Przedmiotem wynalazku jest plyta czula na promienio¬ wanie.Plyta wedlug wynalazku zawiera metaliczne podloze, którego powierzchnia jest pokryta warstwa czula na pro¬ mieniowanie, zawierajaca czwartorzedowa sól amonowa.Sól ta jest takiego typu, ze poddana promieniowaniu moze przyjac co najmniej jeden elektron, przeksztalcajac sie w substancje, zdolna do spowodowania osadzania sie na tej substancji metalu z nieelektrolitycznego roztworu plate¬ rujacego, znajdujacego sie w kontakcie z ta substancja i zawierajaca sól tego metalu i czynnik redukujacy.Czwartorzedowa sól amoniowa stanowi zwiazek o wzo¬ rze ogólnym 1, w którym R1 — R10 oznaczaja atomy wodoru lub chlorowca lub grupy alkilowe lub arylowe, R11 i R12 oznaczaja atomy wodoru lub atomy chlorowca lub grupy alkilowe lub arylowe, Z oznacza zero lub liczbe calkowita, X~ oznacza anion, m oznacza liczbe 1 lub 2, i co najmniej jeden z atomów azotu jest czwartorzedowy.Zwiazek ten opisany jest w opisie patentowym Wielkiej Brytanii nr 1 310 812. Korzystnie stosuje sie jako czwarto¬ rzedowa sól amoniowa cykliczna amoniowa sól dwu-czwar- torzedowa, która po dodaniu jednego elektronu tworzy rodniki Weitza. Sole takie sa dwukationowe i zawieraja atomy azotu w czasteczce, przy czym co najmniej dwa z atomów azotu sa czwartorzedowe i sa czlonami ukladów pierscieniowych, polaczonych ze soba i przynajmniej czesciowo aromatycznych, przy czym polaczenie miedzy pierscieniami stanowi lancuch o sprzezonym nienasyceniu pomiedzy atomami azotu. Szczególnie korzystne dwu- czwartorzedowe sole amoniowe do plyt wedlug wynalazku 10 15 20 25 30 sa sole bipirydyliowe, np. o wzorach 2, 3 i 4.Zwiazki o wzorach 2 i 3 sa materialami dostepnymi w handlu pod nazwami Paraauat i Diquet. Zwiazek o wzo¬ rze 4 stanowi chlorek N,N'-dwu(paracyjanofenylo)-4,4- -bipirydylu i bedzie nazywany dalej CPP++ .Korzystnie stosuje sie bezbarwna lub jedynie lekko za¬ barwiona przed naswietlaniem czwartorzedowa sól amo¬ niowa, z której po naswietlaniu tworzy sie substancja barwna, tak ze w czasie naswietlania powstaje latwo wi¬ dzialny obraz. Tak np. kation rodnikowy powstajacy po dodaniu jednego elektronu do dwukationu CPP++ jest zielony, a odpowiednia obojetna czasteczka, wytworzona przez dodanie dwóch elektronów do dwukationu CPP+ + jest czerwona.Czwartorzedowa sól amoniowa moze zawierac prosty kation albo moze byc czescia bardziej zlozonej czasteczki, takiej, jak dwumeryczny zwiazek kationowy. Moze byc tez substancja polimeryczna z jednym lub wiecej pierscieniami, zawierajacymi czwartorzedowe azoty w szkielecie polimeru, w grupach koncowych w lancuchach bocznych lub w kom¬ binacjach tych pozycji.Anionami soli czwartorzedowych moga byc np. chlorki, nadchlorany, czterofluoroborany, krzemofluorki, metylo- siarczany, kwasne siarczany lub aniony polimeryczne, takie jak np. poliakrylany. Obecnosc atomów bromu i jodu jest mniej korzystna niz atomów chloru i fluoru, poniewaz brom i jod dzialaja jako czynniki oslabiajace atom wzbu¬ dzenia kationu. Aniony nie powinny wykazywac dzialania utleniajacego ani redukujacego ani innej aktywnosci che¬ micznej w stosunku do rozpuszczalników i