sestávající z podložky a radiačně sensibilní vrstvy, obsahující ia) kvartérní amoniovou sůl, s výhodou kvartérní amoniovou sůl obecného vzorce
ve kterém Ri až R1(J znamenají vodík, halogen nebo organický zbytek, Rii a R12 znamenají případně halogen nebo organický zbytek, z znamená 0· nebo· celé kladné číslo,
X ' ' znamená anion, n znamená 1 nebo 2 a nejméně jeden z dusíkových atomů je kvarte-rnizován, zejména kvartérní amoniovou sůl vzorců
b) polymerní pojivo, jakým je například polyvinylalkohol, póly (amoniummethakrylát), želatina, alginát, kopolymer anhydridu kyseliny maleiinové, polysacharid nebo polyvinylpyrrxliidon, přičemž je s výhodou hmotnostní poměr amoniové soli k pojivu roven 1: 200 až 10 : 1, a popřípadě c) spektrální sensibilizátor jako riboflavin, 7-chlor-9- (N-тпе tliy ldie thy 1 a-minoe thy 1) isoalloxaziinchloritl, 3,6-dimethyl-2- (4-dimethylaminofenyl jbenzlhiazoiiumchlorid, 3,3‘-diethylthiakyanidjodid, proflavin, akridinovou oranž, aktiflavin, N-methylfenaziniummethyl sulfát, 4-kyanochmoiimummethojodid nebo erythrošin, d) povrchově aktivní činidlo· nebo· e) akcelerátor vyvíjení, jakým je například chlorid amonný nebo kysličník křemičitý nebo činidlo vázající komplexně železité ionty, jakým je například dvojsodná sůl kyseliny ethylendiaminotetraoctové nebo dvojamonná sůl kyseliny citrónové, přičemž kvartérní amoniová sůl je schopná přijmout nejméně jeden elektron při expozici zářením za vzniku sloučeniny schopné vázat kov z roztoku, obsahujícího sůl tohoto· kovu a redukční činidlo, při styku s tímto roztokem, jejíž podstata spočívá v tom, že jako podložku obsahuje hliníkovou podložku.
Radiačně sensibilní deska podle vynálezu s výhodou obsahuje zdrsněnou a anodicky upravenou hliníkovou podložku.
Radiačně sensibilní deska podle vynálezu s výhodou obsahuje hliníkovou podložku, zdrsněnou kyselinou dusičnou a upravenou anodicky v prostředí kyseliny sírové.
Radiačně sensibilní deska podle vynálezu s výhodou obsahuje hliiníko-vou podložku zdrsněnou ve směsi kyseliny chlorovodíkové a kyseliny octové nebo ve směsi kysliny dusičné a kyseliny octové.
Radiačně sensibilní deska podle vynálezu s výhodou obsahuje v radiačně sensibilní vrstvě chemický sensibilizátor, jakým je například případně substituovaný derivát kyseliny mono- nebo diarylglykcdové nebo 1
-aryl-l-alkylglykolové nebo· odpovídající sůl nebo ether, jako je kyselina mandlová, kyselina benzylová, amonná sůl kyseliny mandlové, kyselina alfa-methoxyfenyloctová, kyselina p-chlormandlová, kyselina p-brommandlová nebo kyselina alfa-naftylglykolová.
Výhodou radiačně sensibilní desky podle vynálezu je, že může být použita také jako litografická tisková deska. Tato- deska se vyznačuje vysokou rozlišovací schopností a ostrostí kresby; desky se hodí к litografie kému potiskování, přičemž jsou odolné vůči nejobtížnějším podmínkám, kterým jsou litografická tiskové desky vystaveny.
Kvartérní amoniovou solí může být sůl, popsaná v britském patentovém spise číslo 1310 812 a mající následující obecný vzorec
nX ve kterém R1 až R10 znamenají vodík, halogen nebo organický zbytek, R11 a R12 případně znamenají halogen nebo organický zbytek, z znamená 0 nebo celé kladné číslo, X” znamená anio-n, n znamená 1 nebo 2 a alespoň jeden z dusíkových atomů je kvarternizován.
Kvartérní amoniovou solí je s výhodou bikvartérní cyklická amoniová sůl, ze které vznikají adicí jednoho elektronu Weitzovy radikály. Tyto so-li mají charakter dikationtů, obsahují v molekule dusíkové atomy, nejméně jeden ze dvou dusíkových atomů je kvarte-rnizován, oba dusíkové atomy jsou součástí cyklických struktur, které jsou spolu spojeny, jsou alespoň částečně aromatické a spojení mezi oběma cyklickými strukturami tvoří řetězec konjugovaných nenasycených vazeb.
