CS208619B1 - Způsob nanášení materiálu - Google Patents
Způsob nanášení materiálu Download PDFInfo
- Publication number
- CS208619B1 CS208619B1 CS853179A CS853179A CS208619B1 CS 208619 B1 CS208619 B1 CS 208619B1 CS 853179 A CS853179 A CS 853179A CS 853179 A CS853179 A CS 853179A CS 208619 B1 CS208619 B1 CS 208619B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- boat
- deposited
- layer
- metal
- vapor deposition
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
(54)
Způsob nanášení materiálu
Vynález se týká způsobu nanášení materiálu vakuovým napařovacím procesem z přímo žhavené lodičky.
Dosavadní způsob nanášení materiálu odpařováním materiálu ze žhavené lodičky, běžný u materiálů jež se snadno ve vakuu napařují, je značně obtížný u materiálů s vyšším bodem tání. V těchto případech je totiž nutno žhavit lodičku na vysokou teplotu, což klade zvláštní nároky na kvalitu lodičky, odvod nadměrného tepla, udržení vysokého vakua, potlačení tvorby oxidů, atd. Řešení těchto problémů je tak náročné, že sé u těchto materiálů (jako např. nikl) volí raději jiné cesty nanášení, např. naprašování ve výboji, něho nanášení použitím elektronového děla apod.. Tyto metody však vyžadují přiměřené úpravy napařovací aparatury a nová nákladná přídavná zařízení. Navíc, tyto metody působí rovněž různá omezení (v tlouštce a nerovnoměrnosti nanesené vrstvy apod.).
Výše uvedené nedostatky jsou podle vynálezu odstraněny v podstatě tím, že se k nanášení materiálu vakuovým napařovacím procesem použije lodičky, na níž je materiál chemicky, galvanicky, nebo sedimentací vyloučen ještě před vlastním napařovacím procesem, začínajícím žhavením lodičky. Materiál se vyloučí na celý povrch lodičky nebo jen na aktivní odpařovači části povrchu, a to tak, že vyloučená homogenní vrstvička materiálu tvoří s lodičkou kompaktní celek.
Tím, že materiál určený k odpařování tvoří s lodičkou kompaktní celek, je docíleno
208 619
208 819 velmi dobrého převodu tepla z lodičky na materiál. Materiál se navíc rychle a rovnoměrné zahřeje, protože je vytvořen v tenké rovnoměrné homogenní vrstvě. Touto cestou je možno napařovat i materiály, které lze jinak napařovat velmi nesnadno, a to při přijatelném žhavení lodičky, bez nebezpečí neúměrně vysokých gradientů tepla na styku lodička-materiál, způsobujících povrchovou oxidaci nebo jinou změnu materiálu. Tím lze podstatně rozšířit použitelnost napařovací technologie i na případy, které se jinak řeší použitím naprašovaoí technologie, použitím elektronového děla apod.. Zvláště výhodný je tento způsob nanášení pro kovové materiály, které tvoří s kovy,z niohž je zhotovena lodička, eutek tické slitiny a mají dostatečnou tensi par teprve při teplotách podstatně vyšších než odpovídá eutektiokému bodu, nebo i bodu tání uvažovaného nanášeného kovového materiálu. Dosavadní způsoby běžného napařování z lodičky vedou k rychlé destrukci lodičky, protože eutektická slitina může vzniknout s neomezeným množstvím kovu lodičky. Způsob podle vynálezu umožňuje nanášet homogenní vrstvy kovového materiálu v omezené tloušlce na povrch lodičky, a tím se může vytvořit pouze vrstva eutektika omezené tlouštky, která neohrožuje životnost lodičky. Proto je možno tímto způsobem dosáhnout vysoké ryohlosti napařování a vytváření kvalitních vrstev i při napařování např. niklových vrstev.
Na obr. 1 je znázorněn jeden příklad provedení lodičky s vyloučenou vrstvou materiálu 2 na aktivní části povrchu lodičky.
Na obr. 2 je lodička 1. (např. z wolframu) ve tvaru pásku, na němž je vrstva materiálu 2 (např. 5 /a. niklu) vyloučena na celém povrchu pásku.