innych sub- 110 012110 012 3 stancji, stosowanych do wytworzenia warstwy na podlozu.Czwartorzedowe sole amoniowe moga byc zawarte w warstwie czulej na promieniowanie w mieszaninie z blb- notwórczym polimerycznym srodkiem wiazacym. Srodek ten powinien byc obojetny w stosunku do substancji wytwarzajacej sie przy naswietlaniu czwartorzedowej soli amoniowej albo posiadac stabilizujacy wplyw na te sub¬ stancje. W ten sposób, niektóre substancje, które normalnie sa silnie aktywne, moga byc stabilizowane na wystarczajaco dlugi okres czasu, tak aby mozna je bylo traktowac nie- elektrolitycznym roztworem platerujacym, nawet jezeli pomiedzy.jch^wyt^c^ejueiri a ta obróbka uplywa pewien Odpowiednimi jako slodki wiazace blonotwórczymi polimerami, rozpuszczalnymi w wodzie lub peczniejacymi, sa nb^ybtt^lflyioaB^ohohJ Polimetakrylan amonu, zelatyna, altnAfl^j ^ftprttfftefyl_fee±wodnika maleinowego, np. ko¬ polimer bezwodnika maleinowego ze styrenem, eterem winylowym lub etylenem, nastepnie rozpuszczalne poli¬ sacharydy, takie jak pofisacharoza, a takze poliwinylopiro- lidon sam lub w mieszaninie z poliwinyloalkoholem.Mozna stosowac poliwinyloalkohole o róznych lepkos- ciach i stopniu hydrolizy, ale najodpowiedniejsze sa o ma¬ ksymalnym stopniu hydrolizy, gdyz maja one niska roz¬ puszczalnosc w roztworach soli metali w temperaturze otoczenia. Stosunek wagowy czwartorzedowej soli amo¬ niowej do srodka wiazacego w warstwie wynosi korzystnie odl : 200 do 10 :1.Wlasciwa czulosc spektralna czwartorzedowych soli amoniowych moze byc rozciagnieta az do widzialnego zakresu widma przez dolaczenie uczulaczy spektralnych do warstwy czulej na promieniowanie. Odpowiednimi uczu- laczami spektralnymi sa: ryboflawina, w postaci wolnej zasady, chlorek 7-chloro-9- (N-metylodwuetyloaminoety- lo)-izoalloksazyny (nazywany dalej zwiazkiem RD) oraz inne bardzo podobne zwiazki, a takze zólcien Arkonolowa (barwnik zawierajacy chlorek 3,6-dwumetylo-2-)4-dwume- tylo-aminofenylo/benzotiazoliowy. Ponadto, jako uczulacz mozna stosowac jodek 3,3 dwuetylotiacyjanku, proflawine, oraz oranz akrydynowy, akryflawine metylósiarczan N-me- tylofenazyniowy, metylojodek 4-cyjanóchinoliowy i ery- trozyne.* Stwierdzono, ze dodanie uczulaczy chemicznych do warstwy czulej na promieniowanie podnosi znacznie dzia¬ lanie tej warstwy.Wedlug wynalazku, plyta czula na promieniowanie za¬ wiera w warstwie czulej na promieniowanie uczulacz che¬ miczny, a mianowicie kwas jedno- lub dwuarylo- lub 1-arylo-l-alkiloglikolowy lub jego sól. Jako najkorzystniej¬ sze uczulacze chemiczne mozna wymienic: kwas migdalo¬ wy, benzilowy, p-bromoniigdalówy, a-metoksyfenylooctó- wy, p-chlóromigdaloWy i a-naftyloglikolowy oraz sól amonowa kwasu migdalowego.Ponadto, w zaleznosci od potrzeby, w Warstwie moga byc zawarte równiez i inne substancje, np. srodki powierzchnio- woczynne, dzieki którym powstaje gladka, równa warstwa na podlozu, a takze inne zwiazki, jak czynniki kompleksu- jace jon zelaza, które lokalnie wplywaja na wlasciwosci nie- elektrolitycznego roztworu platerujacego. Przykladami ta¬ kich zwiazków, które mozna nazwac przyspieszaczami Wywolywania sa: