CS265100B1 - Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny - Google Patents

Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny Download PDF

Info

Publication number
CS265100B1
CS265100B1 CS88442A CS44288A CS265100B1 CS 265100 B1 CS265100 B1 CS 265100B1 CS 88442 A CS88442 A CS 88442A CS 44288 A CS44288 A CS 44288A CS 265100 B1 CS265100 B1 CS 265100B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
crucible
heating system
shielding
melt
upper edge
Prior art date
Application number
CS88442A
Other languages
English (en)
Other versions
CS44288A1 (en
Inventor
Bohumil Ing Csc Perner
Jiri Ing Drsc Kvapil
Josef Ing Csc Kvapil
Miroslav Holas
Original Assignee
Perner Bohumil
Kvapil Jiri
Kvapil Josef
Miroslav Holas
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Perner Bohumil, Kvapil Jiri, Kvapil Josef, Miroslav Holas filed Critical Perner Bohumil
Priority to CS88442A priority Critical patent/CS265100B1/cs
Publication of CS44288A1 publication Critical patent/CS44288A1/cs
Publication of CS265100B1 publication Critical patent/CS265100B1/cs

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalů z taveniny, zejména vhodné pro safír, jehož konstrukční řešení topného a stínícího uzlu optimalizuje teplotní režim v růstové zóně tím, že kelímek vyčnívá nad topný systém, okolo něhož je souose umístěno válcové stínění, nad topením je vodorovné stínění a celý prostor kelímku a topení je zastíněn soustavou vodorovných stínících přepážek, opatřených v ose otvorem pro umístění zárodku.

