CS216159B2 - Radiation sensible plate - Google Patents
Radiation sensible plate Download PDFInfo
- Publication number
- CS216159B2 CS216159B2 CS764250A CS425076A CS216159B2 CS 216159 B2 CS216159 B2 CS 216159B2 CS 764250 A CS764250 A CS 764250A CS 425076 A CS425076 A CS 425076A CS 216159 B2 CS216159 B2 CS 216159B2
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- acid
- radiation
- ammonium salt
- salt
- quaternary ammonium
- Prior art date
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 48
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 231100000489 sensitizer Toxicity 0.000 claims abstract description 15
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 29
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- -1 4-cyanoquinolinium methoxide Chemical compound 0.000 claims description 16
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 13
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- AUNGANRZJHBGPY-SCRDCRAPSA-N Riboflavin Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)CN1C=2C=C(C)C(C)=CC=2N=C2C1=NC(=O)NC2=O AUNGANRZJHBGPY-SCRDCRAPSA-N 0.000 claims description 12
- QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N (2R)-2-hydroxy-2-phenylacetic acid Chemical compound O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1.O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1 QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N 0.000 claims description 9
- IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N R-2-phenyl-2-hydroxyacetic acid Natural products OC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229960002510 mandelic acid Drugs 0.000 claims description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 7
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical class OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 7
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 6
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 claims description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 5
- AXSZGQWPAAHKDH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-naphthalen-1-ylacetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(C(O)=O)O)=CC=CC2=C1 AXSZGQWPAAHKDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 4
- BWSFWXSSALIZAU-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorophenyl)-2-hydroxyacetic acid Chemical compound OC(=O)C(O)C1=CC=C(Cl)C=C1 BWSFWXSSALIZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AUNGANRZJHBGPY-UHFFFAOYSA-N D-Lyxoflavin Natural products OCC(O)C(O)C(O)CN1C=2C=C(C)C(C)=CC=2N=C2C1=NC(=O)NC2=O AUNGANRZJHBGPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DIWVBIXQCNRCFE-UHFFFAOYSA-N DL-alpha-Methoxyphenylacetic acid Chemical compound COC(C(O)=O)C1=CC=CC=C1 DIWVBIXQCNRCFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 3
- WDVSHHCDHLJJJR-UHFFFAOYSA-N Proflavine Chemical compound C1=CC(N)=CC2=NC3=CC(N)=CC=C3C=C21 WDVSHHCDHLJJJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N acridine orange free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=NC3=CC(N(C)C)=CC=C3C=C21 DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 claims description 3
- DZGUJOWBVDZNNF-UHFFFAOYSA-N azanium;2-methylprop-2-enoate Chemical compound [NH4+].CC(=C)C([O-])=O DZGUJOWBVDZNNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UKXSKSHDVLQNKG-UHFFFAOYSA-N benzilic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 UKXSKSHDVLQNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N benzoquinolinylidene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L erythrosin B Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000004174 erythrosine Substances 0.000 claims description 3
- 229940011411 erythrosine Drugs 0.000 claims description 3
- 235000012732 erythrosine Nutrition 0.000 claims description 3
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 3
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 3
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 3
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 claims description 3
- 229960000286 proflavine Drugs 0.000 claims description 3
- 239000002151 riboflavin Substances 0.000 claims description 3
- 235000019192 riboflavin Nutrition 0.000 claims description 3
- 229960002477 riboflavin Drugs 0.000 claims description 3
- FHVDTGUDJYJELY-UHFFFAOYSA-N 6-{[2-carboxy-4,5-dihydroxy-6-(phosphanyloxy)oxan-3-yl]oxy}-4,5-dihydroxy-3-phosphanyloxane-2-carboxylic acid Chemical compound O1C(C(O)=O)C(P)C(O)C(O)C1OC1C(C(O)=O)OC(OP)C(O)C1O FHVDTGUDJYJELY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940072056 alginate Drugs 0.000 claims description 2
- 229910001447 ferric ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical compound COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 2
- JADVWWSKYZXRGX-UHFFFAOYSA-M thioflavine T Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=[N+](C)C2=CC=C(C)C=C2S1 JADVWWSKYZXRGX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims 1
- PMNYTGAGAKEGJE-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diamine;sodium Chemical compound [Na].[Na].NCCN PMNYTGAGAKEGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 12
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 abstract description 7
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 abstract description 5
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 abstract description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 abstract description 2
- 238000009877 rendering Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 55
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 15
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 12
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 9
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 9
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 6
- XQXUNGHBKUCADB-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[1-(4-cyanophenyl)pyridin-1-ium-4-yl]pyridin-1-ium-1-yl]benzonitrile Chemical compound C1=CC(C#N)=CC=C1[N+]1=CC=C(C=2C=C[N+](=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)C#N)C=C1 XQXUNGHBKUCADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- FIKAKWIAUPDISJ-UHFFFAOYSA-L paraquat dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=C[N+](C)=CC=C1C1=CC=[N+](C)C=C1 FIKAKWIAUPDISJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 5
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- OIRDTQYFTABQOQ-KQYNXXCUSA-N adenosine Chemical compound C1=NC=2C(N)=NC=NC=2N1[C@@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H]1O OIRDTQYFTABQOQ-KQYNXXCUSA-N 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005630 Diquat Substances 0.000 description 3
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical class [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ITATYELQCJRCCK-UHFFFAOYSA-N Mandelic Acid, Methyl Ester Chemical compound COC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 ITATYELQCJRCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- WZHCOOQXZCIUNC-UHFFFAOYSA-N cyclandelate Chemical compound C1C(C)(C)CC(C)CC1OC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 WZHCOOQXZCIUNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- SYJFEGQWDCRVNX-UHFFFAOYSA-N diquat Chemical compound C1=CC=[N+]2CC[N+]3=CC=CC=C3C2=C1 SYJFEGQWDCRVNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- BHZBRPQOYFDTAB-UHFFFAOYSA-N 2-(4-bromophenyl)-2-hydroxyacetic acid Chemical compound OC(=O)C(O)C1=CC=C(Br)C=C1 BHZBRPQOYFDTAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BXWJMBTYWXFAHW-UHFFFAOYSA-L 4-[4-[1-(4-cyanophenyl)pyridin-1-ium-4-yl]pyridin-1-ium-1-yl]benzonitrile;dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(C#N)=CC=C1[N+]1=CC=C(C=2C=C[N+](=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)C#N)C=C1 BXWJMBTYWXFAHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RXGJTUSBYWCRBK-UHFFFAOYSA-M 5-methylphenazinium methyl sulfate Chemical compound COS([O-])(=O)=O.C1=CC=C2[N+](C)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 RXGJTUSBYWCRBK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002126 C01EB10 - Adenosine Substances 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N Nicotinamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CN=C1 DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960005305 adenosine Drugs 0.000 description 2
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- VCJMYUPGQJHHFU-UHFFFAOYSA-N iron(3+);trinitrate Chemical compound [Fe+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VCJMYUPGQJHHFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YDSWCNNOKPMOTP-UHFFFAOYSA-N mellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O YDSWCNNOKPMOTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 238000007540 photo-reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDOYKFSQFYNPKF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(carboxymethyl)amino]acetic acid;sodium Chemical class [Na].[Na].OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O BDOYKFSQFYNPKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Natural products OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N Hydrogen atom Chemical class [H] YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 235000004431 Linum usitatissimum Nutrition 0.000 description 1
- 240000006240 Linum usitatissimum Species 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N ammonium oxalate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)C([O-])=O VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001166 ammonium sulphate Substances 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001743 benzylic group Chemical group 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 1
- 229940000635 beta-alanine Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M bisulphate group Chemical group S([O-])(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 235000014633 carbohydrates Nutrition 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013043 chemical agent Substances 0.000 description 1
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 235000004426 flaxseed Nutrition 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000012458 free base Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 229960002449 glycine Drugs 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005217 methyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 235000005152 nicotinamide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011570 nicotinamide Substances 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- HVFSJXUIRWUHRG-UHFFFAOYSA-N oic acid Natural products C1CC2C3CC=C4CC(OC5C(C(O)C(O)C(CO)O5)O)CC(O)C4(C)C3CCC2(C)C1C(C)C(O)CC(C)=C(C)C(=O)OC1OC(COC(C)=O)C(O)C(O)C1OC(C(C1O)O)OC(COC(C)=O)C1OC1OC(CO)C(O)C(O)C1O HVFSJXUIRWUHRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229950002929 trinitrophenol Drugs 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/58—Processes for obtaining metallic images by vapour deposition or physical development
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
Description
Vynález se týká radiačně sensibilní desky.The invention relates to a radiation-sensitive plate.