kwas etylenodwuaminoczterooctowy, jego sól dwusodowa, chlorek amonu, kwasny cytrynian dwu- amónowy i, szczególnie korzystna przydymiona krzemion¬ ka, znana pod nazwa handlowa Cab-o-Sil.Stosowane podloze riiusi byc albo w calej objetosci' óbo- 4 jetne wzgledem warstwy czulej na promieniowanie, albo tez nadajace sie do pasywacji, w taki sposób, aby stalo sie obojetne wzgledem tej warstwy.Podloze moze byc wykonane z aluminium. W przypadku zastosowania plyt wedlug wy- 5 nalazku do wytwarzania litograficznych plyt drukarskich, najkorzystniejsze podloze wykonane jest z aluminium o wysokiej czystosci, o zawartosci nie mniej niz 99,0%, a korzystnie zawierajace 99,3%—99,7% Al.Korzystnie powierzchnie tego podloza, która ma byc 10 pokryta warstwa czula na promieniowanie, poddaje sie szorstkowaniu w celu wzmozenia adhezji warstwy i obrazu drukarskiego po obróbce. Szorstkowanie lub ziarnowanie równiez ulatwia prace przy obsludze prasy w zakresie utrzymywania wlasciwej równowagi farba-woda podczas 15 drukowania.Uziarniona powierzchnie mozna wytworzyc szeregiem powszechnie znanych sposobów, stosowanych przy wy¬ twarzaniu i obróbce podlozy do litograficznych plyt dru¬ karskich. Moze to byc obróbka mechaniczna za pomoca 20 szczotek obrotowych, piaskowanie lub kula ziarnujaca.Szorstka powierzchnie mozna tez wytworzyc prostym trawieniem w szeregu substancji, atakujacych metal. Jed¬ nak najkorzystniej jest prowadzic ziarnowanie elektro¬ chemicznie. Osiaga sie to, zanurzajac metal w postaci plyt 25 (proces okresowy) lub w postaci zwoju (proces ciagly) w kapieli z odpowiedniego kwasu lub mieszaniny kwasów i przepuszczajac prad zmienny pomiedzy metalem i np. elektrodami grafitowymi. Dla aluminium moze to byc kwas solny, sam lub w mieszaninie z innymi substancjami, 30 takimi jak kwas octowy albo kwas azotowy sam lub w mie¬ szaninie z innymi substancjami, takimi jak kwas octowy.Korzystnie jest pokrywac podloze drobnym ziarnem.Po ziarnowaniu podloze trzeba oczyscic w celu usuniecia z powierzchni produktów ziarnowania, które moglyby 35 reagowac z warstwa czula na promieniowanie. Oczyszcze¬ nie mozna prowadzic w znany sposób pfzeprowadzajac ziarnowany metal przez jedna lub wiecej kapieli, zawieraja¬ cych rózne mozliwe ktfrasy i/lub alkalia.Korzystne jest równiez anodyzowanie powierzchni 40 podloza. Utleniona przez anodyzowanie warstwa, jezeli jest wystarczajacej grubosci, zapobiega reakcji chemicznej pomiedzy warstwa czula na promieniowanie, a metalem oraz powaznie zwieksza ilosc kopii, które mozna uzyskac z gotowej plyty drukarskiej W ustalonych warunkach na 45 prasie drukarskiej. Anodyzowanie mozna prowadzic, sto¬ sujac szereg elektrolitów, znanych w technice anódyzowa- nia metali takich, jak aluminium, do wyrobu litograficz¬ nych plyt drukarskich. Najkorzystniejszy jest kwas siar¬ kowy. 50 Plyte czula na promieniowanie wedlug Wynalazku wy¬ twarza sie w ten sposób, ze podloze, korzystnie z ziarno¬ wanego i anodyzowanego aluminium, traktuje sie roz¬ tworem powlekajacym, zawierajacym czwartorzedowa sól amoniowa i ewentualnie srodek wiazacy i inne pozadane 55 dodatki. Zawartosc czwartorzedowej soli