Zvláště výhodnými bikvartérními amoniovými solemi pro radiačně sensibilní desky podle vynálezu jsou bipyridyliové soli vzorců 1 až 3:
S výhodou je kvartérní amoniová sůl před vystavením účinku záření bezbarvá nebo jen slabě zbarvená a látka, jež vzniká ozářením, je zbarvená, takže ozářením vzniká dobře viditelný zbarvený obraz. Tak například N,N-di-(p-kyanof enyl)-4,4‘-bipyridyliový kation, který vzniká adicí jednoho· elektronu na N!,N-di- (p-kyanofenyl ] -4,4‘-bipyridyliový dikation, je zelený a odpovídající neutrální molekula, vzniklá adicí dvou elektronů na N,N-dt-(p-kyanofenyl)-4,4‘-bipyridyliiový dikation, je červená.
Kvartérní 'amoniová sůl může obsahovat jediný kation nebo může tvořit část složitější molekuly, jakou je například dimerní kationtová sloučenina. Může to být polymerní materiál s alespoň jednou cyklickou strukturou, obsahující kvartérní dusíkové atomy v polymerním řetězci nebo/a v koncových skupinách nebo/a v postranních řetězcích.
Jako anionty kvartérních amoniových solí přicházejí v úvahu anionty halo-genidové, chloristanové, tetrafluorborátové, silikofluoridové, methylsíranové, bisulfátové nebo polymerní anionty, jakým je například polyakrylátový anion. Přítomnost atomů bromu nebo jodu je méně žádoucí, protože ve srovnání s atomy chloru nebo fluoru působí brom a jod jako silné tlumiče vzbuzeného stavu kationtu. Anionty nemají mít charakter činidel oxidačních nebo redukčních a nemají chemicky reagovat s rozpouštědly nebo dalšími použitými materiály radiačně sensibilní vrstvy.
Kvartérní amoniová sůl může být v radičně sensibilní vrstvě přítomna ve směsi s polymerním filmotvorným pojivém. Pojivo může být takového· typu, že je inertní vůči látce, vzniklé ozářením kvartérní amoniové soli nebo že se vyznačuje stabilizačním účinkem na tuto látku. Tímto způsobem je možné stabilizovat některé látky, které jsou jinak obvykle vysoce aktivní a mohou být stabilizovány na dobu dostačující к tomu, aby bylo možné provést další reakci s roztokem pro bezproudové pokovování. Jako· vhodný filmotvorný polymer ro-zpustný nebo bobtnatelný ve vodě, který se dá použít jako pojivo, je možné jmenovat polyvinylalkohol, póly (amoniummethakrylát), želatinu, algináty a kopolymery anhydridu kyseliny maleinové, například kopolymer anhydridu kyseliny maleinové se styrenvinyletherem nebo ethylenem. Jako pojivá se mohou rovněž použít rozpustné polysacharidy, jako je polysacharóza, právě tak jako póly (viny lpyrrolidon) bud jako· takový, nebo ve směsi s polyvinylalkoholem. Mohou se použít polyvinylalkoholy různých viskozit a s různým stupněm hydrolýzy, ale za výhodný je třeba uvést nejdosažitelnější stupeň hydrolýzy, protože rozpustnost těchto látek v roztocích solí kovu je za teploty okolí malá. Relativní hmotnostní množství kvartérní amoniové soli a pojivá v radiačně sensibilní vrstvě může být například v poměru 1: 200 do 10·: : 1..
Spektrální citlivost kvartérních amoniových solí lze posunout do viditelné oblasti spektra přidáním spektrálních sensibilizátorů do radiačně sensibilní vrstvy.
Za vhodné sensibilizátory lze označit riboflavin ve formě volné báze, 7-chlor-9-(N-imethyldiethylaminoethyljisoalloxaziinchlorid a arkolonovou žluť, což je barvivo, obsahující 3,6-dimethyl-2- (4-dimethylaminofenyljbenzthiazoliumchlorid. Z dalších sensibilizátorů, kterých je možné použít, lze uvést S^-diethylthiokyanidjodid, proflavin, akridinovou oranž, akriflavin, N-methylfenaziniummethylsulfát, 4-kyanochinoliniummethojodid a erythrosin.
Rovněž mohou být v radiačně sensibilní vrstvě obsaženy chemické sensibilizátory, které mohou zvýšit citlivost radiačně sensibilní vrstvy. Jsou to látky obsahující aktivní vodík a patří sem alkoholy, aminy, fenoly, karboxylové kyseliny a sacharidy. Jako příklady těchto látek je možné uvést glukózu, kyselinu oxalovou, kyselinu p-chlorbenzoovou, glycerol, kyselinu mellitovou, triethanolamin, thiazin, fenol, kyselinu ethylendiamitetraoctovou ve formě dvojsodtné soli, kyselinu pikrovou, glycin, beta-alanin, dále amid kyseliny nikotinové a adenosindinukleotidfosfát. Za výhodné chemické sensibilizátory lze uvést případně substituované mono- nebo diaryl nebo 1-aryl-l-alkylderiváty kyseliny glykolové nebo ethery, soli nebo jiné deriváty uvedených kyselin. Za zvláště výhodné chemické sensibilizátory je třeba pokládat kyselinu mandlovou, kyselinu benzylovou, kyselinu p-brommandlovoú, kyselinu alfa-methoxyfenyloctovou, kyselinu p-chlormaindlovou, kyselinu alfa-naftylglykolovou a amonnou sůl kyseliny mandlové.