Britský patent č. 1 310 812 popisuje radiačnů sensibilní desku, obsahující radiačně sensibilní vrstvu kompozice na bázi kvartérních amoniových solí. Jako· podložku obsahuje popsaná deska laminátový materiál (na který se kompozice nanáší namočením nebo poléváním), papír, jiný listový materiál nebo· sklo. Tato· deska může být •obecně použita jako- záznamový materiál s výjimkou jejího použití jako litografické desky, což je její podstatnou nevýhodou.British Patent No. 1 310 812 discloses a radiation sensitive plate comprising a radiation sensitive layer of a quaternary ammonium salt composition. As a support, the board described comprises a laminate (to which the composition is applied by dipping or glazing), paper, other sheet material, or glass. This plate can generally be used as recording material except for its use as lithographic plates, which is a significant disadvantage.
Výše uvedené nedostatky nemá radiačně sensibilní deska podle vynálezu, sestávající z podložky a radiačně sensibilní vrstvy, obsahující ia) kvartérní amoniovou sůl, s výhodou kvartérní amoniovou sůl obecného vzorceThe above-mentioned drawbacks have no radiation-sensitive plate according to the invention, consisting of a substrate and a radiation-sensitive layer comprising ia) a quaternary ammonium salt, preferably a quaternary ammonium salt of the general formula
ve kterém Ri až R1(J znamenají vodík, halogen nebo organický zbytek, Rii a R12 znamenají případně halogen nebo organický zbytek, z znamená 0· nebo· celé kladné číslo,wherein R 1 to R 1 (J is hydrogen, halogen or an organic radical, R 11 and R 12 are optionally halogen or an organic radical, z is 0 · or · an integer positive integer,
X ' ' znamená anion, n znamená 1 nebo 2 a nejméně jeden z dusíkových atomů je kvarte-rnizován, zejména kvartérní amoniovou sůl vzorcůX '' is an anion, n is 1 or 2 and at least one of the nitrogen atoms is quaternized, in particular the quaternary ammonium salt of the formulas
b) polymerní pojivo, jakým je například polyvinylalkohol, póly (amoniummethakrylát), želatina, alginát, kopolymer anhydridu kyseliny maleiinové, polysacharid nebo polyvinylpyrrxliidon, přičemž je s výhodou hmotnostní poměr amoniové soli k pojivu roven 1: 200 až 10 : 1, a popřípadě c) spektrální sensibilizátor jako riboflavin, 7-chlor-9- (N-тпе tliy ldie thy 1 a-minoe thy 1) isoalloxaziinchloritl, 3,6-dimethyl-2- (4-dimethylaminofenyl jbenzlhiazoiiumchlorid, 3,3‘-diethylthiakyanidjodid, proflavin, akridinovou oranž, aktiflavin, N-methylfenaziniummethyl sulfát, 4-kyanochmoiimummethojodid nebo erythrošin, d) povrchově aktivní činidlo· nebo· e) akcelerátor vyvíjení, jakým je například chlorid amonný nebo kysličník křemičitý nebo činidlo vázající komplexně železité ionty, jakým je například dvojsodná sůl kyseliny ethylendiaminotetraoctové nebo dvojamonná sůl kyseliny citrónové, přičemž kvartérní amoniová sůl je schopná přijmout nejméně jeden elektron při expozici zářením za vzniku sloučeniny schopné vázat kov z roztoku, obsahujícího sůl tohoto· kovu a redukční činidlo, při styku s tímto roztokem, jejíž podstata spočívá v tom, že jako podložku obsahuje hliníkovou podložku.b) a polymeric binder such as polyvinyl alcohol, poly (ammonium methacrylate), gelatin, alginate, maleic anhydride copolymer, polysaccharide or polyvinylpyrrxliidone, preferably the weight ratio of ammonium salt to binder is 1: 200 to 10: 1, and optionally c ) spectral sensitizer such as riboflavin, 7-chloro-9- (N-thiazolium thylaminomethyl) isoalloxazinium chloride, 3,6-dimethyl-2- (4-dimethylaminophenyl) benzylthiazolium chloride, 3,3'-diethylthiacyanide iodide, proflavin acridine orange, actiflavine, N-methylphenazinium methyl sulfate, 4-cyanoquinolium methoxide or erythrosine; d) a surfactant; or · e) an accelerator such as ammonium chloride or silicon dioxide or a complex iron binder such as disodium salt. ethylenediaminotetraacetic acid or a bivalent ammonium salt, the quaternary ammonium salt being capable of to receive at least one electron when exposed to radiation to form a compound capable of binding a metal from a solution comprising a salt of the metal and a reducing agent in contact with the solution, comprising the support of an aluminum substrate.
Radiačně sensibilní deska podle vynálezu s výhodou obsahuje zdrsněnou a anodicky upravenou hliníkovou podložku.The radiation-sensitive plate according to the invention preferably comprises a roughened and anodized aluminum backing.
Radiačně sensibilní deska podle vynálezu s výhodou obsahuje hliníkovou podložku, zdrsněnou kyselinou dusičnou a upravenou anodicky v prostředí kyseliny sírové.The radiation-sensitive plate according to the invention preferably comprises an aluminum substrate, roughened with nitric acid and anodically treated in sulfuric acid.
Radiačně sensibilní deska podle vynálezu s výhodou obsahuje hliiníko-vou podložku zdrsněnou ve směsi kyseliny chlorovodíkové a kyseliny octové nebo ve směsi kysliny dusičné a kyseliny octové.The radiation-sensitive plate according to the invention preferably comprises an aluminum support roughened in a mixture of hydrochloric acid and acetic acid or a mixture of nitric acid and acetic acid.
Radiačně sensibilní deska podle vynálezu s výhodou obsahuje v radiačně sensibilní vrstvě chemický sensibilizátor, jakým je například případně substituovaný derivát kyseliny mono- nebo diarylglykcdové nebo 1The radiation-sensitive plate according to the invention preferably comprises in the radiation-sensitive layer a chemical sensitiser, such as an optionally substituted mono- or diarylglycidic acid derivative or a chemical sensitizer.
-aryl-l-alkylglykolové nebo· odpovídající sůl nebo ether, jako je kyselina mandlová, kyselina benzylová, amonná sůl kyseliny mandlové, kyselina alfa-methoxyfenyloctová, kyselina p-chlormandlová, kyselina p-brommandlová nebo kyselina alfa-naftylglykolová.-aryl-1-alkylglycolic acid or a corresponding salt or ether such as mandelic acid, benzylic acid, ammonium salt of mandelic acid, alpha-methoxyphenylacetic acid, p-chloromandelic acid, p-bromomandelic acid or alpha-naphthylglycolic acid.
Výhodou radiačně sensibilní desky podle vynálezu je, že může být použita také jako litografická tisková deska. Tato- deska se vyznačuje vysokou rozlišovací schopností a ostrostí kresby; desky se hodí к litografie kému potiskování, přičemž jsou odolné vůči nejobtížnějším podmínkám, kterým jsou litografická tiskové desky vystaveny.An advantage of the radiation-sensitive plate according to the invention is that it can also be used as a lithographic printing plate. This board is characterized by high resolution and sharpness of the drawing; The plates are suitable for lithographic printing and are resistant to the most difficult conditions to which lithographic printing plates are exposed.
Kvartérní amoniovou solí může být sůl, popsaná v britském patentovém spise číslo 1310 812 a mající následující obecný vzorecThe quaternary ammonium salt may be a salt as described in British Patent Specification No. 1310 812 and having the following general formula:
nX ve kterém R1 až R10 znamenají vodík, halogen nebo organický zbytek, R11 a R12 případně znamenají halogen nebo organický zbytek, z znamená 0 nebo celé kladné číslo, X” znamená anio-n, n znamená 1 nebo 2 a alespoň jeden z dusíkových atomů je kvarternizován.nX in which R 1 to R 10 represent hydrogen, halogen or an organic radical, R 11 and R 12 optionally represent halogen or an organic radical, z represents 0 or a positive integer, X "represents anion-n, n represents 1 or 2 and at least one of the nitrogen atoms is quaternized.