amoniowej i ewen¬ tualnie srodka wiazacego w roztworze powlekajacym nie jest krytyczna i uwarunkowana jest wylacznie zadanym stopniem czulosci oraz wzgledami praktycznymi. Wlasciwe wyniki mozna otrzymac stosujac roztwór powlekajacy, 60 zawierajacy 0—20 czesci wagowych rozpuszczalnego w wo¬ dzie pólimerycznego srodka wiazacego, 1—10 czesci wa¬ gowych czwartorzedowej soli amoniowej 6 7(^-99,9 czesci wagowych wody.Roztwór powlekajacy mozna stosowac do plyt w rózny 65 sposób, ale powlekanie przez zanurzanie lub walcowanie110 012 jest najkorzystniejsze. Sposób wytwarzania litograficznych plyt drukarskich z plyt czulych na promieniowanie, beda¬ cych przedmiotem wynalazku polega na tym, ze plyte czula na promieniowanie poddaje sie dzialaniu aktywnego promieniowania, zawierajacego informacje o obrazie, np. 5 promieniowania nadfioletowego. Czwartorzedowa sól amo- niowa przyjmuje óo najmniej jeden elektron na obszarach, na które padlo promieniowanie, przez co wytwarza sie obraz bedacy negatywem pierwotnego obrazu. Tak np. jezeli czwartorzedowa sól amoniowa jest dwukationem 10 (normalny stabilny stan w srodowisku wodnym), oznaczo¬ nym przez Q+ +, zachodzi nastepujaca reakcja pod wply¬ wem promieniowania: -Q+- Z 15 Obraz sklada sie z kationu rodnikowego Q+ * lub obo¬ jetnej czasteczki Q, z których oba sa zdolne do spowodowa¬ nia osadzania sie metalu z roztworów nieelektrolitycznych. 20 Plyta, poddana dzialaniu promieniowania, zawierajacego informacje o obrazie, nie musi byc natychmiast poddana dalszej obróbce. Chociaz obraz znika w obecnosci wilgoci lub tlenu, naswietlana plyta jest wystarczajaco stabilna do poslugiwania sie nia w normalnych warunkach, np. w pracy 25 etapowej lub powtarzalnej. Jezeli jednak chce sie zachowac plyte poddana dzialaniu promieniowania, zawierajacego informacje o obrazie, przez dowolny okres czasu, lepiej robic to w warunkach suchych i/lub beztlenowych. Plyte poddana dzialaniu promieniowania, zawierajacego infor- 30 macje o obrazie poddaje sie dalszej obróbce, kontaktujac ja z nieelektrolitycznym roztworem platerujacym, np. za¬ wierajacym sole srebra i czynnik redukujacy. Roztwory te jako takie sa dobrze znane i moga osadzac metal bez przykladania zewnetrznego pola elektrycznego. W ten 35 sposób naklada sie dobrze przylegajacy obraz na naswie¬ tlonych obszarach warstwy. Po osadzeniu sie nawet sladu metalu, moze on katalizowac dalsze osadzanie sie tego samego lub innego metalu z odpowiedniego roztworu.W ten sposób wytwarza sie warstwa metaliczna na obsza- 40 rach obrazu. Ilosc osadzonego metalu zalezy od wielu znanych czynników jak sklad warstwy czulej na promie¬ niowanie, czas naswietlania, czas kontaktu z nieelektroli¬ tycznym roztworem platerujacym i sklad tego roztworu.Dla obrazów srebrowych ciezar obrazu wynosi do 25 45 g/m2, a nawet mozna uzyskiwac wyzsze wartosci. Nastep¬ nie mozna prowadzic dalsza obróbke w zaleznosci od po¬ trzeby, aby zwiekszyc olefilowe wlasciwosci metalicznego obrazu oraz zwiekszyc hydrofilowe wlasciwosci obszarów poza obrazem. Plyte mozna, o ile potrzeba pokrywac farba, 50 a nastepnie traktowac w zwykly sposób roztworem gumy przed zamontowaniem jej do plyty drukarskiej. Otrzymana plyte mozna uzywac w prasie plytowej do drukowania w duzych partiach o najwyzszej jakosci, a takze do druko¬ wania w offsetowych wlókienniczych prasach drukarskich. 