Description

Vynález se týká zařízení pro růst oxidových monokrystalů s vysokým bodem tání, u kterých je absorpce zářivé energie v krystalu výrazně nižší než v tavenině.
Pěstování monokrystalů oxidových materiálů s bodem tání, nad 1500°C je velmi náročný technický problém, vyžadující obecně řešení materiálových a konstrukčních otázek, vysoké čistoty vstupních surovin a citlivých a dlouhodobě stabilních systémů regulace teploty.
Zvlášt obtížné je pěstování těch typů monokrystalů, které se vyznačují velmi nízkým stupněm absorpce zářivé energie v tuhé fázi, jako je tomu např. u korundů a některých typůYAlO^ a Y-jAl^O^, v závislosti na jejich dotaci dalšími elementy.
Při růstu krystalů je nutné vytvořit dostatečně velký teplotní gradient na fázovém rozhraní tavenina-krystal, aby nedocházelo ke vzniku dendritického růstu, a tím i tvorbě optických defektů ve krystalech. Dostatečný teplotní gradient se vytváří tehdy, zajistíme-li přiměřený odvod tepla vedením v krystalu. Tento odvod je na druhé strany zejména u krystalů větších rozměrů, limitován možností vzniku pnutí a prasklin, jako důsledek velkého teplotního gradientu ve hmotě krystalu. Teplotní gradient na fázovém rozhraní se tedy snižuje se snižující se absorpcí zářivé energie v krystalu, která je daná charakterem pěstovaného materiálu, a dále se snižuje se stoupající rychlostí proudění taveniny, jak se zvětšuje koeficient přestupu tepla z taveniny do krystalu. Proudění taveniny vzrůstá v závislosti na teplotním gradientu v tavenině a ten vzniká jednak přestupem tepla vedením a absorpcí zářivé složky ve vrstvě taveniny přiléhající k teplejší stěně kelímky což je opět v podstatě těžko ovlivnitelný faktor, ale také ztrátami tepla vedením a zářením z hladiny do okolního prostředí. Tento faktor lze ovlivnit vhodným konstrukčním řešením růstového prostoru. Konstrukce běžně používané pro růst krystalů tažením z taveniny na zárodku vyhovují dobře pro růst krystalů s dostatečně vysokou absorpcí zářivé energie v krystalu, neboí tento faktor zvyšuje teplotní gradient na fázovém rozhraní, avšak u krystalů s nízkoi
- 2. 265 100 absorpcí zářivé energie dochází u běžné konstruovaných.aparatur ke vzniku nízkých teplotních gradientů a tím také k růstu opticky defektních krystalů.
Zmíněný nedostatek při pěstování monokrystalů oxidových materiálů s vysokým bodem tán-í a nízkou absorpcí zářivé energie v kryétalu růstem na zárodku z taveniny v kelímku odstraňuje zařízení konstruované podle, tohoto vynálezu, sestávající ze souose uspořádaného nosiče zárodku, kelímku, elektrického odporového topného tělesa, vytvořeného z jednoho nebo několika do kruhu sestavených článků, obklopených tepelným stíněním, jehož podstata spočívá v tom, že upravuje poměr ztrát tepla z hladiny taveniny a z rostoucího krystalu, tím také poměr teplotních gradientů v tavenině a v krystalu, a to takovým způsobem., že horní okraj kelímku (2) leží o 6 až 30% jeho vnějšího průměru nad horním okrajem topného systému (1), stíněného 5 až 20 plechovými válci (4), z nichž 1 až 5 válců přesahuje horní okraj topného systému (1) o 3 až 20 %, ostatní válce o 20 až 80% průměru topného systému a v prostoru mezi kelímkem (2) nad topným systémem (1) jsou umístěny 1 až 3 vodorovné stínící přepážky (3) a v prostoru nad kelímkem (2) a topným systémem (1) je umístěno 3 až 20 vodorovných stínících přepážek (5), opatřených v ose otvory pro umístění zárodku pozorování a hlavní odvod tepla z taveniny a krystalu, jejíchž průměr je roven 15 až 50% vnějšího průměru kelímku (2). V případě potřeby může být tvar otvoru modifikován dodatečným výřezem v okraji kruhového otvoru, umožňujícím lepší pozorování zejména v počáteční fázi růstu. První z těchto přepážek leží nad horním okrajem kelímku (2) ve výši 4 až 23%, a poslední ve výši 26 až 77%z vztaženo na vnější průměr kelímku.
Takto konstruované zařízení umožňuje vytvoření podmínek pro nasazení zárodku (6), jehož hmota je ve srovnání s krystalem (8) malá, ale tím, že zárodek je chráněn stíněním (5), před ohřevem z vnějších částí hladiny taveniny (7) vaniká v něm dostatečný gradient teploty. Po nárůstu krystalu na cca polovinu, jeho konečného průměru se velmi sníží ztráty tepla zářením z vnějších částí hladiny taveniny, čímž klesne její proudění a vytvoří se vyšší gradient teploty na fázovém rozhraní růstu. Tak jsou zaručeny podmínky pro vypěstování opticky a strukturně kvalitního krystalu (8)
- 3 265 100
Přikladl
Na zařízení podle vynálezu byly pěstovány monokrystaly safíru ve vakuu. Zařízení sestávalo z wolframového kelímku o vnějším průměru 130 mm, tlouštce stěny 10 mm a výšce 140 mm, kolem kterého bylo sestaveno do kruhu o 0 150 mm odporové topné těleso z osmi paralelně zapojených topných smyček ve tvaru obráceného U, jejichž horní okraj ležel 10 mm pod horním okrajem kelímku. Okolo topení byly 2 wolframové stínící válce, které přesahovaly horní okraj topení o 5 mm a 10 molybdenových stínících válců, které přesahovaly horní okraj topení o 80 mm. Na prvních dvou válcích leželo v prostoru nad topením wolframové mezikruží o vni >. ní světlosti 131 mm. Nad kelímkem a topením bylo sestaveno 12 ro noběžných vodorovných stínících přepážek (5), s otvory uprostřed o 0 25 mm, přičemž první přepážka byla 15 mm a poslední 69 mm na, horním okrajem kelímku.
Na tomto zařízení byly pěstovány monokrystaly safíru o 0 85 mm A hmotnosti 2,8 kg, přičemž 80% objemu krystalu bylo bez optických a strukturních vad.
Příklad 2
Na stejném zařízený s tím rozdílem, že místo wolframu byl všude použit molybder^ místo vakua ochranná atmosféra ze směsi 80' helia a 20% vodíku a otvory v přepážkách (5) byly zvětšeny na 40 mm,byly pěstovány monokrystaly YAIO^ s obsahem 1 vah.% Nd20pro laserové účely. Byly vypěstovány krystaly o 0 60 mm a hmotnosti 2 kg, u nichž bylo 60% objemu opticky čistého materiálu, použitelného pro laserové výbrusy.