Kvartérní amoniovou solí je s výhodou bikvartérní cyklická amoniová sůl, ze které vznikají adicí jednoho elektronu Weitzovy radikály. Tyto so-li mají charakter dikationtů, obsahují v molekule dusíkové atomy, nejméně jeden ze dvou dusíkových atomů je kvarte-rnizován, oba dusíkové atomy jsou součástí cyklických struktur, které jsou spolu spojeny, jsou alespoň částečně aromatické a spojení mezi oběma cyklickými strukturami tvoří řetězec konjugovaných nenasycených vazeb.The quaternary ammonium salt is preferably a biquaternary cyclic ammonium salt from which a single electron is formed by Weitz radicals. These dication salts contain nitrogen atoms in the molecule, at least one of the two nitrogen atoms is quaternized, both nitrogen atoms are part of the cyclic structures that are joined together, are at least partially aromatic, and the link between the two cyclic structures forms a chain conjugated unsaturated bonds.
Zvláště výhodnými bikvartérními amoniovými solemi pro radiačně sensibilní desky podle vynálezu jsou bipyridyliové soli vzorců 1 až 3:Particularly preferred biquaternary ammonium salts for the radiation-sensitive plates according to the invention are the bipyridyl salts of formulas 1 to 3:
S výhodou je kvartérní amoniová sůl před vystavením účinku záření bezbarvá nebo jen slabě zbarvená a látka, jež vzniká ozářením, je zbarvená, takže ozářením vzniká dobře viditelný zbarvený obraz. Tak například N,N-di-(p-kyanof enyl)-4,4‘-bipyridyliový kation, který vzniká adicí jednoho· elektronu na N!,N-di- (p-kyanofenyl ] -4,4‘-bipyridyliový dikation, je zelený a odpovídající neutrální molekula, vzniklá adicí dvou elektronů na N,N-dt-(p-kyanofenyl)-4,4‘-bipyridyliiový dikation, je červená.Preferably, the quaternary ammonium salt is colorless or only slightly colored before exposure to radiation and the irradiation substance is colored so that the irradiation produces a well visible colored image. For example, N, N-di- (p-cyanophenyl) -4,4'-bipyridylium cation, which results from the addition of a single electron to N 1 . , N-di- (p-cyanophenyl) -4,4'-bipyridyl dication, is a green and corresponding neutral molecule, formed by the addition of two electrons to N, N-dt- (p-cyanophenyl) -4,4'-bipyridyl dication is red.
Kvartérní 'amoniová sůl může obsahovat jediný kation nebo může tvořit část složitější molekuly, jakou je například dimerní kationtová sloučenina. Může to být polymerní materiál s alespoň jednou cyklickou strukturou, obsahující kvartérní dusíkové atomy v polymerním řetězci nebo/a v koncových skupinách nebo/a v postranních řetězcích.The quaternary ammonium salt may comprise a single cation or may form part of a more complex molecule, such as a dimeric cationic compound. It may be a polymeric material with at least one cyclic structure containing quaternary nitrogen atoms in the polymer chain and / or in the end groups and / or in the side chains.
Jako anionty kvartérních amoniových solí přicházejí v úvahu anionty halo-genidové, chloristanové, tetrafluorborátové, silikofluoridové, methylsíranové, bisulfátové nebo polymerní anionty, jakým je například polyakrylátový anion. Přítomnost atomů bromu nebo jodu je méně žádoucí, protože ve srovnání s atomy chloru nebo fluoru působí brom a jod jako silné tlumiče vzbuzeného stavu kationtu. Anionty nemají mít charakter činidel oxidačních nebo redukčních a nemají chemicky reagovat s rozpouštědly nebo dalšími použitými materiály radiačně sensibilní vrstvy.Suitable anions of quaternary ammonium salts are the anions of halide, perchlorate, tetrafluoroborate, silicofluoride, methylsulphate, bisulphate or polymeric anions such as a polyacrylate anion. The presence of bromine or iodine atoms is less desirable, since bromine and iodine act as strong cationic depressants as compared to chlorine or fluorine atoms. The anions should not be oxidizing or reducing agents and should not chemically react with solvents or other materials of the radiation-sensitive layer.
Kvartérní amoniová sůl může být v radičně sensibilní vrstvě přítomna ve směsi s polymerním filmotvorným pojivém. Pojivo může být takového· typu, že je inertní vůči látce, vzniklé ozářením kvartérní amoniové soli nebo že se vyznačuje stabilizačním účinkem na tuto látku. Tímto způsobem je možné stabilizovat některé látky, které jsou jinak obvykle vysoce aktivní a mohou být stabilizovány na dobu dostačující к tomu, aby bylo možné provést další reakci s roztokem pro bezproudové pokovování. Jako· vhodný filmotvorný polymer ro-zpustný nebo bobtnatelný ve vodě, který se dá použít jako pojivo, je možné jmenovat polyvinylalkohol, póly (amoniummethakrylát), želatinu, algináty a kopolymery anhydridu kyseliny maleinové, například kopolymer anhydridu kyseliny maleinové se styrenvinyletherem nebo ethylenem. Jako pojivá se mohou rovněž použít rozpustné polysacharidy, jako je polysacharóza, právě tak jako póly (viny lpyrrolidon) bud jako· takový, nebo ve směsi s polyvinylalkoholem. Mohou se použít polyvinylalkoholy různých viskozit a s různým stupněm hydrolýzy, ale za výhodný je třeba uvést nejdosažitelnější stupeň hydrolýzy, protože rozpustnost těchto látek v roztocích solí kovu je za teploty okolí malá. Relativní hmotnostní množství kvartérní amoniové soli a pojivá v radiačně sensibilní vrstvě může být například v poměru 1: 200 do 10·: : 1..The quaternary ammonium salt may be present in a radically sensitive layer in admixture with a polymeric film-forming binder. The binder may be of a type that is inert to the substance formed by irradiation of the quaternary ammonium salt or is characterized by a stabilizing effect on the substance. In this way, it is possible to stabilize some substances that are otherwise usually highly active and can be stabilized for a time sufficient to allow further reaction with the electroless plating solution. Suitable water-soluble or water-swellable film-forming polymer which can be used as a binder include polyvinyl alcohol, poly (ammonium methacrylate), gelatin, alginates and maleic anhydride copolymers, for example maleic anhydride copolymer with styrene vinyl ether or ethylene. Soluble polysaccharides such as polysaccharose can also be used as binders, as well as poles (vinylpyrrolidone) either as such or in admixture with polyvinyl alcohol. Polyvinyl alcohols of different viscosities and with different degrees of hydrolysis may be used, but the most achievable degree of hydrolysis is preferred, since the solubility of these materials in metal salt solutions is low at ambient temperature. The relative amount by weight of the quaternary ammonium salt and binder in the radiation-sensitive layer may be, for example, in a ratio of 1: 200 to 10: 1: 1.
Spektrální citlivost kvartérních amoniových solí lze posunout do viditelné oblasti spektra přidáním spektrálních sensibilizátorů do radiačně sensibilní vrstvy.The spectral sensitivity of the quaternary ammonium salts can be shifted to the visible region of the spectrum by adding spectral sensitizers to the radiation sensitive layer.
Za vhodné sensibilizátory lze označit riboflavin ve formě volné báze, 7-chlor-9-(N-imethyldiethylaminoethyljisoalloxaziinchlorid a arkolonovou žluť, což je barvivo, obsahující 3,6-dimethyl-2- (4-dimethylaminofenyljbenzthiazoliumchlorid. Z dalších sensibilizátorů, kterých je možné použít, lze uvést S^-diethylthiokyanidjodid, proflavin, akridinovou oranž, akriflavin, N-methylfenaziniummethylsulfát, 4-kyanochinoliniummethojodid a erythrosin.Suitable sensitisers include riboflavin free base, 7-chloro-9- (N-imethyldiethylaminoethyl) isoalloxazinium chloride, and arcolone yellow, a dye containing 3,6-dimethyl-2- (4-dimethylaminophenyl) benzothiazolium chloride. mention may be made of N, N -diethylthiocyanide iodide, proflavine, acridine orange, acrriflavine, N-methylphenazinium methyl sulfate, 4-cyanoquinolinium methoxide and erythrosine.