V radiačně sensibilní vrstvě mohou být obsaženy také další potřebné látky. Mohou se sem přidávat například povrchově aktivní látky, které napomáhají vzniku hladkých •a rovnoměrných radiačně sensibilních vrstev na podložce. V radiačně sensibilní vrstvě mohou být obsažena také činidla vázající komplexně železité ionty, které lokálně o-vlivňují vlastnosti roztoků pro bezproudové pokovování. Jako příklady takových sloučenin, které lze označit jako urychlovače vyvíjení, lze uvést kyselinu ethylemdiamintetraoctovou ve formě dvojsodné soli, chlorid amonný, monohydrogencitronan amonný a oxid křemičitý, přičemž posledně uvedené dvě látky jsou zvláště výhodné.
Použitá podložka má být bud přímo inertní vůči radiálně sensibilní vrstvě, nebo má být schopná pasivaoe do míry nezbytné к dosažení uvedené inertnosti. Jedná se o hliník. Za výhodnou podložku v případech, kdy se má deska použít při litografických tiskových postupech, je třeba označit hliník o vysoké čistotě, obsahující nejméně 99 % hliníku, s výhodou 99,3 až 99,7 % hliníku.
Je výhodné, aby povrch podložky, na který se má nanést radiačně sensibilní vrstva, byl zdrsněn; podporuje se tím adheze radiačně semsibilní vrstvy к podložce a zlepší se tím i tiskový obraz. Povrchové zdrsnění rovněž podstatně usnadní udržování správného poměru barvy к vodě během tisku.
Zdrsnění povrchu se dá dosáhnout celou řado-u postupů, které jsou odborníkům známé. Zdrsnění lze provést mechanicky 'rotačními kartáči, pískováním nebo zrněním kuličkami. Zdrsnění povrchu se dá rovněž docílit jednoduše leptáním různými chemickými čjmclly. Avšak výhodným způsobem ozrnění povrchu je elektrochemický postup. Provádí se ponořením kovu ve formě listu nebo desky (šaržovitý postup) nebo ve svinuté formě (ko-ntinuální postup) do lázně vhodné kyseliny nebo· směsi kyselin, načež se nechá probíhat střídavý proud mezi kovem a například grafitovými elektrodami. Jako kyseliny se může v případě hliníku použít kyseliny chlorovodíkové jako takové nebo ve směsi s jinými chemickými činidly, jakým je například kyselina octová nebo se může použít kyseliny du-s oné bud jako takové, nebo ve směsi s jinými látkami, jakou je například kyselina octová. S výhodou se opatří podložka jemným oženěním.
Po provedeném ozrnění se má podložka očistit, aby se zbavila produktů z postupu zdrsnění, které by mohly reagovat s radiačně sensibilní vrstvou. Cštění se může provádět známým způsobem, jako například průchodem ozrněného kovu, alespoň jednou lázní, obsahující kyseliny nebo/a báze.
Také je výhodné upravit povrch podložky anodicky. Má-li anodická vrstva dostatečnou tloušťku, potom znemožňuje, aby radiačně sensibilní vrstva chemicky reagovala s kovem a rovněž se tím zvyšuje počet kopií, které lze získat použitím tiskové desky na tiskařském lisu. Anodickou úpravu lze provést za použití různých elektrolytů, které jsou odborníkům známé. Za výhodný elektrolyt je třeba označit kyselinu sírovou.
Radiačně sensibilní deska podle vynálezu se připraví tak, že se na povrch, s výhodou ozrněného nebo anodicky upraveného hliníku, nanáší ovrstvovací roztok, obsahující kvartérní amoniovou sůl, případně pojivo a další vhodné přísady. Množství kvartérní amoniové soli a případného· pojivá v ovrstvovacím roztoku nemá rozhodující význam, přičemž toto mno-žství je diktováno' výlučně citlivostí a praktickými důvody. Vhodných výsledků lze dosáhnout za použití ovrstvovacího roztoku s obsahem až 20 hmotnostních dílů polymerního pojivá rozpustného ve vodě, 0,1 až 10 hmotnostních dílů kvartérní amoniové soli a 70 až 99,9 hmotnostních dílů vody. Ovrstvovací roztok se může nanášet na podložku rozličnými způsoby, přičemž máčení nebo nanášení válcem je možné označit za postup výhodný.
