CS209598B1 - Zařízení pro pěstování monokrystalů, s vysokým bodem tuhnutí z taveniny - Google Patents

Zařízení pro pěstování monokrystalů, s vysokým bodem tuhnutí z taveniny Download PDF

Info

Publication number
CS209598B1
CS209598B1 CS488580A CS488580A CS209598B1 CS 209598 B1 CS209598 B1 CS 209598B1 CS 488580 A CS488580 A CS 488580A CS 488580 A CS488580 A CS 488580A CS 209598 B1 CS209598 B1 CS 209598B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
crucible
heater
melt
melting point
single crystals
Prior art date
Application number
CS488580A
Other languages
English (en)
Inventor
Jiri Kvapil
Bohumil Perner
Josef Kvapil
Miroslav Holas
Original Assignee
Jiri Kvapil
Bohumil Perner
Josef Kvapil
Miroslav Holas
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiri Kvapil, Bohumil Perner, Josef Kvapil, Miroslav Holas filed Critical Jiri Kvapil
Priority to CS488580A priority Critical patent/CS209598B1/cs
Publication of CS209598B1 publication Critical patent/CS209598B1/cs

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Zařízení pro pěstování monokrystalů s vysokým bodem tuhnutí tažením z taveniny, zejména korundových, k vytvoření optimálníoh teplotních podmínek v oblasti tavenina/krystel je pěstovaoí zařízení (pec) opatřena vestavbou stínících válcových plechů, upravenýoh jednak jako vnější (4) kolem odporového topení (3) obklopujícího a převyšujícího kelímek s taveninpu, jednak jako vnitřní (5) A nad kelímkem upravenými stíníoími vodorovnými přepážkami (6) tvaru tnezikruží.