Rovněž mohou být v radiačně sensibilní vrstvě obsaženy chemické sensibilizátory, které mohou zvýšit citlivost radiačně sensibilní vrstvy. Jsou to látky obsahující aktivní vodík a patří sem alkoholy, aminy, fenoly, karboxylové kyseliny a sacharidy. Jako příklady těchto látek je možné uvést glukózu, kyselinu oxalovou, kyselinu p-chlorbenzoovou, glycerol, kyselinu mellitovou, triethanolamin, thiazin, fenol, kyselinu ethylendiamitetraoctovou ve formě dvojsodtné soli, kyselinu pikrovou, glycin, beta-alanin, dále amid kyseliny nikotinové a adenosindinukleotidfosfát. Za výhodné chemické sensibilizátory lze uvést případně substituované mono- nebo diaryl nebo 1-aryl-l-alkylderiváty kyseliny glykolové nebo ethery, soli nebo jiné deriváty uvedených kyselin. Za zvláště výhodné chemické sensibilizátory je třeba pokládat kyselinu mandlovou, kyselinu benzylovou, kyselinu p-brommandlovoú, kyselinu alfa-methoxyfenyloctovou, kyselinu p-chlormaindlovou, kyselinu alfa-naftylglykolovou a amonnou sůl kyseliny mandlové.Chemical sensitizers may also be included in the radiation-sensitive layer, which may increase the sensitivity of the radiation-sensitive layer. These are active hydrogen containing substances and include alcohols, amines, phenols, carboxylic acids, and carbohydrates. Examples include glucose, oxalic acid, p-chlorobenzoic acid, glycerol, mellitic acid, triethanolamine, thiazine, phenol, ethylenediamitetraacetic acid in the form of the disodium salt, picric acid, glycine, beta-alanine, nicotinic acid amide and adenosine adenosine. . Preferred chemical sensitizers include optionally substituted mono- or diaryl or 1-aryl-1-alkyl derivatives of glycolic acid or ethers, salts or other derivatives of said acids. Particularly preferred chemical sensitizers are mandelic acid, benzylic acid, p-bromomandelic acid, alpha-methoxyphenylacetic acid, p-chloromethylindic acid, alpha-naphthylglycolic acid, and the ammonium salt of mandelic acid.
V radiačně sensibilní vrstvě mohou být obsaženy také další potřebné látky. Mohou se sem přidávat například povrchově aktivní látky, které napomáhají vzniku hladkých •a rovnoměrných radiačně sensibilních vrstev na podložce. V radiačně sensibilní vrstvě mohou být obsažena také činidla vázající komplexně železité ionty, které lokálně o-vlivňují vlastnosti roztoků pro bezproudové pokovování. Jako příklady takových sloučenin, které lze označit jako urychlovače vyvíjení, lze uvést kyselinu ethylemdiamintetraoctovou ve formě dvojsodné soli, chlorid amonný, monohydrogencitronan amonný a oxid křemičitý, přičemž posledně uvedené dvě látky jsou zvláště výhodné.Other necessary substances may also be included in the radiation-sensitive layer. For example, surfactants may be added to aid in the formation of smooth and uniform radiation-sensitive layers on the substrate. Complexes of ferric ions that locally affect the properties of electroless plating solutions can also be included in the radiation-sensitive layer. Examples of such compounds that may be referred to as development accelerators include ethyl disodium tetraacetate in the form of the disodium salt, ammonium chloride, ammonium monohydrogen citronate and silica, the latter being particularly preferred.
Použitá podložka má být bud přímo inertní vůči radiálně sensibilní vrstvě, nebo má být schopná pasivaoe do míry nezbytné к dosažení uvedené inertnosti. Jedná se o hliník. Za výhodnou podložku v případech, kdy se má deska použít při litografických tiskových postupech, je třeba označit hliník o vysoké čistotě, obsahující nejméně 99 % hliníku, s výhodou 99,3 až 99,7 % hliníku.The pad used should either be directly inert to the radially sensitive layer or be capable of passivation to the extent necessary to achieve said inertness. It is aluminum. A preferred substrate for use in lithographic printing processes is high purity aluminum containing at least 99% aluminum, preferably 99.3 to 99.7% aluminum.
Je výhodné, aby povrch podložky, na který se má nanést radiačně sensibilní vrstva, byl zdrsněn; podporuje se tím adheze radiačně semsibilní vrstvy к podložce a zlepší se tím i tiskový obraz. Povrchové zdrsnění rovněž podstatně usnadní udržování správného poměru barvy к vodě během tisku.Preferably, the surface of the substrate to which the radiation-sensitive layer is to be applied is roughened; this promotes adhesion of the radiation-compatible layer to the substrate and improves the printing image. Surface roughening will also make it much easier to maintain the correct color to water ratio during printing.
Zdrsnění povrchu se dá dosáhnout celou řado-u postupů, které jsou odborníkům známé. Zdrsnění lze provést mechanicky 'rotačními kartáči, pískováním nebo zrněním kuličkami. Zdrsnění povrchu se dá rovněž docílit jednoduše leptáním různými chemickými čjmclly. Avšak výhodným způsobem ozrnění povrchu je elektrochemický postup. Provádí se ponořením kovu ve formě listu nebo desky (šaržovitý postup) nebo ve svinuté formě (ko-ntinuální postup) do lázně vhodné kyseliny nebo· směsi kyselin, načež se nechá probíhat střídavý proud mezi kovem a například grafitovými elektrodami. Jako kyseliny se může v případě hliníku použít kyseliny chlorovodíkové jako takové nebo ve směsi s jinými chemickými činidly, jakým je například kyselina octová nebo se může použít kyseliny du-s oné bud jako takové, nebo ve směsi s jinými látkami, jakou je například kyselina octová. S výhodou se opatří podložka jemným oženěním.Surface roughening can be achieved by a variety of procedures known to those skilled in the art. Roughening can be carried out mechanically by rotary brushes, sandblasting or ball grain. Surface roughening can also be achieved simply by etching with various chemical elements. However, the preferred method of surface gelling is the electrochemical process. It is carried out by dipping the metal in sheet or plate form (batch process) or in coiled form (continuous process) in a bath of a suitable acid or acid mixture, and then alternating current between the metal and, for example, graphite electrodes is allowed to proceed. As the acid in the case of aluminum, hydrochloric acid as such or in admixture with other chemical agents such as acetic acid or other acids such as acetic acid or in combination with other substances such as acetic acid may be used . Preferably, the mat is provided with a gentle marriage.
Po provedeném ozrnění se má podložka očistit, aby se zbavila produktů z postupu zdrsnění, které by mohly reagovat s radiačně sensibilní vrstvou. Cštění se může provádět známým způsobem, jako například průchodem ozrněného kovu, alespoň jednou lázní, obsahující kyseliny nebo/a báze.After the granulation has been carried out, the mat should be cleaned to remove products from the roughening process that could react with the radiation-sensitive layer. The purification can be carried out in a known manner, such as by passing the armed metal through at least one bath containing acids and / or bases.
Také je výhodné upravit povrch podložky anodicky. Má-li anodická vrstva dostatečnou tloušťku, potom znemožňuje, aby radiačně sensibilní vrstva chemicky reagovala s kovem a rovněž se tím zvyšuje počet kopií, které lze získat použitím tiskové desky na tiskařském lisu. Anodickou úpravu lze provést za použití různých elektrolytů, které jsou odborníkům známé. Za výhodný elektrolyt je třeba označit kyselinu sírovou.It is also advantageous to anode the surface of the substrate. If the anodic layer has a sufficient thickness, it makes it impossible for the radiation-sensitive layer to chemically react with the metal, and also increases the number of copies obtainable by using a printing plate on a printing press. The anodic treatment can be performed using various electrolytes known to those skilled in the art. The preferred electrolyte is sulfuric acid.
Radiačně sensibilní deska podle vynálezu se připraví tak, že se na povrch, s výhodou ozrněného nebo anodicky upraveného hliníku, nanáší ovrstvovací roztok, obsahující kvartérní amoniovou sůl, případně pojivo a další vhodné přísady. Množství kvartérní amoniové soli a případného· pojivá v ovrstvovacím roztoku nemá rozhodující význam, přičemž toto mno-žství je diktováno' výlučně citlivostí a praktickými důvody. Vhodných výsledků lze dosáhnout za použití ovrstvovacího roztoku s obsahem až 20 hmotnostních dílů polymerního pojivá rozpustného ve vodě, 0,1 až 10 hmotnostních dílů kvartérní amoniové soli a 70 až 99,9 hmotnostních dílů vody. Ovrstvovací roztok se může nanášet na podložku rozličnými způsoby, přičemž máčení nebo nanášení válcem je možné označit za postup výhodný.The radiation-sensitive plate according to the invention is prepared by applying a coating solution containing a quaternary ammonium salt, optionally a binder and other suitable additives, to the surface, preferably of the coated or anodized aluminum. The amount of quaternary ammonium salt and optional binder in the coating solution is not critical, and this amount is dictated solely by sensitivity and practical reasons. Suitable results can be obtained using a coating solution containing up to 20 parts by weight of a water-soluble polymeric binder, 0.1 to 10 parts by weight of a quaternary ammonium salt and 70 to 99.9 parts by weight of water. The coating solution can be applied to the substrate in a variety of ways, with dipping or roll coating being preferred.