Při použití radiačně sensibilní desky podle vynálezu při výrobě litografických tiskových desek se vystaví radiačně sensibilní vrstva obrazové expozici aktinického záře10 ní, například ultrafialového světla. Kvartérní amoniová sůl přijme alespoň jeden elektron v místě, které je zasaženo zářením, takže v radiačně sensibilní vrstvě vznikne negativní obraz podlohy. Tak například v případě, kdy kvartérní amoniová sůl je diakationem (jako normální stabilní stav ve vodném prostředí) a odpovídá obecnému vyjádření Q2+, proběhne vlivem záření tato reakce:
Q ==± Q Q e Obraz je tvořen kationtem Q+ nebo neutrální molekulou Q, přičemž na obou těchto částicích se může usazovat kov z roztoku pro bezproudové pokovování.
Obrazově exponovaná deska se nemusí zpracovávat ihned; ačkoliv obraz ztrácí kvalitu za přítomnosti vlhkosti a kyslíku, je exponovaná deska dosatatečně stálá, aby se dala zpracovat za obvyklých podmínek například na kopírovacím stroji. Je-li však třeba uskladnit obrazově exponovanou desku na delší dobu, pak je nejlépe, učiní-li se tak v suchém stavu a/nebo v prostředí bez kyslíku.
Obrazově exponovaná deska se zpracovává dále tak, že se uvádí do styku s roztokem pro bezproudové pokovování, například roztokem, obsahujícím stříbrnou sůl a redukční činidlo. Takové roztoky jsou známé a je možné z nich nanášet kov bez použití elektrického pole.
Adhezní kovový obraz se tedy nanese na plochy vrstvy zasažené zářením. Jakmile se takto nanese jen stopa kovu, může tato stopa katalyzovat další nanášení téhož nebo i jiného kovu z vhodného roztoku. A tímto způsobem vzniká kovový obraz. Množství naneseného kovu je závislé na četných proměnných veličinách, jakými jsou, složení radiačně sensibilní vrstvy, doba expozice, doba styku s roztokem pro bezproudové pokovování a složení uvedeného roztoku. V případě stříbrných obrazů se dají dosáhnout plošné hmotnosti kovového obrazu až 25 g/ /m2 a i výše. Další úpravu je možné provést za účelem zvýšení oleofility ploch kovového obrazu a hydrofility neobrazových ploch. Desku je 'rovněž možné obarvit a potom zpracovat obvyklým způsobem použitím roztoku gumy před upevněním v tiskařském lisu. Takto upravenou desku je možné použít v lisu к potištění velkého· množství listů s neobyčejně vysokou kvalitou. Deska se rovněž hodí pro· ofsetové tisky a pro přímou litografii.
Vynález bude v následující části popisu blíže objasněn formou příkladů provedení;
pokud zde není uvedeno výslovně jinak, jsou množství jednotlivých složek uváděna v hmotnostních dílech. Plošná hmotnost radiačně sensibilní vrstvy je v následujících příkladech rovna 0,2 g/m2. Roztok pro bezproudové pokovování s obsahem stříbra použití v uvedených příkladech se připraví smícháním 100 ml roztoku I, 25 ml roztoku II a 25 ml roztoku III, které mají následující složení:
Roztok I
Složky Množství (g)
Síran železnato-amonný 10
Dusičnan železitý 100
Kyselina citrónová 100
Voda Doplnit na litr
Roztok II
Složky Množství (g)
Dodecylamin 0,5
Neionogenní smáčedlo
(kondenzační produkt
ethylenoxidu s alifa-
tickým alkoholem 0,5
Kyselina ootová 0,5
Voda Doplnit na litr
Roztok III
Složky Množství (g)
Dusičnan stříbrný 25
Voda Doplnit na litr
Následující příklady provedení mají pouze ilustrativní charakter a vlastní rozsah vynálezu, daný definicí předmětu vynálezu, nikterak neomezují.
Příklad 1
Připraví se ovrstvovací roztok dále uvedeného sležení, který se nanese pomocí válce na hliníkový list, který byl zdrsněn kyselinou octovou, zbaven nečistot kyselinou fosforečnou a potom anodicky upraven v prostředí kyseliny sírové.
Složení ovrstvovacího roztoku
N,N‘-di- (p-kyanofenyl)-4,4'-bipyridyliumdichlorid1
Polyvinylalkohol5
Riboflavin0,5
Hydrát kyseliny citrónové1,3
Hydroxid sodný0,5
Voda95 mečkem. Výsledný obraz je zelený. Exponovaná deska se ponoří na dobu 3 minut za teploty okolí do roztoku pro bezproudové pokovování stříbrem. Zelený obraz se přitom převrství černým obrazem kovového stříbra; leštěním je možné získat lesklý stříbrný obraz, který je ve vodivém dotyku s hliníkovou podložkou.
Příklad 2
Připraví se dále uvedený ovrstvovací roztok a tento roztok se použije к přípravě radiačně sensibilní desky stejným způsobem, jaký je popsán v příkladě 1 s tím rozdílem, že doba expozice činí 4 minuty.