Claims (1)

  1. PŘEDMĚT VYNÁLEZU
    265 100
    Zařízení pro pěstování monokrystalů vysokotajících oxidových materiálů na zárodku z taveniny, sestávající z osov£ symetricky uspořádaného nosiče zárodku, kelímku, elektrického odporového topného tělesa, vytvořeného z jednoho nebo několika do kruhu sestavených článků, obklopených tepelným stíněním, vyznačené tím, že horní okraj kelímku (2) leží o 6 až 30% jeho vnějšího průměru nad horním okrajem topného systému (1), okolo něhož je souose umístěno 5 až 25 stínících plechových válců (4), z nichž 1 až 5 vnitřních válců přesahuje horní okraj topného systému (1) o 3 až 20% ostatní válce o 20 až 80% průměru topného systému, dále jsou v prostoru mezi kelímkem (2) a nad topným systémem (1) umístěny 1 až 3 vodorovné stínící přepážky (3) s mezerami mezi sebou rovnými 2 až 10 násobku jejich tloušiky a v prostoru nad kelímkem (2) a topným systémem (1) je umístěno 3 až 20 vodorovných stínících přepážek (5) opatřených ve svislé ose otvory o průměru 15 až 50% vnějšího průměru kelímku (2), přičemž první přepážka leží nad horním okrajem kelímku (2) ve výši 4 až 23% a poslední ve výši 26 až 77%, vztaženo na vnější průměr kelímku (3).
CS88442A 1988-01-25 1988-01-25 Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny CS265100B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS88442A CS265100B1 (cs) 1988-01-25 1988-01-25 Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS88442A CS265100B1 (cs) 1988-01-25 1988-01-25 Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS44288A1 CS44288A1 (en) 1988-12-15
CS265100B1 true CS265100B1 (cs) 1989-09-12

Family

ID=5336486

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS88442A CS265100B1 (cs) 1988-01-25 1988-01-25 Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS265100B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS44288A1 (en) 1988-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100786878B1 (ko) 단결정 육성장치, 그 장치를 이용한 단결정 제조방법 및단결정
US5264189A (en) Apparatus for growing silicon crystals
US4981549A (en) Method and apparatus for growing silicon crystals
CN102268732B (zh) 单晶及其制造方法
KR101216256B1 (ko) 단결정 실리콘 연속성장 시스템 및 방법
US5820649A (en) Method of and apparatus for continuously producing a solid material
WO2014085388A1 (en) Heat shield for improved continuous czochralski process
US3701636A (en) Crystal growing apparatus
US7235128B2 (en) Process for producing single-crystal semiconductor and apparatus for producing single-crystal semiconductor
CS265100B1 (cs) Zařízení pro pěstování vysokotajících oxidových monokrystalu z taveniny
US4510609A (en) Furnace for vertical solidification of melt
JP2709310B2 (ja) 単結晶引上げ装置
KR960000062B1 (ko) 수지상 웨브 결정의 성장 방법 및 장치
KR101464561B1 (ko) 사파이어 잉곳 성장장치 및 이에 이용되는 로드 히터
GB1591670A (en) Crystal growing operations
JP2818552B2 (ja) 縦形の単結晶製造装置
CS264935B1 (cs) Způsob úpravy růstových podmínek a pěstování safíru modifikovanou Kyropoulovou metodou
JPH01317188A (ja) 半導体単結晶の製造方法及び装置
RU2759623C1 (ru) Опора тигля для выращивания кристаллов
US3212858A (en) Apparatus for producing crystalline semiconductor material
SU1424379A1 (ru) Устройство дл выт гивани кристаллов из расплава
JPH01145391A (ja) 単結晶引上装置
CS209598B1 (cs) Zařízení pro pěstování monokrystalů, s vysokým bodem tuhnutí z taveniny
RU2261296C1 (ru) Устройство для выращивания монокристаллов из расплава
Henry et al. Zone melt growth of GaAs for gamma ray detector applications