Při použití radiačně sensibilní desky podle vynálezu při výrobě litografických tiskových desek se vystaví radiačně sensibilní vrstva obrazové expozici aktinického záře10 ní, například ultrafialového světla. Kvartérní amoniová sůl přijme alespoň jeden elektron v místě, které je zasaženo zářením, takže v radiačně sensibilní vrstvě vznikne negativní obraz podlohy. Tak například v případě, kdy kvartérní amoniová sůl je diakationem (jako normální stabilní stav ve vodném prostředí) a odpovídá obecnému vyjádření Q2+, proběhne vlivem záření tato reakce:When using the radiation-sensitive plate according to the invention in the manufacture of lithographic printing plates, the radiation-sensitive layer is exposed to image exposure to actinic radiation, for example ultraviolet light. The quaternary ammonium salt receives at least one electron at a location that is affected by radiation so that a negative image of the substrate is formed in the radiation-sensitive layer. For example, in the case where the quaternary ammonium salt is a diacation (as a normal stable state in an aqueous medium) and corresponds to the general expression of Q 2+ , the following reaction occurs under the influence of radiation:
Q ==± Q Q e Obraz je tvořen kationtem Q+ nebo neutrální molekulou Q, přičemž na obou těchto částicích se může usazovat kov z roztoku pro bezproudové pokovování.Q == ± QQ e The image is formed of a cation Q + or a neutral molecule Q, and on both of these particles metal may deposit from the electroless plating solution.
Obrazově exponovaná deska se nemusí zpracovávat ihned; ačkoliv obraz ztrácí kvalitu za přítomnosti vlhkosti a kyslíku, je exponovaná deska dosatatečně stálá, aby se dala zpracovat za obvyklých podmínek například na kopírovacím stroji. Je-li však třeba uskladnit obrazově exponovanou desku na delší dobu, pak je nejlépe, učiní-li se tak v suchém stavu a/nebo v prostředí bez kyslíku.The image-exposed plate may not be processed immediately; although the image loses quality in the presence of moisture and oxygen, the exposed plate is sufficiently stable to be processed under normal conditions, for example, on a copier. However, if the image exposed plate needs to be stored for an extended period of time, it is best to do so in a dry and / or oxygen-free environment.
Obrazově exponovaná deska se zpracovává dále tak, že se uvádí do styku s roztokem pro bezproudové pokovování, například roztokem, obsahujícím stříbrnou sůl a redukční činidlo. Takové roztoky jsou známé a je možné z nich nanášet kov bez použití elektrického pole.The image exposed plate is further processed by contacting a electroless plating solution, for example a solution containing a silver salt and a reducing agent. Such solutions are known and it is possible to deposit metal therefrom without the use of an electric field.
Adhezní kovový obraz se tedy nanese na plochy vrstvy zasažené zářením. Jakmile se takto nanese jen stopa kovu, může tato stopa katalyzovat další nanášení téhož nebo i jiného kovu z vhodného roztoku. A tímto způsobem vzniká kovový obraz. Množství naneseného kovu je závislé na četných proměnných veličinách, jakými jsou, složení radiačně sensibilní vrstvy, doba expozice, doba styku s roztokem pro bezproudové pokovování a složení uvedeného roztoku. V případě stříbrných obrazů se dají dosáhnout plošné hmotnosti kovového obrazu až 25 g/ /m2 a i výše. Další úpravu je možné provést za účelem zvýšení oleofility ploch kovového obrazu a hydrofility neobrazových ploch. Desku je 'rovněž možné obarvit a potom zpracovat obvyklým způsobem použitím roztoku gumy před upevněním v tiskařském lisu. Takto upravenou desku je možné použít v lisu к potištění velkého· množství listů s neobyčejně vysokou kvalitou. Deska se rovněž hodí pro· ofsetové tisky a pro přímou litografii.The adhesive metal image is therefore applied to the radiation-affected surface of the layer. Once only a trace of metal has been deposited, this trace can catalyze further deposition of the same or other metal from a suitable solution. And in this way a metal image is created. The amount of metal deposited depends on numerous variables such as the composition of the radiation-sensitive layer, the exposure time, the contact time with the electroless plating solution, and the composition of said solution. In the case of silver images, the basis weight of the metal image can be as high as 25 g / m 2 and above. Further treatment may be performed to increase the oleophilicity of the metal image areas and the hydrophilicity of the non-image areas. The plate may also be dyed and then treated in the usual manner by using a rubber solution prior to mounting in a printing press. The plate thus treated can be used in a press to print a large number of sheets with extremely high quality. The plate is also suitable for offset printing and direct lithography.
Vynález bude v následující části popisu blíže objasněn formou příkladů provedení;The invention will now be described in more detail by way of examples;
pokud zde není uvedeno výslovně jinak, jsou množství jednotlivých složek uváděna v hmotnostních dílech. Plošná hmotnost radiačně sensibilní vrstvy je v následujících příkladech rovna 0,2 g/m2. Roztok pro bezproudové pokovování s obsahem stříbra použití v uvedených příkladech se připraví smícháním 100 ml roztoku I, 25 ml roztoku II a 25 ml roztoku III, které mají následující složení:unless otherwise indicated, amounts of the individual components are by weight. The basis weight of the radiation-sensitive layer is 0.2 g / m 2 in the following examples. The silver plating solution containing silver used in the examples is prepared by mixing 100 ml of solution I, 25 ml of solution II and 25 ml of solution III having the following composition:
Roztok ISolution I
Složky Množství (g)Ingredients Quantity (g)
Dusičnan stříbrný 25Silver nitrate 25
Voda Doplnit na litrWater Make up to liter
Následující příklady provedení mají pouze ilustrativní charakter a vlastní rozsah vynálezu, daný definicí předmětu vynálezu, nikterak neomezují.The following examples are illustrative only and are not intended to limit the scope of the invention in any way.
Příklad 1Example 1
Připraví se ovrstvovací roztok dále uvedeného sležení, který se nanese pomocí válce na hliníkový list, který byl zdrsněn kyselinou octovou, zbaven nečistot kyselinou fosforečnou a potom anodicky upraven v prostředí kyseliny sírové.A coating solution of the following step is prepared, which is applied by means of a roller to an aluminum sheet which has been roughened with acetic acid, stripped of impurities with phosphoric acid and then anodized in sulfuric acid.
Složení ovrstvovacího roztokuComposition of coating solution
N,N‘-di- (p-kyanofenyl)-4,4'-bipyridyliumdichlorid1N, N‘-di- (p-cyanophenyl) -4,4'-bipyridylium dichloride1
Polyvinylalkohol5Polyvinyl alcohol5
Riboflavin0,5Riboflavin0,5
Hydrát kyseliny citrónové1,3Citric acid hydrate1,3
Hydroxid sodný0,5Sodium hydroxide0,5
Voda95 mečkem. Výsledný obraz je zelený. Exponovaná deska se ponoří na dobu 3 minut za teploty okolí do roztoku pro bezproudové pokovování stříbrem. Zelený obraz se přitom převrství černým obrazem kovového stříbra; leštěním je možné získat lesklý stříbrný obraz, který je ve vodivém dotyku s hliníkovou podložkou.Water95 sword. The resulting image is green. The exposed plate is immersed for 3 minutes at ambient temperature in a silver free plating solution. The green image overlaps with the black image of metallic silver; By polishing it is possible to obtain a shiny silver image that is in conductive contact with the aluminum substrate.
Příklad 2Example 2
Připraví se dále uvedený ovrstvovací roztok a tento roztok se použije к přípravě radiačně sensibilní desky stejným způsobem, jaký je popsán v příkladě 1 s tím rozdílem, že doba expozice činí 4 minuty.The following coating solution was prepared and used to prepare a radiation sensitive plate in the same manner as described in Example 1 except that the exposure time was 4 minutes.