Složení ovrstvovacího roztoku
N,N‘-di-(p-kyanofenyl )-4,4‘-bipyridylium chlorid2
Polyvinylalkohol5
Voda95
Neionogenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatických alkoholem)0,02
7-Chlor-9- (N-methyldiethylaminoethyl ) -isoalloxazinchlorid1
Hydrát amonné soli kyseliny oxalové2
Deska se exponuje a zpracovává jako v příkladu 1 s tím rozdílem, že doba expozice činí 4 minuty. Získá se zelený obraz jako v příkladu 1.
Příklad 3
Připraví se dále uvedený ovrstvovací roztok, který se použije к přípravě radiačně sensibilní desky postupem, popsaným v příkladu 1.
Složení ovrstvovacího roztoku
N,N‘-di-(p-kyanofenyl)-4,4‘-bopyrodylinuinchlorid1
Polyvinylalkohol5
Voda,95
Neionogenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatickým alkoholem)0,02
7-Chlor-9- (N-methyldiethylaminoethyl) -isoalloxazinchlorid0,5
Kyselina ethylendiamintetraoctová1
Získaná radiačně sensibilní deska se vystaví na dobu 1,5 minuty expozici záření skrze negativní předlohu upevněnou v rámečku, přičemž se jako zdroje použije 300 W lamp, umístěných 600 mm nad ráDeska se exponuje jako v příkladu 1 s výjimkou, že doba expozice je 1 minuta.
Zelený obraz na exponované desce se nahradí černým obrazem kovového stříbra potom, co se deska ponoří na dobu 3 minuty za teploty okolí do roztoku pro bezproudové pokovování stříbrem. Povrch desky se potom pretírá chomáčkem vaty, jež je napojena disperzí organické merkaptosloučeniny a smáčedla. ve vodě; zvýší se tím počáteční schopnost stříbrného obrazu přejímat barvu. Po vybarvení a nanesení gumy obvyklým způsobem se deska umístí v ofsetovém tiskovém lisu s přísunem volných listů. Dá se tak získat několik set dobrých kopií s jasným pozadím.
Příklad 4
Opakuje se postup podle příkladu 1 za použití dále uvedeného ovrstvovacího roztoku .a za .doby expozice 4 minuty.
Složení ovrstvovacího roztoku
N,N‘-di- (p-kyanof enyl) -4,4‘-bipyridyliumchlorid2
Polyvinylalkohol2,5
Polyvinylpyrrolidon [molekulová hmotnost 770 Ю00)2,5
Voda95,5
Příklad 5
Opakuje se postup podle příkladu 1 za použití dále zmíněného ovrstvovacího roztoku . a doby expozice 10 minut.
Složení ovrstvovacího· roztoku
N,N‘-di- (p-kyanofeinyl) -4,4‘-bipyridyliumchlorid1
7-Chlor-9-(N-methyldiethylaminoethyl Jisoalloxazinchlorid0,5
Dvojsodná sůl kyseliny ethylendiamintetraoctové1
Neionogenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s .alifatickým alkoholem)0,02
Kopolymer amidu kyseliny akrylové, kyseliny akrylové a sodné soli kyseliny akrylové3
Voda!77
Získaná deska se exponuje po· dobu 2· minut jako v příkladu 1. Získá se .purpurový obraz. Při úpravě roztokem pro bezproudové pokovování stříbrem nelze na .obraz nanést dodatečné množství stříbra, aby bylo možné připravit leštěný stříbrný obraz.
Příklad 7
Připraví se dále uvedený .ovrstvovací .roztok, který se .nanáší ve formě vrstvy na jemně ozrněnou a anodicky upravenou hliníkovou podložku.
Složení ovrstvovacího roztoku
Paraquat1
Polyvinylalkohol5
Voda95
Neionogenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatickým alkoholem)0,1
7-Chlor-9-(N-methyldiethylaminoethyl jisoalloxazinchlorid0,5
Kyselina ethylendiamintetraoctová2
Kyselina. benzylová1,2
Hydroxid sodný Upravit na hodnotu pH 4
Takto připravená radiačně sensibilní deska se obrazově exponuje po· dobu 3 minut jako v příkladu 1. Získá se purpurový . obraz.
Příklad 8
Opakuje se postup podle příkladu 7 za použití diquatu místo paraquatu. Získá se tím bledě modrý obraz.
Příklad 9
Opakuje se postup podle příkladu 1 za .použití dále uvedeného ovrstvovacího roztoku a doby expozice 2 minuty.
Složení ovrstvovacího roztoku
Příklad 6
Připraví se dále uvedený ovrstvovací roztok, který se nanáší na válci na jemně zrněný hliníkový list po anodické úpravě.