Jako jeden z možných příkladů nanášení materiálu podle vynálezu lze uvést, případ., kde podle obr. 2 je lodička 1. z wolframu, materiálem 2 je nikl. Nikl se na povrch lodičky vyloučí chemicky a při žhavení lodičky se ve vakuu z lodičky odpařuje a nanáší na před met určený k pokovování.
Způsob nanášení materiálu podle vynálezu lze též s výhodou využít např. u některých materiálů, které při jinýoh způsobech nanášení podléhají chemickým zrněném. Výhodný je ten to způsob také tam, kde se kladou přísnější požadavky na rovnoměrnost nanesené vrstvy, ne bo se požaduje větší tlouštka vrstvy, větší rychlost naparování apod., oož lze poměrně obtížně docílit jinými metodami, jako např. katodickým naprašováním.
Claims (5)
- PŘEDMĚT VYNÁLEZU1. Způsob nanášení materiálu vakuovým napařovacím procesem z přímo žhavené lodičky, vyznačený tím, že materiál určený k napařování se v homogenní vrstvě vyloučí na povrch lodičky, alespoň na její aktivní část, ještě před vlastním napařovacím procesem, začínajícím žhavením lodičky.
- 2. Způsob nanášení materiálu podle bodu 1, vyznačený tím, že materiálem vyloučeným na povrchu lodičky je kov.
- 3. Způsob nanášení materiálu podle bodu 1, vyznačený tím, že materiál je na lodičku vy3208 019 loučen galvanicky,
- 4, Způsob nanášení materiálu podle bodu 1, vyznačený tím, že materiál je na lodičku vyloučen chemicky,
- 5, Způsob nanášení materiálu podle bodu 1, vyznačený tím, že materiál je na lodičku vyloučen sedimentací ze suspenze a následně sintrován.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS853179A CS208619B1 (cs) | 1979-12-07 | 1979-12-07 | Způsob nanášení materiálu |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS853179A CS208619B1 (cs) | 1979-12-07 | 1979-12-07 | Způsob nanášení materiálu |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS208619B1 true CS208619B1 (cs) | 1981-09-15 |
Family
ID=5435950
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS853179A CS208619B1 (cs) | 1979-12-07 | 1979-12-07 | Způsob nanášení materiálu |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS208619B1 (cs) |
-
1979
- 1979-12-07 CS CS853179A patent/CS208619B1/cs unknown
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3230110A (en) | Method of forming carbon vapor barrier | |
US2866724A (en) | Coated evaporating elements and method of utilizing same | |
JP2004315898A (ja) | 蒸着装置における蒸発源 | |
US6645572B2 (en) | Process for producing a ceramic evaporation boat having an improved initial wetting performance | |
CS208619B1 (cs) | Způsob nanášení materiálu | |
US5671322A (en) | Lateral flash evaporator | |
US3420978A (en) | Pretreatment method for antiwettable materials | |
US3708325A (en) | Process for metal coating boron nitride objects | |
US3430937A (en) | Evaporant holder | |
JP3355148B2 (ja) | 改良された初期濡れ性能を有するセラミック蒸発ボート及びその製造方法 | |
JPS62247065A (ja) | るつぼ型蒸着源 | |
US2866725A (en) | Coated evaporating elements and method of utilizing same | |
JPH09143694A (ja) | 真空蒸着装置のルツボ加熱方法 | |
JPH0673543A (ja) | 連続真空蒸着装置 | |
JPS59203644A (ja) | 蒸発源用るつぼ | |
US2384576A (en) | Apparatus for forming corrosion resisting films | |
US3647524A (en) | Vapor phase metal plating process | |
US3529130A (en) | Coated configuration and method for prevention of vaporization splattering of thin film surfaces | |
JPH03170661A (ja) | 昇華性金属の蒸発方法 | |
JPH0230754A (ja) | 蒸着方法 | |
JPS5827980A (ja) | 真空蒸着法 | |
JPS59104472A (ja) | フラツシユ蒸着方法 | |
JPS61163267A (ja) | 真空蒸着装置 | |
US3761302A (en) | Reducing re evaporation of vacuum vapor deposited coatings | |
JP2582095B2 (ja) | ダイヤモンドヒートシンクの製造法 |