Složení ovrstvovacího roztokuComposition of coating solution
N,N‘-di-(p-kyanofenyl )-4,4‘-bipyridylium chlorid2N, N‘-di- (p-cyanophenyl) -4,4‘-bipyridylium chloride2
Polyvinylalkohol5Polyvinyl alcohol5
Voda95Voda95
Neionogenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatických alkoholem)0,02Nonionic surfactant (condensation product of ethylene oxide with aliphatic alcohol) 0,02
7-Chlor-9- (N-methyldiethylaminoethyl ) -isoalloxazinchlorid17-Chloro-9- (N-methyldiethylaminoethyl) -isoalloxazine chloride
Hydrát amonné soli kyseliny oxalové2Oxalic acid ammonium salt hydrate2
Deska se exponuje a zpracovává jako v příkladu 1 s tím rozdílem, že doba expozice činí 4 minuty. Získá se zelený obraz jako v příkladu 1.The plate is exposed and processed as in Example 1 except that the exposure time is 4 minutes. A green image is obtained as in Example 1.
Příklad 3Example 3
Připraví se dále uvedený ovrstvovací roztok, který se použije к přípravě radiačně sensibilní desky postupem, popsaným v příkladu 1.The following coating solution was prepared and used to prepare a radiation-sensitive plate as described in Example 1.
Složení ovrstvovacího roztokuComposition of coating solution
N,N‘-di-(p-kyanofenyl)-4,4‘-bopyrodylinuinchlorid1N, N‘-di- (p-cyanophenyl) -4,4‘-bopyrodylinin chloride1
Polyvinylalkohol5Polyvinyl alcohol5
Voda,95Water, 95
Neionogenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatickým alkoholem)0,02Nonionic surfactant (condensation product of ethylene oxide with aliphatic alcohol) 0,02
7-Chlor-9- (N-methyldiethylaminoethyl) -isoalloxazinchlorid0,57-Chloro-9- (N-methyldiethylaminoethyl) -isoalloxazine chloride 0.5
Kyselina ethylendiamintetraoctová1Ethylenediaminetetraacetic acid1
Získaná radiačně sensibilní deska se vystaví na dobu 1,5 minuty expozici záření skrze negativní předlohu upevněnou v rámečku, přičemž se jako zdroje použije 300 W lamp, umístěných 600 mm nad ráDeska se exponuje jako v příkladu 1 s výjimkou, že doba expozice je 1 minuta.The resulting radiation-sensitive plate is exposed for 1.5 minutes to radiation through a frame-mounted negative pattern using 300 W lamps located 600 mm above the rim as sources as in Example 1, except that the exposure time is 1 minute .
Zelený obraz na exponované desce se nahradí černým obrazem kovového stříbra potom, co se deska ponoří na dobu 3 minuty za teploty okolí do roztoku pro bezproudové pokovování stříbrem. Povrch desky se potom pretírá chomáčkem vaty, jež je napojena disperzí organické merkaptosloučeniny a smáčedla. ve vodě; zvýší se tím počáteční schopnost stříbrného obrazu přejímat barvu. Po vybarvení a nanesení gumy obvyklým způsobem se deska umístí v ofsetovém tiskovém lisu s přísunem volných listů. Dá se tak získat několik set dobrých kopií s jasným pozadím.The green image on the exposed plate is replaced by a black image of metallic silver after the plate has been immersed for 3 minutes at ambient temperature in an electroless silver plating solution. The surface of the plate is then overcoated with a wad of cotton which is bonded with a dispersion of an organic mercapto compound and a wetting agent. in the water; this will increase the initial ability of the silver image to acquire color. After dyeing and applying the rubber in the usual manner, the plate is placed in an offset press with a feed of loose sheets. This makes it possible to get several hundred good copies with a bright background.
Příklad 4Example 4
Opakuje se postup podle příkladu 1 za použití dále uvedeného ovrstvovacího roztoku .a za .doby expozice 4 minuty.The procedure of Example 1 is repeated using the coating solution below and a 4 minute exposure period.
Složení ovrstvovacího roztokuComposition of coating solution
N,N‘-di- (p-kyanof enyl) -4,4‘-bipyridyliumchlorid2N, N‘-di- (p-cyanophenyl) -4,4‘-bipyridylium chloride2
Polyvinylalkohol2,5Polyvinyl alcohol2,5
Polyvinylpyrrolidon [molekulová hmotnost 770 Ю00)2,5Polyvinylpyrrolidone (MW 770 Ю00) 2.5
Voda95,5Water95.5
Příklad 5Example 5
Opakuje se postup podle příkladu 1 za použití dále zmíněného ovrstvovacího roztoku . a doby expozice 10 minut.The procedure of Example 1 was repeated using the coating solution below. and exposure time of 10 minutes.
Složení ovrstvovacího· roztokuComposition of coating solution
N,N‘-di- (p-kyanofeinyl) -4,4‘-bipyridyliumchlorid1N, N‘-di- (p-cyanopheinyl) -4,4‘-bipyridylium chloride1
7-Chlor-9-(N-methyldiethylaminoethyl Jisoalloxazinchlorid0,57-Chloro-9- (N-methyldiethylaminoethyl) isoalloxazine chloride 0.5
Dvojsodná sůl kyseliny ethylendiamintetraoctové1Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt1
Neionogenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s .alifatickým alkoholem)0,02Nonionic surfactant (condensation product of ethylene oxide with aliphatic alcohol) 0.02
Kopolymer amidu kyseliny akrylové, kyseliny akrylové a sodné soli kyseliny akrylové3A copolymer of acrylic acid amide, acrylic acid and sodium acrylic acid3
Voda!77Water!
Získaná deska se exponuje po· dobu 2· minut jako v příkladu 1. Získá se .purpurový obraz. Při úpravě roztokem pro bezproudové pokovování stříbrem nelze na .obraz nanést dodatečné množství stříbra, aby bylo možné připravit leštěný stříbrný obraz.The plate obtained is exposed for 2 minutes as in Example 1. A purple image is obtained. When treated with an electroless silver plating solution, an additional amount of silver cannot be deposited on the image to produce a polished silver image.
Příklad 7Example 7
Připraví se dále uvedený .ovrstvovací .roztok, který se .nanáší ve formě vrstvy na jemně ozrněnou a anodicky upravenou hliníkovou podložku.The following laminate solution is prepared and applied in the form of a layer to a finely coated and anodized aluminum support.
Složení ovrstvovacího roztokuComposition of coating solution
Paraquat1Paraquat1
Polyvinylalkohol5Polyvinyl alcohol5
Voda95Voda95
Neionogenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatickým alkoholem)0,1Nonionic surfactant (condensation product of ethylene oxide with aliphatic alcohol) 0,1
7-Chlor-9-(N-methyldiethylaminoethyl jisoalloxazinchlorid0,57-Chloro-9- (N-methyldiethylaminoethyl) isoalloxazine chloride 0.5
Kyselina ethylendiamintetraoctová2Ethylenediaminetetraacetic acid2
Kyselina. benzylová1,2Acid. benzylic1,2
Hydroxid sodný Upravit na hodnotu pH 4Sodium hydroxide Adjust to pH 4
Takto připravená radiačně sensibilní deska se obrazově exponuje po· dobu 3 minut jako v příkladu 1. Získá se purpurový . obraz.The thus prepared radiation-sensitive plate is imaged for 3 minutes as in Example 1. A purple is obtained. picture.
Příklad 8Example 8
Opakuje se postup podle příkladu 7 za použití diquatu místo paraquatu. Získá se tím bledě modrý obraz.The procedure of Example 7 was repeated using diquat instead of paraquat. This produces a pale blue image.
Příklad 9Example 9
Opakuje se postup podle příkladu 1 za .použití dále uvedeného ovrstvovacího roztoku a doby expozice 2 minuty.The procedure of Example 1 is repeated using the coating solution described below and an exposure time of 2 minutes.
Složení ovrstvovacího roztokuComposition of coating solution
Příklad 6Example 6
Připraví se dále uvedený ovrstvovací roztok, který se nanáší na válci na jemně zrněný hliníkový list po anodické úpravě.The following coating solution is prepared, which is applied on a roller to a fine-grained aluminum sheet after anodic treatment.