Složení ovrstvovacího· roztoku •Amontová sůl struktury paraquatu s výjimkou, že .místo methylových skupin obsahuje skupiny benzylové1
Polyvinylalkohol1
Voda69
7-Chlor-9- (N-methyldlethylaminoethy 1) isoalloxazlnchiorid0,5
Kyselina benzylová2;
Dímethylformamid30
N,N‘-di- (p-kyanofenyl) -4,4‘-bipyridyliumchlorid1
7-Chlor-9- (N-methyldiethylaminoethyl Jisoalloxazinchlorid0,5
Chlorid amonný0,57
Kyselina mandlová1
Amonná sůl kyseliny mandlové1
Neionogenní .smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatickým alkoholem)0,1
Želatina2
Voda98
Získá se zelený obraz.
Příklad 10
-Ooak-uje se postup podle příkladu 3 za použití dále uvedeného ovrstvovacího roztoku a doby expozice 2 minuty.
Složení ovrstvovacího roztoku
N,N‘-di- [ p-ky anof einyl) -4,4‘-bipyridyliumchlorid1
7-Chlor-9- (N-methyldiethy 1aminoethyinsoalloxazinchlori-d0,5
Chlorid «amonný0,6
Kyselina mandlová2
NeionOgenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatickým alkoholem)0,5
Polyvinylalkohol5
Voda95
Získá se dobrý tisk o vysoké kvalitě a s jasným pozadím.
Příklad 11
Opakuje se postup podle příkladu 3 za použití dále uvedeného ovrstvovacího roztoku a doby expozice 30 sekund.
Složení ovrstvovacího roztoku
N,N‘-di- (p-kyanof enyl) -4,4‘-bipyridyliumchlorid1
Polyvinylalkohol3
7-Chlor-9- (N-methy idiethylaminoethyl) isoalloxazinchlorid0,5
Kyše lina, benzy lová21
Dimethylformamid30
Získá se do*brý tisk o vysoké kvalitě s jasným pozadím.
Příklad 12
Opakuje se postup podle příkladu 3, ale
za použití ovrstvovacího roztoku dále uvedeného složení a doby expozice 15 sekund.
Složení ovrstvovacího roztoku
N,N‘-di- (p-kyanof eny 1) -4,4‘-
-bipyridiliumchlorid .1
7-Chlor-9- (N-methyldi ethyl-
aminoethyl Jisoalloxa-
ztnchlorld 0,5
Chlorid amonný 0,6
Kyselina mandlová 2
Hydrogenuhličitan sodný 0,5
Neionogenní smáčedlo (kon-
denzační produkt ethylenoxidu
s alifatickým alkoholem] 0,1
Oxid křemičitý 0,5
Polyvinylalkohol 4,6
Voda 95
Příklad 13
Do směsi 15.2 g (1 mol] kyseliny mandlo16 vé a 200 ml -methanoíu, umístěné v kulaté baňce pod zpětným chladičem se přidá 100 mililitrů methanoíu, obsahujícího asi 10 g bezvodého chlorovodíku. Roztok se zahřívá к varu pod zpětným chladičem na parní lázni po- dobu 5 hodin, načež se vlije do ledové vody, а к reakční směsi se přidává vodný roztok hydrogenuhličitanu sodného až do slabě alkalické reakce.
Dále se reakční směs extrahuje v děličce do dvou dávek po 300 ml etheru; roztok v etheru se promyje 200 ml vody, načež se vysuší přidáním 50 g bezvo-dého síranu sodného. Zahuštěním filtrátu v Claisenově baňce se získá zbytek, který se předestiluje za sníženého tlaku.
Připraví se kompozice, obsahující takto získaný methylester kyseliny mandlové a fotoredukovatelnou kvarterní amoniovou sůl, jako paraquat, diquat a N,N‘-di-(p-kyanofenyl)-4,4‘-bipyridyliumchlorid. Bylo zjištěno, že methylester kyseliny mandlové je sensibil zátorem pro fotoredukci uvedených solí.
Příklad 14
Připraví se kompozice s obsahem běžného* methylethe.ru kyseliny mandlové a foto* redukovatelných solí, jako je paraquat, diquat a N,N‘-di-(p-kyanofenyl)-4,4‘-bipyridyliumchlorid. Bylo zjištěno, že methylether kyseliny mandlové je účinným sensibilzátorem fotoredukce uvedených solí.
Příklad 15
Opakuje so postup podle příkladu 1 za použití dále uvedeného ovrstvovacího roztoku a doby expozice 2 minuty.
Složení ovrstvovacího roztoku
N,N‘-di- (p-kyanof enyl) -4,4‘ - b i py r idiliu-m c hl or i d1
7-Chlor-9- (N-mcthyldietliylaminoethyljisoalloxazinchlorld0,5
Chlorid amonný0,57
Kyselina p-brommandlová2
Neionogenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatickým alkoholem)0,1
Želatina2
Voda68
Dimethylformamid30
Získají se dobré tisky s vysokou kvalitou a jasným pozadím.