Description

Vynález se týká zařízení pro pěstování monokrystalů, s vysokým bodem tuhnutí, jejichž tavenina se zpravidla vyznačuje vysokou optickou absorpcí proti příslušnému monokrystalu.
Pěstování monokrystalů látek s bodem tání vyšším než 1500 °C je náročný technický problém. K obecným požadavkům na konstrukční materiály zařízení, regulaci příkonu a volbu vhodného prostředí přistpuje zde nutnost omezení tepelných ztrát z taveniny jakýmkoli jiným způsobem než prostou kondukcí rostoucím monokrystalem. Kondukce tepla krystalem vede totiž ve svých důsledoíoh k zvýšení nežádoucího teplotního gradientu na rozhrání taveniny a krystalu, což zamezuje buněčnému - dendritiokému růstu monokrystalu. Naopak, jakýkoli jiný způsob odvodu tepla z taveniny vede k zrychlení jejího proudění, což má za následek vzrůst koeficientu přestupu tepla mezi taveninou a krystalem s tím i snížení uvedeného teplotního gradientu, S ohledem na skutečnost, že taveniny jsou i při velmi vysokých teplotách z různých příčin prakticky neprůhledné, t.j. mají vysokou emitivitu, uplatňuje se i v případě dominujících ztrát tepla radiací jen povrchová vrstva taveniny, do které se teplo dostává téměř výhradně konvekcí. Proto je zapotřebí omezit důsledně ztráty tepla radiací, a to především při pěstování .krystalů s nízkou absorpcí, které bez ohledu na vlast ní vysokou teplotu nepředstavují pro záření z taveniny překážku, respektive teplo zpět do taveniny nevyzařují. To platí-zejména v případě monokrystalů korundu, jejichž absorpce je, bez ohledu na případné přímSsi, většinou velmi nízká, zatímco příslušné taveniny mají abi sorpci velmi vysokou. Uvedeným podmínkám mohou známá a používaná pěstovací zařízení vyhovět jen zčásti, protože potlačení ztrát tepla z taveniny jiným způsobem než .kondukcí krystalem se snižují zároveň ztráty kondukcí. To pak způsobuje obtíže zejména při počátku pěstování, kdy malá hmota krystalu, respektive zárodku neumožňuje odvod dostatečného množství tepla z rozhraní taveniny a krystalu.
Zmíněné nedostatky odstraňuje a vytvoření velmi výhodných pěstovacíoh podmínek umožňuje zařízení píro pěstování monokrystalů s vysokým bodem tuhnutí z taveniny podle tohoto vynálezu, sestávajícího z elektrického odporového topného tělesa vytvořeného z jednoho nebo více do kruhu sestavených článků a jeho středu upraveného kelímku, se souose upravenou tažíoí tyčí, jehož podstata spočívá v tom, že horní okraj kelímku leží ve 40 až 95 % výšky topného telesa a souose s kelímkem a topným tělesem jsou upraveny plechové válce, převyšující topné těleso o 1/10 až 15/10 jeho výšky, z nichž alespoň jeden válec je upraven vhž topného tělesn a aleapcň Jeden další válec je n»d kelímkem uvnitř topného tělesa, přičemž v prostoru had kelímkem jsou umístěný alespoň dvě vodorovné přepážky tvaru mezikruží, jejichž vnitřní průměr odpovídá 25 až 100 % vnitřního průměru kelímku. Je výhodné, leží-li alespoň Jedna z vodorovných přepážek had horním okrajem topného tělesa.
V dalším je s přihlédnutím k připojenému schematickému výkresu ve svislém řezu vynález blíže popsán. Na. připojeném výkrese je zakreslen válcový kelímek 1, plášň pěstovaciho zařízení 2, topné těleso 2 vytvořené z několika do .kruhu sestavených článků, válcové plechy £ ležící vně topného tělesa válcové plechy £ ležící nad kelímkem uvnitř topného tělesa 2» vodorovné přepážky 6 tvaru mezikruží. Dále je makreslena tažící .tyč tavenina 8 v kelímku 1. a rostouc krystal 2·
Zatímco váleo nebo válce £ ležící vnž topného tělesa 2 izolují vnitřní nejteplej- ší části zařízení od okolí, zmenšuje válec nebo válce 5» ležící uvnitř topného tělesa J výměnu tepelné energie mezi topným tělesem 2 a prostorem uvnitř válců do kterého je tažen rostoucí monokrystal 2· má za následek, že na počátku pěstování je vnitřní stěna válce 2 relativně chladná a již v blízkosti hladiny taveniny 8 v kelímku 2 je dostatečně velký teplotní spád,, který zaručuje potřebnou kondukoi tepla v malém krystalu, respektive zárodku. Po svém nárůstu zaplní krystal 2 částečně prostor uvnitř válce 5, ležícího uvnitř topného tělesa 2, Símě jednak sníží přímé ztráty z těchto válců smš_ rem nahoru a dále záření, které postupuje krystalem 2 a teveninou 8 po průchodu krystalem dopadá na sněnu válce buáto se odráží nebo zvyšuje teplotu stěny. Tím automaticky stoupá teplota v prostoru těsně nad taveninou 8, což zamezuje nežádoucí ztráty tepla z taveniny, zatímco zárodečná oblast krystalu která zasahuje k horní přepážce 6 je na dostatečně nízké teplotě, zajištující relativně vysoký odvod tepla kondukoi krystalem 2· 3® výrazné zejména tehdy, když horní přepážka 6 leží nad horním okrajem topného tělesa 2· 1
Zařízení podle vynálezu umožňuje tak pětování jakostních monokrystalů opticky transparentních látek z taveniny, která má libovolnou propustnost.
Příklad 1
Ha zařízení podle vynálezu byly pěstovány monokrystaly rubínu s obsahem 0,035 hmot.% chrómu. Zařízení sestávalo z wolframového kelímku o vnitřním průměru 100 mm a výšce 100 mm, kolem kterého bylo do kruhu upraveno odporové topné těleso z osmi wolframových smyček tvaru obráoeného ϋ o výšce 155 mm tak, še přesahovalo horní pkraj kelímku o 40 mm. Ha kelímku byla položena přepážka z molybdenového plechu se středovým otvorem o průměru 45 mm a na ni postaveno soustředně pět válců z molybdenového plechu o průměrech 48, 60, 72, 84 a 96 mm a výšce 60 mm. Ha nich byla položena další přepážka tvaru mezikruží o vnějším průměru 140 mm a vnitřním průměru 45 mm. Ha této přepážce byly umístěny dva válce z molybdenového plechu o průměrech 60 a 84 mm a výšce 100 mm. Vně topného tělesa bylo umístěno pět soustředných válců z molybdenového plechu, přesahujících těleso o 120 mm. V ose zařízení byla umístěna tažíoí tyč. Monokrystaly rubínu, pěstované na tomto mažízení v atmosféře obsahujíoí 98 obj.% helia a 2 obj.% vodíku měly průměr 32 mm a délku 1?0 mm. Monokrystaly až na 15 mm dlouhou část v sousedství zárodku .byly prosté buněk a strukturních vad. . - .
Příklad 2
Bylo použito zařízení stejné jako v příkladu 1 s tím rozdílem, že místo pěti váleů byly na stejném místě upraveny dva válce o. průměrech 60 a 96 mm. Ha tomto zařízení byly pěstovány monokrystaly safíru o průměru 32 mm a délce 180 mm zcela prosté buněk a strukturních vad.