Složení ovrstvovacího· roztoku •Amontová sůl struktury paraquatu s výjimkou, že .místo methylových skupin obsahuje skupiny benzylové1Composition of the coating solution • Ammonium salt of paraquat structure, except that it contains benzyl groups instead of methyl groups1
Polyvinylalkohol1Polyvinyl alcohol1
Voda69Voda69
7-Chlor-9- (N-methyldlethylaminoethy 1) isoalloxazlnchiorid0,57-Chloro-9- (N-methyldlethylaminoethyl) isoalloxazoline chloride 0.5
Kyselina benzylová2;Benzylic acid2;
Dímethylformamid30Dimethylformamide30
N,N‘-di- (p-kyanofenyl) -4,4‘-bipyridyliumchlorid1N, N‘-di- (p-cyanophenyl) -4,4‘-bipyridylium chloride1
7-Chlor-9- (N-methyldiethylaminoethyl Jisoalloxazinchlorid0,57-Chloro-9- (N-methyldiethylaminoethyl) isoalloxazine chloride 0.5
Chlorid amonný0,57Ammonium chloride 0.57
Kyselina mandlová1Mandelic acid1
Amonná sůl kyseliny mandlové1Ammonium salt of mandelic acid1
Neionogenní .smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatickým alkoholem)0,1Nonionic surfactant (condensation product of ethylene oxide with aliphatic alcohol) 0.1
Želatina2Gelatin2
Voda98Voda98
Získá se zelený obraz.A green image is obtained.
Příklad 10Example 10
-Ooak-uje se postup podle příkladu 3 za použití dále uvedeného ovrstvovacího roztoku a doby expozice 2 minuty.The procedure of Example 3 was repeated using the coating solution below and an exposure time of 2 minutes.
Složení ovrstvovacího roztokuComposition of coating solution
N,N‘-di- [ p-ky anof einyl) -4,4‘-bipyridyliumchlorid1N, N‘-di- [β-cyanophenyl) -4,4‘-bipyridylium chloride1
7-Chlor-9- (N-methyldiethy 1aminoethyinsoalloxazinchlori-d0,57-Chloro-9- (N-methyldiethylaminoethyinsoalloxazinchloride)
Chlorid «amonný0,6Ammonium chloride0,6
Kyselina mandlová2Mandelic acid2
NeionOgenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatickým alkoholem)0,5Nonionic surfactant (condensation product of ethylene oxide with aliphatic alcohol) 0,5
Polyvinylalkohol5Polyvinyl alcohol5
Voda95Voda95
Získá se dobrý tisk o vysoké kvalitě a s jasným pozadím.This produces good, high-quality prints with a clear background.
Příklad 11Example 11
Opakuje se postup podle příkladu 3 za použití dále uvedeného ovrstvovacího roztoku a doby expozice 30 sekund.The procedure of Example 3 was repeated using the coating solution below and an exposure time of 30 seconds.
Složení ovrstvovacího roztokuComposition of coating solution
N,N‘-di- (p-kyanof enyl) -4,4‘-bipyridyliumchlorid1N, N‘-di- (p-cyanophenyl) -4,4‘-bipyridylium chloride1
Polyvinylalkohol3Polyvinyl alcohol3
7-Chlor-9- (N-methy idiethylaminoethyl) isoalloxazinchlorid0,57-Chloro-9- (N-methylethylaminoethyl) isoalloxazine chloride 0.5
Kyše lina, benzy lová21Linseed, Benzyle21
Dimethylformamid30Dimethylformamide30
Získá se do*brý tisk o vysoké kvalitě s jasným pozadím.High quality, clear background printing is obtained.
Příklad 12Example 12
Opakuje se postup podle příkladu 3, aleThe procedure of Example 3 is repeated but
Do směsi 15.2 g (1 mol] kyseliny mandlo16 vé a 200 ml -methanoíu, umístěné v kulaté baňce pod zpětným chladičem se přidá 100 mililitrů methanoíu, obsahujícího asi 10 g bezvodého chlorovodíku. Roztok se zahřívá к varu pod zpětným chladičem na parní lázni po- dobu 5 hodin, načež se vlije do ledové vody, а к reakční směsi se přidává vodný roztok hydrogenuhličitanu sodného až do slabě alkalické reakce.To a mixture of 15.2 g (1 mol) of mandelic acid and 200 ml of methanol in a round-bottomed flask was added 100 ml of methanol containing about 10 g of anhydrous hydrogen chloride. The mixture was poured into ice water and an aqueous solution of sodium bicarbonate was added to the reaction mixture until the reaction was slightly alkaline.
Dále se reakční směs extrahuje v děličce do dvou dávek po 300 ml etheru; roztok v etheru se promyje 200 ml vody, načež se vysuší přidáním 50 g bezvo-dého síranu sodného. Zahuštěním filtrátu v Claisenově baňce se získá zbytek, který se předestiluje za sníženého tlaku.Next, the reaction mixture is extracted in two portions of 300 ml of ether each time; the solution in ether is washed with 200 ml of water and then dried by adding 50 g of anhydrous sodium sulphate. Concentration of the filtrate in a Claisen flask yielded a residue which was distilled under reduced pressure.
Připraví se kompozice, obsahující takto získaný methylester kyseliny mandlové a fotoredukovatelnou kvarterní amoniovou sůl, jako paraquat, diquat a N,N‘-di-(p-kyanofenyl)-4,4‘-bipyridyliumchlorid. Bylo zjištěno, že methylester kyseliny mandlové je sensibil zátorem pro fotoredukci uvedených solí.Compositions are prepared comprising the mandelic acid methyl ester thus obtained and a photoreducable quaternary ammonium salt such as paraquat, diquat and N, N‘-di- (p-cyanophenyl) -4,4‘-bipyridylium chloride. It has been found that mandelic acid methyl ester is a sensitizer for photoreduction of said salts.
Příklad 14Example 14
Připraví se kompozice s obsahem běžného* methylethe.ru kyseliny mandlové a foto* redukovatelných solí, jako je paraquat, diquat a N,N‘-di-(p-kyanofenyl)-4,4‘-bipyridyliumchlorid. Bylo zjištěno, že methylether kyseliny mandlové je účinným sensibilzátorem fotoredukce uvedených solí.Compositions containing conventional methyl ethers of mandelic acid and photo reducible salts such as paraquat, diquat and N, N‘-di- (p-cyanophenyl) -4,4‘-bipyridylium chloride are prepared. Mandelic acid methyl ether has been found to be an effective sensitizer for the photoreduction of these salts.
Příklad 15Example 15
Opakuje so postup podle příkladu 1 za použití dále uvedeného ovrstvovacího roztoku a doby expozice 2 minuty.The procedure of Example 1 is repeated using the coating solution described below and an exposure time of 2 minutes.
Složení ovrstvovacího roztokuComposition of coating solution
N,N‘-di- (p-kyanof enyl) -4,4‘ - b i py r idiliu-m c hl or i d1N, N‘-di- (p-cyanophenyl) -4,4‘-biphenylil-m c hl or i d1
7-Chlor-9- (N-mcthyldietliylaminoethyljisoalloxazinchlorld0,57-Chloro-9- (N-methyl-diethylaminoethyl) -isoalloxazine-0.5
Chlorid amonný0,57Ammonium chloride 0.57
Kyselina p-brommandlová2P-Bromomandelic acid2
Neionogenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatickým alkoholem)0,1Nonionic surfactant (condensation product of ethylene oxide with aliphatic alcohol) 0,1
Želatina2Gelatin2
Voda68Voda68
Dimethylformamid30Dimethylformamide30
Získají se dobré tisky s vysokou kvalitou a jasným pozadím.Good prints with high quality and clear backgrounds are obtained.
Příklad 16Example 16
Opakuje se postup podle příkladu 1 za použití dále uvedeného* ovrstvovacího roztoku a doby expozice 2 minuty.The procedure of Example 1 was repeated using the following coating solution and exposure time of 2 minutes.
216216
Složení ovrstvovacího roztokuComposition of coating solution
N,N‘-di- (p-kyanofeny 1) -4,4‘-bipyridiliumchlorid1N, N‘-di- (p-cyanophenyl) -4,4‘-bipyridilium chloride1
Polyvinylalkohol3Polyvinyl alcohol3
7-Chlor-9- (N-methyldiethylaminoethyl ) isoalloxazlnchlorid0,57-Chloro-9- (N-methyldiethylaminoethyl) isoalloxazine chloride 0.5
Kyselina alfa-methoxyfenyloctová2 dhmethylformamid30Alpha-methoxyphenylacetic acid2-dhmethylformamide30
Voda67Water67
Získají se dobré tisky o vysoké kvalitě a s jasným pozadím.Good prints with high quality and clear background are obtained.
Příklad 17Example 17
Opakuje se postup podle příkladu 7 za použití dále uvedeného ovrstvovacího roztoku a doby expozice 2 minuty.The procedure of Example 7 was repeated using the coating solution below and an exposure time of 2 minutes.
