CS265100B1 - Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny - Google Patents
Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny Download PDFInfo
- Publication number
- CS265100B1 CS265100B1 CS88442A CS44288A CS265100B1 CS 265100 B1 CS265100 B1 CS 265100B1 CS 88442 A CS88442 A CS 88442A CS 44288 A CS44288 A CS 44288A CS 265100 B1 CS265100 B1 CS 265100B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- crucible
- heating system
- shielding
- melt
- upper edge
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalů z taveniny, zejména vhodné pro safír, jehož konstrukční řešení topného a stínícího uzlu optimalizuje teplotní režim v růstové zóně tím, že kelímek vyčnívá nad topný systém, okolo něhož je souose umístěno válcové stínění, nad topením je vodorovné stínění a celý prostor kelímku a topení je zastíněn soustavou vodorovných stínících přepážek, opatřených v ose otvorem pro umístění zárodku.
Description
Vynález se týká zařízení pro růst oxidových monokrystalů s vysokým bodem tání, u kterých je absorpce zářivé energie v krystalu výrazně nižší než v tavenině.
Pěstování monokrystalů oxidových materiálů s bodem tání, nad 1500°C je velmi náročný technický problém, vyžadující obecně řešení materiálových a konstrukčních otázek, vysoké čistoty vstupních surovin a citlivých a dlouhodobě stabilních systémů regulace teploty.
Zvlášt obtížné je pěstování těch typů monokrystalů, které se vyznačují velmi nízkým stupněm absorpce zářivé energie v tuhé fázi, jako je tomu např. u korundů a některých typůYAlO^ a Y-jAl^O^, v závislosti na jejich dotaci dalšími elementy.
Při růstu krystalů je nutné vytvořit dostatečně velký teplotní gradient na fázovém rozhraní tavenina-krystal, aby nedocházelo ke vzniku dendritického růstu, a tím i tvorbě optických defektů ve krystalech. Dostatečný teplotní gradient se vytváří tehdy, zajistíme-li přiměřený odvod tepla vedením v krystalu. Tento odvod je na druhé strany zejména u krystalů větších rozměrů, limitován možností vzniku pnutí a prasklin, jako důsledek velkého teplotního gradientu ve hmotě krystalu. Teplotní gradient na fázovém rozhraní se tedy snižuje se snižující se absorpcí zářivé energie v krystalu, která je daná charakterem pěstovaného materiálu, a dále se snižuje se stoupající rychlostí proudění taveniny, jak se zvětšuje koeficient přestupu tepla z taveniny do krystalu. Proudění taveniny vzrůstá v závislosti na teplotním gradientu v tavenině a ten vzniká jednak přestupem tepla vedením a absorpcí zářivé složky ve vrstvě taveniny přiléhající k teplejší stěně kelímky což je opět v podstatě těžko ovlivnitelný faktor, ale také ztrátami tepla vedením a zářením z hladiny do okolního prostředí. Tento faktor lze ovlivnit vhodným konstrukčním řešením růstového prostoru. Konstrukce běžně používané pro růst krystalů tažením z taveniny na zárodku vyhovují dobře pro růst krystalů s dostatečně vysokou absorpcí zářivé energie v krystalu, neboí tento faktor zvyšuje teplotní gradient na fázovém rozhraní, avšak u krystalů s nízkoi
- 2. 265 100 absorpcí zářivé energie dochází u běžné konstruovaných.aparatur ke vzniku nízkých teplotních gradientů a tím také k růstu opticky defektních krystalů.