Příklad 16
Opakuje se postup podle příkladu 1 za použití dále uvedeného* ovrstvovacího roztoku a doby expozice 2 minuty.
216
Složení ovrstvovacího roztoku
N,N‘-di- (p-kyanofeny 1) -4,4‘-bipyridiliumchlorid1
Polyvinylalkohol3
7-Chlor-9- (N-methyldiethylaminoethyl ) isoalloxazlnchlorid0,5
Kyselina alfa-methoxyfenyloctová2 dhmethylformamid30
Voda67
Získají se dobré tisky o vysoké kvalitě a s jasným pozadím.
Příklad 17
Opakuje se postup podle příkladu 7 za použití dále uvedeného ovrstvovacího roztoku a doby expozice 2 minuty.
Složení ovrstvovacího roztoku
Paraquat 1
Polyvinylalkohol 5
Neionogenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatickým alkoholem) 0,1
7-Chlor-9- (N-methyldiethylaminoe thy 1) isoalloxazinchlorid0,5
Kyselina p-chlormandlová2
Voda95
Hydroxid sodný
Upravit hodnotu pH na4
Získá se purpurový obraz.
Příklad 18
Opakuje se postup podle příkladu 17, ale kyselina p-chlormandlová se nahradí kyselinou alfa-naftylglykolovou. Výsledkem je purpurový obraz.

Claims (5)

1. Radiačně sensibilní deska sestávající z podložky ia radiačně sensibilní vrstvy, obsahující kvartérní amoniovou sůl, s výho dou kvartérní amoniovou sůl obecného vzor ce ve kterém R1 až R10 znamenají vodík, halogen nebo organický zbytek, R11 a R12 případně znamenají halogen nebo organický zbytek, z znamená 0 nebo· celé kladné číslo, X' znamená anion, n znamená 1 nebo 2 a nejméně jeden z dusíkových atomů je kvarternizován, zejména kvartérní amoniovou sůl vzorců
2 Br H^O která je schopná přijmout nejméně jeden elektron při expozici záření za vzniku sloučeniny, schopné vázat kov z roztoku, obsahujícího sůl tohoto kovu a redukční činidlo, při styku s tímto roztokem, dále polymerní pojivo, jakým je například polyvinylalkohcl, póly (amonioummethakry lát), želatina, alginát, kopolymer anhydridu kyseliny maleinové, polysachar id nebo póly viny lpyrr olidon, přičemž je s výhodou hmotnostní poměr kvartérní amoniové soli к pojivu roven Ί : 200 až 10: 1, dále případně spektrální; sensibilizátor, jakým je například riboflavin, 7-chlor-9-(N-methyldiethylamino«ethyl)-isoalloxazinchlorid, 3,6-dimethyl-2- (4-dimethy laminof eny 1) benzthiazoliumchlorid, 3,3‘-diethylthiakyanidjodid, proflavin, akridinová oranž, aktiflavin, N-methylfeinaziniummethylsulfát, 4-kyanochinoliniummethojodid nebo erythrosin, dále povrchově aktivní činidlo nebo akcelerátor vyvíjení, jakými jsou například chlorid amonný nebo kysličník křemičitý nebo činidlo· vázající komplexně železité ionty, jakým je například dvo-jsodná sůl kyseliny ethylendiamintetraoctové nebo dvojamonná sůl kyseliny citrónové, vyznačená tím, že jako podložku obsahuje hliníkovou podložku.
2. Radiačně sensibilní deska podle bodu 1, vyznačená tím, že jako podložku obsahuje zdrsněnou a anodicky upravenou hliníkovou podložku.
3. Radiačně sensibilní deska podle bodu 2, vyznačená tím, že obsahuje hliníkovou podložku zdrsněnou kyselinou dusičnou a upravenou anodicky v prostředí kyseliny sírové.
4. Radiačně sensibilní deska podle bodu 2, vyznačená tím, že obsahuje hliníkovou podložku zdrsněnou ve směsi kyseliny chlorovodíkové a kyseliny octové nebo ve směsi kyseliny dusičné a kyseliny octové.
5. Radiačně sensibilní deska podle bodu 1, vyznačená tím, že radiačně sensibilní vrstva obsahuje chemický sensibilizátor, jakým je například případně substituovaný derivát kyseliny mono- nebo diarylglykolové nebo· 1-aryl-l-alkylglykolové nebo odpovídající sůl nebo ether, jako je kyselina mandlová, kyselina (benzylová. amonná sůl kyseliny mandlové, kyselina alfa-methoxyfenyloctová, kyselina p-chlormandlová, kyselina p-hrommandlo-vá nebo· kyselina alfa-naftylglykolová.