55 Plyty tez nadaja sie bezposrednio do celów litograficznych.Plyty czule na promieniowanie wedlug wynalazku o wy¬ sokiej zdolnosci rozdzielczej oraz czulosci, nadaja sie do wytwarzania litograficznych plyt drukarskich, wytrzymu¬ jacych najostrzejsze warunki drukarskie, analogicznie jak 60 bimetaliczne litograficzne plyty drukarskie.Litograficzne plyty drukarskie wytwarza sie w ten sposób, ze poddaje sie dzialaniu promieniowania zawierajacego informacje o obrazie plyte czula na promieniowanie, za¬ wierajaca podloze metaliczne, którego powierzchnia pokryta 65 jest warstwa czula na promieniowanie, zawierajaca czwarto¬ rzedowa sól amoniowa o wzorze 1, w którym wszystkie symbole maja;wyzej podane znaczenie. Sól jest takiego typu, ze poddana promieniowaniu moze przyjac co najmniej jeden elektron, przeksztalcajac sie w substancje, zdolna do spowodowania osadzania sie na tej substancji metalu z nieelektrolitycznego roztworu platerujacego, znajdujace¬ go sie w kontakcie z ta substancja i zawierajacego sól tego metalu i czynnik redukujacy. Plyte te, po naswietleniu promieniowaniem, zawierajacym informacje o obrazie, wprowadza sie w kontakt z nieelektrolitycznym roztworem platerujacym, zawierajacym sól metalu i czynnik redukujacy, w celu spowodowania osadzania sie metalu na obszarach warstwy, które zostaly naswietlone promieniowaniem i wy¬ tworzenia litograficznej plyty drukarskiej.Przy wytwarzaniu litograficznych plyt drukarskich mozna tez stosowac dodatkowy etap lub etapy obróbki obszarów obrazu w celu nadania im wiekszych wlasciwosci oleofilo¬ wych i/lub obróbki obszarów poza obrazem w celu nadania im wiekszych wlasciwosci hydrofilowych.Nastepujace przyklady ilustruja wynalazek. O ile nie zaznaczono inaczej, ilosci skladników wykazano w czesciach wagowych. Ilosc materialu powlekajacego czulego na pro¬ mieniowanie, stosowanego w przykladach, byla rzedu 0,2 g/m2. Nieelektrolityczny roztwór srebrowy uzyty w przykladach sporzadzono, mieszajac 100 ml roztworu I, 25 ml roztworu II i 25 ml roztworu III, o nastepujacych skladach Roztwór I. siarczan zelazawo-amonowy 100 g azotan zelazowy 10 g kwascytrynowy 100 g wodado 1 litr Roztwór U.Dodecyloamina 0,5 g SynthrapolN 0,5 g kwas octowy 0,5 g wodado 1 litr Roztwór III.Azotan srebra 25 g wodado 1 litr Synthrapol N stanowi niejonowy czynnik zwilzajacy i jest produktem kondensacji tlenku etylenu z alkoholem alifatycznym.Przyklad I. Sporzadzono nastepujacy roztwór i na¬ niesiono walcem na plyte aluminiowa, uprzednio ziarnowa¬ na kwasem octowym, oczyszczona w kwasie fosforowym i anodyzowana w kwasie siarkowym. CPP+ + [dwuchlorek N,N/-dwu(p-cyjanofenylo)-4,4/-bipirydyliowy Lemol16—98 5,0 ryboflawina 0,5 kwas cytrynowy.H20 1,3 wodorotleneksodu 0,5 woda 95,0 Lemol 16—98 jest poliwinyloalkoholem Borden Chemical Company.Otrzymana plyte czula na promieniowanie naswietlano przez przezroczyste obszary negatywu w ramie w ciagu 1,5 minuty