Zmíněný nedostatek při pěstování monokrystalů oxidových materiálů s vysokým bodem tán-í a nízkou absorpcí zářivé energie v kryétalu růstem na zárodku z taveniny v kelímku odstraňuje zařízení konstruované podle, tohoto vynálezu, sestávající ze souose uspořádaného nosiče zárodku, kelímku, elektrického odporového topného tělesa, vytvořeného z jednoho nebo několika do kruhu sestavených článků, obklopených tepelným stíněním, jehož podstata spočívá v tom, že upravuje poměr ztrát tepla z hladiny taveniny a z rostoucího krystalu, tím také poměr teplotních gradientů v tavenině a v krystalu, a to takovým způsobem., že horní okraj kelímku (2) leží o 6 až 30% jeho vnějšího průměru nad horním okrajem topného systému (1), stíněného 5 až 20 plechovými válci (4), z nichž 1 až 5 válců přesahuje horní okraj topného systému (1) o 3 až 20 %, ostatní válce o 20 až 80% průměru topného systému a v prostoru mezi kelímkem (2) nad topným systémem (1) jsou umístěny 1 až 3 vodorovné stínící přepážky (3) a v prostoru nad kelímkem (2) a topným systémem (1) je umístěno 3 až 20 vodorovných stínících přepážek (5), opatřených v ose otvory pro umístění zárodku pozorování a hlavní odvod tepla z taveniny a krystalu, jejíchž průměr je roven 15 až 50% vnějšího průměru kelímku (2). V případě potřeby může být tvar otvoru modifikován dodatečným výřezem v okraji kruhového otvoru, umožňujícím lepší pozorování zejména v počáteční fázi růstu. První z těchto přepážek leží nad horním okrajem kelímku (2) ve výši 4 až 23%, a poslední ve výši 26 až 77%z vztaženo na vnější průměr kelímku.
Takto konstruované zařízení umožňuje vytvoření podmínek pro nasazení zárodku (6), jehož hmota je ve srovnání s krystalem (8) malá, ale tím, že zárodek je chráněn stíněním (5), před ohřevem z vnějších částí hladiny taveniny (7) vaniká v něm dostatečný gradient teploty. Po nárůstu krystalu na cca polovinu, jeho konečného průměru se velmi sníží ztráty tepla zářením z vnějších částí hladiny taveniny, čímž klesne její proudění a vytvoří se vyšší gradient teploty na fázovém rozhraní růstu. Tak jsou zaručeny podmínky pro vypěstování opticky a strukturně kvalitního krystalu (8)
- 3 265 100
Přikladl
Na zařízení podle vynálezu byly pěstovány monokrystaly safíru ve vakuu. Zařízení sestávalo z wolframového kelímku o vnějším průměru 130 mm, tlouštce stěny 10 mm a výšce 140 mm, kolem kterého bylo sestaveno do kruhu o 0 150 mm odporové topné těleso z osmi paralelně zapojených topných smyček ve tvaru obráceného U, jejichž horní okraj ležel 10 mm pod horním okrajem kelímku. Okolo topení byly 2 wolframové stínící válce, které přesahovaly horní okraj topení o 5 mm a 10 molybdenových stínících válců, které přesahovaly horní okraj topení o 80 mm. Na prvních dvou válcích leželo v prostoru nad topením wolframové mezikruží o vni >. ní světlosti 131 mm. Nad kelímkem a topením bylo sestaveno 12 ro noběžných vodorovných stínících přepážek (5), s otvory uprostřed o 0 25 mm, přičemž první přepážka byla 15 mm a poslední 69 mm na, horním okrajem kelímku.
Na tomto zařízení byly pěstovány monokrystaly safíru o 0 85 mm A hmotnosti 2,8 kg, přičemž 80% objemu krystalu bylo bez optických a strukturních vad.
Příklad 2
Na stejném zařízený s tím rozdílem, že místo wolframu byl všude použit molybder^ místo vakua ochranná atmosféra ze směsi 80' helia a 20% vodíku a otvory v přepážkách (5) byly zvětšeny na 40 mm,byly pěstovány monokrystaly YAIO^ s obsahem 1 vah.% Nd20pro laserové účely. Byly vypěstovány krystaly o 0 60 mm a hmotnosti 2 kg, u nichž bylo 60% objemu opticky čistého materiálu, použitelného pro laserové výbrusy.