CS764250A 1975-06-28 1976-06-28 Radiation sensible plate CS216159B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB27435/75A GB1556362A (en) 1975-06-28 1975-06-28 Radiation sensitive materials

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS216159B2 true CS216159B2 (en) 1982-10-29

Family

ID=10259565

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS764250A CS216159B2 (en) 1975-06-28 1976-06-28 Radiation sensible plate

Country Status (24)

Country Link
JP (1) JPS5210724A (cs)
AT (1) AT351050B (cs)
BE (1) BE843497A (cs)
CA (1) CA1087434A (cs)
CH (1) CH607101A5 (cs)
CS (1) CS216159B2 (cs)
DD (1) DD126347A5 (cs)
DE (1) DE2628996A1 (cs)
DK (1) DK289376A (cs)
ES (1) ES449318A1 (cs)
FI (1) FI761870A7 (cs)
FR (1) FR2317685A1 (cs)
GB (1) GB1556362A (cs)
HU (1) HU175854B (cs)
IE (1) IE43481B1 (cs)
IT (1) IT1061441B (cs)
LU (1) LU75251A1 (cs)
NL (1) NL7607065A (cs)
NO (1) NO762217L (cs)
NZ (1) NZ181263A (cs)
PL (1) PL110012B1 (cs)
SE (1) SE7607190L (cs)
YU (1) YU157976A (cs)
ZA (1) ZA763731B (cs)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5851999A (ja) * 1981-09-21 1983-03-26 Ebara Infilco Co Ltd 汚泥脱水処理法
GB2139369B (en) * 1983-05-06 1987-01-21 Sericol Group Ltd Photosensitive systems showing visible indication of exposure

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1281698A (en) * 1968-07-15 1972-07-12 Itek Corp Metallic photographic products
US3853589A (en) * 1970-11-09 1974-12-10 Ici Ltd Metal deposition process
GB1354322A (en) * 1971-05-20 1974-05-30 Ici Ltd Magnetic information carriers

Also Published As

Publication number Publication date
CA1087434A (en) 1980-10-14
JPS5210724A (en) 1977-01-27
DD126347A5 (cs) 1977-07-13
IT1061441B (it) 1983-02-28
ATA470976A (de) 1978-12-15
AT351050B (de) 1979-07-10
CH607101A5 (cs) 1978-11-30
NZ181263A (en) 1978-06-02
FR2317685B1 (cs) 1982-05-07
NO762217L (cs) 1976-12-29
SE7607190L (sv) 1976-12-29
FI761870A7 (cs) 1976-12-29
NL7607065A (nl) 1976-12-30
GB1556362A (en) 1979-11-21
ES449318A1 (es) 1977-08-16
PL110012B1 (en) 1980-06-30
ZA763731B (en) 1977-05-25
BE843497A (fr) 1976-12-28
YU157976A (en) 1983-02-28
IE43481L (en) 1976-12-28
HU175854B (hu) 1980-10-28
DK289376A (da) 1976-12-29
IE43481B1 (en) 1981-03-11
LU75251A1 (cs) 1977-02-18
AU1526176A (en) 1978-01-05
DE2628996A1 (de) 1977-02-03
FR2317685A1 (fr) 1977-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2687958A (en) Light-sensitive layers for the printing industry
EP0164100A2 (en) Polymeric pyridinium ylide and products from same
SU568395A3 (ru) Светочувствительный копировальный материал
US20140287365A1 (en) Forming patterns using thiosulfate polymer compositions
US8916336B2 (en) Patterning method using thiosulfate polymer and metal nanoparticles
US9499650B2 (en) Thiosulfate polymers
JP4769680B2 (ja) 金属微粒子分散液からなるパターン形成用組成物およびパターン形成法
US4209581A (en) Soluble photosensitive resin composition
CS216159B2 (en) Radiation sensible plate
US4126468A (en) Radiation sensitive compositions of quaternary ammonium salt and carboxylic acid sensitizer
DE1522459A1 (de) Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen
JP2639722B2 (ja) 感光性組成物
JPS5855926A (ja) ポリアミド系線状高分子を用いる画像形成方法
US3923761A (en) Photopolymers
US4299907A (en) Storage stable photosensitive diazo lithographic printing plates
CA1062071A (en) Method of manufacturing an external electrically conducting metal pattern
EP0024872B2 (en) A method of treating exposed and developed radiation sensitive plates in lithographic printing plate production, compositions for use in the method, and the use of diazo eliminating compounds in improving the ink receptivity of lithographic printing images
GB2029592A (en) Storage stable lithographic printing plates
US3620735A (en) Relief image process utilizing a simple and a complex ferric salt
JPH09328482A (ja) クマリン化合物およびその用途
US4202699A (en) Lithoplates of quaternary ammonium salt compositions
US3679412A (en) Lithographic printing plates and methods for preparation thereof
US3682636A (en) Presensitized photolithographic plate having diazo stabilized aluminum base
US3736871A (en) Copper (1) salt-hydrophilic binder lithographic images
US3914261A (en) Azido photopolymers