promieniowaniem z czterech lamp Philips 300 W MLU, zawieszonych 600 mm ponad rama. Otrzy¬ mano zielony obraz. Naswietlana plyte zanurzono nastep¬ nie w nieelektrolitycznym roztworze platerujacym na 3 min. w temperaturze pokojowej. Zielony obraz zostal zastapiony czarnym obrazem ze srebra metalicznego, który dawal sie110 012 8 polerowac do lustrzanego polysku i który byl w przewodza¬ cym kontakcie z podlozem aluminiowym.Przyklad II. Sporzadzono nastepujacy roztwór i za¬ stosowano go do wytworzenia plyty czulej na promieniowa¬ nie identycznie, jak w przykladzie I, z wyjatkiem tego,.ze 5 czas naswietlania wynosil 4 min.CPP++ 2,0 Lemol 16—98 5,0 woda 95,0 SynthrapolN 0,02 10 RD 1,0 szczawian amonu 1,0 H20 2,0 Plyte naswietlono i obrabiano jak w przykladzie I, ale czas naswietlania wynosil 4 min. Obraz byl zielony, jak 15 w przykladzie I.Przyklad III. Sporzadzono nastepujacy roztwór i za¬ stosowano go do wytworzenia plyty czulej na promieniowa¬ nie tak, jak w przykladzie I.CPP++ 1,0 20 Lemol 16—98 5,0 woda 95,0 SynthrapolN 0,02 RD 0,5 EDTA 1,0 25 Plyte naswietlono jak w przykladzie I, ale czas naswietla¬ nia wynosil 1 min. Zielony obraz na naswietlonej plycie zostal zastapiony czarnym obrazem ze srebra metalicznego po zanurzeniu plyty do srebrowego roztworu platerujacego na 3 min., w temperaturze pokojowej. Powierzchnie plyty 30 zmyto watka, zanurzona w zawiesinie organicznego merkap- tozwiazku i srodka zwilzajacego w wodzie, aby zwiekszyc poczatkowa zdolnosc przyjmowania farby przez obraz.Po nasmarowaniu farba i guma w zwykly sposób, plyte umieszczono w plytowej offsetowej prasie drukarskiej 35 i otrzymano kilkaset dobrych, czystych kopii.Przyklad IV. Powtórzono przyklad I, stosujac na¬ stepujacy roztwór powlekajacy oraz czas naswietlania 4 min.; CPP++ 2,0 40 Lemol16—98 2,5 poliwinylopirolidon ciezar czasteczkowy700.000 2,5 woda 95,5 Przyklad V. Powtórzono przyklad V, stosujac na- 45 stepujacy roztwór powlekajacy oraz czas naswietlania 10 min.; CPP++ 1,0 RD 0,5 EDTA (sól dwusodowa) 1,0 50 SynthrapolN 0,02 CyanamerP26 3,0 woda 97,0 Cyanamer P 26 stanowi kopolimer akryloamidu, kwasu akrylowego i akrylanu sodu, wytwarzany przez Cyanamid 55 of Great Britain, Limited.Przyklad VI. Sporzadzono nastepujacy roztwór po¬ wlekajacy i naniesiono walcem na drobno uziarniona i anodyzowana plyte aluminiowa.Benzylo-Viologen 1,0 60 Lemol 16—98 1,0 Woda 69,0 RD 0,5 kwas benzilowy 2,0 dwumetyloformamid 30,0 65 Benzylo-Viologen jest podobny do Paraquat, ale zamiast grup metylowych posiada grupy benzylowe.Otrzymana plyte poddano naswietlaniu przez negatyw, jak w przykladzie I, w ciagu 2 minut. Otrzymano jasno- -purpurowy obraz. Przy traktowaniu srebrowym roztwo¬ rem platerujacym nie mozna bylo osadzic wystarczajacej ilosci srebra, aby dalo sie ono polerowac.Przyklad VII. Sporzadzono nastepujacy roztwór po¬ wlekajacy i nalozono na drobno uziarnione i anodyzowane podloze aluminiowe: Paraauat 10 LemoUjS—98 5,0 woda 95,0 BRIJ35 0,1 RD 0,5 EDTA 2,0 kwas benzilowy 1,2 wodorotlenek sodu do pH = 4 BRIJ 35 stanowi niejonowy srodek zwilzajacy i jest produktem kondensacji tlenku etylenu i alkoholu alifa¬ tycznego.Otrzymana