Claims (2)

1, Zařízení pro pěstování monokrystalů s vysokým bodem tuhnutí z taveniny, sestávající z elektrického odporového topného tělesa vytvořeného m jednoho nebo více do kruhu sestavených článků a v jeho středu upraveného kelímku, se souose upra vénou tažící tyčí, vyznačené tím, že horní pkraj kelímku'(1) leží vo 40 až 95 % výš ky topného tělesa (.3) a souose s .kelímkem (1) a topným tělesem (3) jsou upraveny plechové válce (4 a 5), převyšující topné těleso (3) o 1/10 až 15/10 jeho výšky, z niohž alespoň jeden válec (4) je upraven vně topného tělesa (3) a alespoň jeden další válec (5) je nad kelímkem (1) uvnitř topného tělesa (3), přičemž v prostoru nad kelímkem (1) jsou umístěny alespoň dvě vodorovné přepaž,ky (6) tvaru mezikruží, jejichž vnitřní průměr odpovídá 25 až 100 % vnitřního průměru kelímku (1) .
2. Zařízení podle bodu 1 vyznačené tím,· že alespoň jedna z vodorovných přepážek (6) je upravena nad horním okrajem topného tělesa (3)
CS488580A 1980-07-09 1980-07-09 Zařízení pro pěstování monokrystalů, s vysokým bodem tuhnutí z taveniny CS209598B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS488580A CS209598B1 (cs) 1980-07-09 1980-07-09 Zařízení pro pěstování monokrystalů, s vysokým bodem tuhnutí z taveniny

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS488580A CS209598B1 (cs) 1980-07-09 1980-07-09 Zařízení pro pěstování monokrystalů, s vysokým bodem tuhnutí z taveniny

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS209598B1 true CS209598B1 (cs) 1981-12-31

Family

ID=5392588

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS488580A CS209598B1 (cs) 1980-07-09 1980-07-09 Zařízení pro pěstování monokrystalů, s vysokým bodem tuhnutí z taveniny

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS209598B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW482831B (en) Single crystal production apparatus and production of single crystal
US3953174A (en) Apparatus for growing crystalline bodies from the melt
KR100786878B1 (ko) 단결정 육성장치, 그 장치를 이용한 단결정 제조방법 및단결정
EP0591525B1 (en) Device for pulling up single crystal
US4981549A (en) Method and apparatus for growing silicon crystals
US5264189A (en) Apparatus for growing silicon crystals
US3591348A (en) Method of growing crystalline materials
US3915662A (en) Method of growing mono crystalline tubular bodies from the melt
US4440728A (en) Apparatus for growing tubular crystalline bodies
US3759671A (en) Horizontal growth of crystal ribbons
US3798007A (en) Method and apparatus for producing large diameter monocrystals
US4544528A (en) Apparatus for growing tubular crystalline bodies
US5394825A (en) Method and apparatus for growing shaped crystals
CN205711031U (zh) 一种单晶炉
US3051558A (en) Hydrothermal synthesis of quartz
CS209598B1 (cs) Zařízení pro pěstování monokrystalů, s vysokým bodem tuhnutí z taveniny
US3860736A (en) Crystal furnace
CN210636089U (zh) 一种适用于大尺寸单晶提拉速及散热的装置
CN215668284U (zh) 一种炉盖发黑处理的单晶生长炉
CN109321975B (zh) 单晶硅定向凝固引晶模块
JP2002047093A (ja) シリコン単結晶引上装置
US3567397A (en) Apparatus for obtaining a dross-free crystalline growth melt
JPH1081592A (ja) シリコン単結晶製造装置
RU2791643C1 (ru) Способ выращивания монокристаллов германия или кремния и устройство для его реализации
CN209260258U (zh) 一种用于制作硅单晶材料的热场单晶炉