Složení ovrstvovacího roztokuComposition of coating solution
Paraquat 1Paraquat 1
Polyvinylalkohol 5Polyvinyl alcohol 5
Neionogenní smáčedlo (kondenzační produkt ethylenoxidu s alifatickým alkoholem) 0,1Nonionic surfactant (condensation product of ethylene oxide with aliphatic alcohol) 0,1
7-Chlor-9- (N-methyldiethylaminoe thy 1) isoalloxazinchlorid0,57-Chloro-9- (N-methyldiethylaminoethyl) isoalloxazine chloride 0.5
Kyselina p-chlormandlová2P-Chloromandelic acid2
Voda95Voda95
Hydroxid sodnýSodium hydroxide
Upravit hodnotu pH na4Adjust pH to 4
Získá se purpurový obraz.A purple image is obtained.
Příklad 18Example 18
Opakuje se postup podle příkladu 17, ale kyselina p-chlormandlová se nahradí kyselinou alfa-naftylglykolovou. Výsledkem je purpurový obraz.The procedure of Example 17 was repeated, but replacing the p-chloro-mandelic acid with alpha-naphthylglycolic acid. The result is a purple image.
Claims (5)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB27435/75A GB1556362A (en) | 1975-06-28 | 1975-06-28 | Radiation sensitive materials |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS216159B2 true CS216159B2 (en) | 1982-10-29 |
Family
ID=10259565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS764250A CS216159B2 (en) | 1975-06-28 | 1976-06-28 | Radiation sensible plate |
Country Status (24)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5210724A (en) |
| AT (1) | AT351050B (en) |
| BE (1) | BE843497A (en) |
| CA (1) | CA1087434A (en) |
| CH (1) | CH607101A5 (en) |
| CS (1) | CS216159B2 (en) |
| DD (1) | DD126347A5 (en) |
| DE (1) | DE2628996A1 (en) |
| DK (1) | DK289376A (en) |
| ES (1) | ES449318A1 (en) |
| FI (1) | FI761870A7 (en) |
| FR (1) | FR2317685A1 (en) |
| GB (1) | GB1556362A (en) |
| HU (1) | HU175854B (en) |
| IE (1) | IE43481B1 (en) |
| IT (1) | IT1061441B (en) |
| LU (1) | LU75251A1 (en) |
| NL (1) | NL7607065A (en) |
| NO (1) | NO762217L (en) |
| NZ (1) | NZ181263A (en) |
| PL (1) | PL110012B1 (en) |
| SE (1) | SE7607190L (en) |
| YU (1) | YU157976A (en) |
| ZA (1) | ZA763731B (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5851999A (en) * | 1981-09-21 | 1983-03-26 | Ebara Infilco Co Ltd | Method of dehydrating sludge |
| GB2139369B (en) * | 1983-05-06 | 1987-01-21 | Sericol Group Ltd | Photosensitive systems showing visible indication of exposure |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1281700A (en) * | 1968-07-15 | 1972-07-12 | Itek Corp | Metallic photographic products and processes |
| GB1354322A (en) * | 1971-05-20 | 1974-05-30 | Ici Ltd | Magnetic information carriers |
| US3853589A (en) * | 1970-11-09 | 1974-12-10 | Ici Ltd | Metal deposition process |
-
1975
- 1975-06-28 GB GB27435/75A patent/GB1556362A/en not_active Expired
-
1976
- 1976-06-23 ZA ZA763731A patent/ZA763731B/en unknown
- 1976-06-23 SE SE7607190A patent/SE7607190L/en not_active Application Discontinuation
- 1976-06-23 NZ NZ181263A patent/NZ181263A/en unknown
- 1976-06-25 CA CA255,739A patent/CA1087434A/en not_active Expired
- 1976-06-25 NO NO762217A patent/NO762217L/no unknown
- 1976-06-25 LU LU75251A patent/LU75251A1/xx unknown
- 1976-06-25 DK DK289376A patent/DK289376A/en not_active Application Discontinuation
- 1976-06-25 IE IE1387/76A patent/IE43481B1/en unknown
- 1976-06-25 HU HU76VI1086A patent/HU175854B/en unknown
- 1976-06-28 NL NL7607065A patent/NL7607065A/en not_active Application Discontinuation
- 1976-06-28 YU YU01579/76A patent/YU157976A/en unknown
- 1976-06-28 IT IT24815/76A patent/IT1061441B/en active
- 1976-06-28 ES ES449318A patent/ES449318A1/en not_active Expired
- 1976-06-28 CH CH826176A patent/CH607101A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-06-28 DD DD193603A patent/DD126347A5/xx unknown
- 1976-06-28 CS CS764250A patent/CS216159B2/en unknown
- 1976-06-28 PL PL1976190788A patent/PL110012B1/en unknown
- 1976-06-28 AT AT470976A patent/AT351050B/en not_active IP Right Cessation
- 1976-06-28 FR FR7619600A patent/FR2317685A1/en active Granted
- 1976-06-28 DE DE19762628996 patent/DE2628996A1/en not_active Withdrawn
- 1976-06-28 JP JP51075639A patent/JPS5210724A/en active Pending
- 1976-06-28 FI FI761870A patent/FI761870A7/fi not_active Application Discontinuation
- 1976-06-28 BE BE168382A patent/BE843497A/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| LU75251A1 (en) | 1977-02-18 |
| NZ181263A (en) | 1978-06-02 |
| ATA470976A (en) | 1978-12-15 |
| FR2317685B1 (en) | 1982-05-07 |
| BE843497A (en) | 1976-12-28 |
| GB1556362A (en) | 1979-11-21 |
| YU157976A (en) | 1983-02-28 |
| CH607101A5 (en) | 1978-11-30 |
| DE2628996A1 (en) | 1977-02-03 |
| DK289376A (en) | 1976-12-29 |
| IE43481L (en) | 1976-12-28 |
| ES449318A1 (en) | 1977-08-16 |
| NL7607065A (en) | 1976-12-30 |
| NO762217L (en) | 1976-12-29 |
| ZA763731B (en) | 1977-05-25 |
| CA1087434A (en) | 1980-10-14 |
| PL110012B1 (en) | 1980-06-30 |
| DD126347A5 (en) | 1977-07-13 |
| JPS5210724A (en) | 1977-01-27 |
| IE43481B1 (en) | 1981-03-11 |
| HU175854B (en) | 1980-10-28 |
| FI761870A7 (en) | 1976-12-29 |
| AU1526176A (en) | 1978-01-05 |
| IT1061441B (en) | 1983-02-28 |
| AT351050B (en) | 1979-07-10 |
| FR2317685A1 (en) | 1977-02-04 |
| SE7607190L (en) | 1976-12-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0164100A2 (en) | Polymeric pyridinium ylide and products from same | |
| US9005878B2 (en) | Forming patterns using thiosulfate polymer compositions | |
| US20140287349A1 (en) | Thiosulfate polymer compositions and articles | |
| SU568395A3 (en) | Light-sensitive copy material | |
| US8916336B2 (en) | Patterning method using thiosulfate polymer and metal nanoparticles | |
| US9499650B2 (en) | Thiosulfate polymers | |
| JP4769680B2 (en) | Pattern forming composition comprising metal fine particle dispersion and pattern forming method | |
| US4209581A (en) | Soluble photosensitive resin composition | |
| CS216159B2 (en) | Radiation sensible plate | |
| US4126468A (en) | Radiation sensitive compositions of quaternary ammonium salt and carboxylic acid sensitizer | |
| DE1522459A1 (en) | Material and process for producing printing forms | |
| JP2639722B2 (en) | Photosensitive composition | |
| JPS5855926A (en) | Formation of image using polyamide type linear polymer | |
| US3923761A (en) | Photopolymers | |
| US4299907A (en) | Storage stable photosensitive diazo lithographic printing plates | |
| CA1081521A (en) | Physical development of pd (ii) photosensitive complexes | |
| CA1062071A (en) | Method of manufacturing an external electrically conducting metal pattern | |
| EP0024872B2 (en) | A method of treating exposed and developed radiation sensitive plates in lithographic printing plate production, compositions for use in the method, and the use of diazo eliminating compounds in improving the ink receptivity of lithographic printing images | |
| GB2029592A (en) | Storage stable lithographic printing plates | |
| US3620735A (en) | Relief image process utilizing a simple and a complex ferric salt | |
| JPH09328482A (en) | Coumarin compounds and their uses | |
| US4202699A (en) | Lithoplates of quaternary ammonium salt compositions | |
| US3679412A (en) | Lithographic printing plates and methods for preparation thereof | |
| US3682636A (en) | Presensitized photolithographic plate having diazo stabilized aluminum base | |
| US3914261A (en) | Azido photopolymers |