plyte czula na promieniowanie naswietlano przez negatyw, jak w przykladzie I, w ciagu 3 minut.Uzyskano purpurowy obraz.Przyklad VIII. Powtórzono przyklad VII, stosujac Diauat zamiast Paraauat. Otrzymano jasno-niebieski obraz.Przyklad IX. Powtórzono przyklad I, stosujac na¬ stepujacy roztwór powlekajacy i czas naswietlania 2 min.; CPP++ 1,0 RD 0,5 chlorekamonu 0,57 kwasmigdalowy 1,0 sól amonowa kwasu migdalowego 1,0 BRIJ35 0,1 zelatyna 2,0 woda 98,0 Otrzymano zielony obraz.Przyklad IX. Powtórzono przyklad III, stosujac na¬ stepujacy roztwór powlekajacy oraz czas naswietlania 2 min.; CPP++ 1,0 RD 0,5 chlorekamonu 0,6 kwas migdalowy 2,0 BRIJ35 0,1 Lemol 16—98 5,0 woda 95,0 Otrzymano dobre, czyste i o wysokiej jakosci druki.Przyklad XI. Powtórzono przyklad III, stosujac na¬ stepujacy roztwór powlekajacy, oraz czas naswietlania 30 sek.; CPP++ 1,0 Lemol16—98 3,0 woda 67,0 RD 0,5 kwas benzilowy 2,0 DMF 30,0 Otrzymano dobre, czyste i o wysokiej jakosci druki.Przyklad XII. Powtórzono przyklad III, stosujac nastepujacy roztwór powlekajacy i czas naswietlania 15 sek.: CPP++ 1,0 RD 0,5 chlorekamonu 0,6 kwasmigdalowy 2,0110 012 10 kwasny weglan sodu BRIJ 35 Cab-o-silM5 Lemol 16—98 woda 0,5 04 0,5 4,6 95,0 Przyklad XIII. Do 1,52 g (1.0 mola) kwasu migdalo¬ wego i 200 ml metanolu w okraglodennej kolbie z chlodnica zwrotna dodano 100 ml metanolu, zawierajacego okolo 10 g bezwodnego chlorowodoru. Roztwór ogrzewano na lazni parowej pod chlodnica zwrotna w ciagu 5 godzin, 10 nastepnie zanurzono do wody z lodem w zlewce. Dodawano nasycony wodny roztwór kwasnego weglanu sodu do uzyskania slabo alkalicznego odczynu mieszaniny. Nastep¬ nie ekstrahowano ja dwiema porcjami po 300 ml eteru w rozdzielaczu. Ekstrakty eterowe przemyto 200 ml wody 15 i suszono nad 50 g bezwodnego siarczanu sodu. Wysuszony roztwór eterowy zatezono przez destylacje w kolbie Claise- na, a pozostalosc przedestylowano pod zmniejszonym cisnieniem.Sporzadzono kompozycje, zawierajace ester metylowy 20 kwasu migdalowego, otrzymany w powyzszy sposób, oraz fotoredukujace sie czwartorzedowe sole amonowe, takie jak Faraquat, Diauat i CPP+ + . Stwierdzono, ze ester kwasu migdalowego stanowi uczulacz fotoredukcji soli.Przyklad XIV. Sporzadzono kompozyqe, zawieraja- 25 ce handlowy eter metylowy kwasu migdalowego i fotore¬ dukujace sie sole jak Paraquat, Diauat i CPP+ +. Stwier¬ dzono, ze eter jest skutecznym uczulaczem fotoredukcji soli.Przyklad XV. Powtórzono przyklad I, stosujac na- 30 stepujacy roztwór powlekajacy i czas naswietlania 2 min.CPP++ 1,0 RD 0,5 chlorekamonu 0,57 kwasp-bromomigdalowy 2,0 35 BRIJ35 0,1 zelatyna 2,0 woda 68,0 DMF 30,0 Otrzymano dobre, czyste i o wysokiej jakosci druki. 40 Przyklad XVI. Powtórzono przyklad I, stosujac na¬ stepujacy roztwór powlekajacy i czas naswietlania 2 min.: CPP++ 1,0 Lemol 16—98 3,0 RD 0,5 45 a-metoksyfenyl 2,0 kwas octowy DMF 30,0 woda 67,0 Otrzymano dobre, czyste i o wysokiej jakosci druki. 50 Przyklad XVII. Powtórzono przyklad VII, stosujac nastepujacy roztwór powlekajacy i czas naswietlania 2 min.: Paraauat 1,0 Lemol 16—98 t 5*0 v BRIJ35 0,1 55 RD 0,5 kwas p-chloromigdalowy 2,0 woda 95,0 wodorotlenek sodu do pH = 4 Otrzymano purpurowyobraz. 