Claims (1)
- PŘEDMĚT VYNÁLEZU265 100Zařízení pro pěstování monokrystalů vysokotajících oxidových materiálů na zárodku z taveniny, sestávající z osov£ symetricky uspořádaného nosiče zárodku, kelímku, elektrického odporového topného tělesa, vytvořeného z jednoho nebo několika do kruhu sestavených článků, obklopených tepelným stíněním, vyznačené tím, že horní okraj kelímku (2) leží o 6 až 30% jeho vnějšího průměru nad horním okrajem topného systému (1), okolo něhož je souose umístěno 5 až 25 stínících plechových válců (4), z nichž 1 až 5 vnitřních válců přesahuje horní okraj topného systému (1) o 3 až 20% ostatní válce o 20 až 80% průměru topného systému, dále jsou v prostoru mezi kelímkem (2) a nad topným systémem (1) umístěny 1 až 3 vodorovné stínící přepážky (3) s mezerami mezi sebou rovnými 2 až 10 násobku jejich tloušiky a v prostoru nad kelímkem (2) a topným systémem (1) je umístěno 3 až 20 vodorovných stínících přepážek (5) opatřených ve svislé ose otvory o průměru 15 až 50% vnějšího průměru kelímku (2), přičemž první přepážka leží nad horním okrajem kelímku (2) ve výši 4 až 23% a poslední ve výši 26 až 77%, vztaženo na vnější průměr kelímku (3).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS88442A CS265100B1 (cs) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS88442A CS265100B1 (cs) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS44288A1 CS44288A1 (en) | 1988-12-15 |
| CS265100B1 true CS265100B1 (cs) | 1989-09-12 |
Family
ID=5336486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS88442A CS265100B1 (cs) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS265100B1 (cs) |
-
1988
- 1988-01-25 CS CS88442A patent/CS265100B1/cs unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS44288A1 (en) | 1988-12-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100786878B1 (ko) | 단결정 육성장치, 그 장치를 이용한 단결정 제조방법 및단결정 | |
| US5264189A (en) | Apparatus for growing silicon crystals | |
| US4981549A (en) | Method and apparatus for growing silicon crystals | |
| CN102268732B (zh) | 单晶及其制造方法 | |
| KR101216256B1 (ko) | 단결정 실리콘 연속성장 시스템 및 방법 | |
| US5820649A (en) | Method of and apparatus for continuously producing a solid material | |
| WO2014085388A1 (en) | Heat shield for improved continuous czochralski process | |
| US3701636A (en) | Crystal growing apparatus | |
| US7235128B2 (en) | Process for producing single-crystal semiconductor and apparatus for producing single-crystal semiconductor | |
| CS265100B1 (cs) | Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny | |
| US4510609A (en) | Furnace for vertical solidification of melt | |
| JP2709310B2 (ja) | 単結晶引上げ装置 | |
| KR960000062B1 (ko) | 수지상 웨브 결정의 성장 방법 및 장치 | |
| KR101464561B1 (ko) | 사파이어 잉곳 성장장치 및 이에 이용되는 로드 히터 | |
| GB1591670A (en) | Crystal growing operations | |
| JP2818552B2 (ja) | 縦形の単結晶製造装置 | |
| CS264935B1 (cs) | Způsob úpravy růstových podmínek a pěstování safíru modifikovanou Kyropoulovou metodou | |
| JPH01317188A (ja) | 半導体単結晶の製造方法及び装置 | |
| RU2759623C1 (ru) | Опора тигля для выращивания кристаллов | |
| US3212858A (en) | Apparatus for producing crystalline semiconductor material | |
| SU1424379A1 (ru) | Устройство дл выт гивани кристаллов из расплава | |
| JPH01145391A (ja) | 単結晶引上装置 | |
| CS209598B1 (cs) | Zařízení pro pěstování monokrystalů, s vysokým bodem tuhnutí z taveniny | |
| RU2261296C1 (ru) | Устройство для выращивания монокристаллов из расплава | |
| Henry et al. | Zone melt growth of GaAs for gamma ray detector applications |