60 Przyklad XVIII. Powtórzono przyklad XVII, sto¬ sujac 2,0 czesci kwasu a-nafryloglikolowego zamiast kwasu p-chloromigdalowego. Otrzymano purpurowy obraz.Zastrzezenia patentowe 1. Plyta czula na promieniowanie, zawierajaca metaliczne podloze, którego powierzchnia pokryta jest warstwa czula na promieniowanie, zawierajaca czwartorzedowa sól amo- niowa o wzorze ogólnym 1, w którym symbole R^R10 oznaczaja atomy wodoru lub chlorowca lub grupy alkilowe lub arylowe, R11 i R12 oznaczaja atomy wodoru lub chlorow¬ ca lub grupy alkilowe lub arylowe, Z oznacza zero lub liczbe calkowita, X" oznacza anion, n oznacza liczbe 1 lub 2 oraz co najmniej jeden z atomów azotu jest czwartorzedowy, oraz ewentualnie polimeryczny srodek wiazacy, uczulacz spektralny, srodek powierzchniowo czynny i/lub przy¬ spieszacz wywolywania, znamienna tym, ze warstwa czula na promieniowanie zawiera jako uczulacz chemiczny, kwas jadno- lub dwuarylo- lub 1-arylo 1-alkiloglikolowy lub jego sól. 2. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze jako uczulacz chemiczny zawiera kwas a-metoksyfenylooctowy, p-chloromigdalowy, p-bromomigdalowy lub a-naftylogli- kolowy. 3. Plyta wedlug zastrz. 1 albo 2, znamienna tym, ze jako podloze zawiera aluminium, ziarnowane w mieszani¬ nie kwasu solnego i octowego lub w mieszaninie kwasu azotowego i octowego. 4. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze jako uczulacz chemiczny zawiera kwas migdalowy, kwas ben- zilowy lub sól amonowa kwasu migdalowego. 5. Plyta wedlug zastrz. 4, znamienna tym, ze jako czwartorzedowa sól amonowa zawiera zwiazek o wzorze 2, 3, lub 4. 6. Plyta wedlug zastrz. 4, znamienna tym, ze jako polimeryczny srodek wiazacy zawiera poliwinyloalkohol, polimetakrylan amonu, zelatyne, alginian, kopolimer bez¬ wodnika maleinowego, polisacharyd lub poliwinylopiro- lidon. 7. Plyta wedlug zastrz. 4, znamienna tym, ze zawiera sól oraz srodek wiazacy w stosunku wagowym 1 :200 — 10 : 1. 8. Plyta wedlug zastrz. 4, znamienna tym, ze zawiera jako uczulacz spektralny ryboflawine, chlorek 7-chloro-9- - (N-metylodwuetyloaminoetylo)-izoalloksazyny, chlorek 3,6-dwumetylo-2-/4-dwumetyloaminofenylo) - benzotiazoli- lowy, jodek 3,3'-dwuetylotiacyjanku, proflawine, oranz akrydynowy, akryloflawine, metylosiarczan N-metylofena- zyniowy, metylojodek 4-cyjanochinoliniowy lub erytrozyne. 9. Plyta wedlug zastrz. 4, znamienna tym, ze zawiera jako przyspieszacz wywolywania chlorek amonu lub krze¬ mionke koloidalna lub czynnik kompleksujacy jon zelazo¬ wy, taki jak kwas etylenodwuaminoczterooctowy lub jego sól sodowa, lub kwasny cytrynian dwuamonowy. 10. Plyta wedlug zastrz. 4, znamienna tym, ze jako podloze zawiera ziarnowane i anodyzowane aluminium. 11. Plyta wedlug zastrz. 4, znamienna tym, ze jako podloze zawiera aluminium, ziarnowane kwasem azotowym i anodyzowane kwasem siarkowym.110 012 m* R- ,A Rc W \C*— (CH=CH)_ _,_ oc FT mX" R ,12 R 11 Wzór 1 H3C--CH: 2CI" Wzór 2 '/ \\ // \\ \ H -C I H2 2Br. HO Wzór 3 ncq^^ C3N^f3CN 2Q- Wzór A LDD Z-d 2, z. 436/1400/81, n. 105+20 egz.Cena 45 zl PL PL PL PL PL PL PL