CS206603B1 - Device for heat influence compensation in the adjusting and illuminating apparatus - Google Patents

Description

Vynález se týká zařízení pro kompensaci působení tepla na šablonu a substrát v seřizovacím .a osvětlovacím zařízení, které je vyvoláváno osvětlením a okolní teplotou.

Stály rozvoj mikroelektroniky k vyšším stupňům integrace, a tím k menším strukturám, klade stále větší požadavky na výrobní zařízení ve fotolítografii; Aby bylo možno dosáhnout těchto struktur o velikosti ž 1 μτα, jsou například pro systém šablona — substrát nutné přesnosti překrývání řádově á 0,1 ^m. Pro průměry polovodičových kotoučů do 100 mm je již nutno očekávat, vzhledem k . různým tepelným roztahováním šablony a substrátu, nerovnoměrnost překrývání. Obtíže vzhledem k dosažení přesnosti překrývání v celém rozsahu průměru jsou dány vzhledem k rozdílným teplotním změnám délky substrátu a šablony jako přímý ' .následek vyzářené .energie při osvícení a následkem různých prostorových teplot.

Pro zmenšení vyzařování tepelné energie, při -osvětlování je u známých fotolitografických zařízení užíváno filtrů, chránících před teplem. Avša'k při užití takových filtrů je následkem snížení intenzity v oblasti užitečného spektra nutné prodloužení doby osvícení, což vede ke snížení produikivity seřizovacího a . osvětlovacího zařízení. Kromě toho nemůže být . filtry snížen vliv teploty prostředí.

Cíl vynálezu spočívá v zaručení rovnoměrnosti překrývání, způsobem, odpovídajícím udané přesnosti překrývání, pro systém šablona — substrát v každém bodě oblasti průměru polovodičového kotouče.

Výše uvedené nevýhody nemá zařízení pro kompenzaci tepla u seřizovačích a osvětlovacích zařízení podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že zahrnuje nosič substrátu, spojený s termostatem, a alespoň jednu trysku pro ofukování šablony proudem ' plynu řízeným termostatem. U výhodného provedení vynálezu je nosič substrátu prostřednictvím kapalinového oběžného systému v účinném spojení s termostatem, a tryska je uspořádána koncentricky vzhledem ke středu šablony.

Dále jek trysce připojen systém pro přívod plynu, sestávající z měřícího čidla, řídicího přístroje, akčního členu, výměník tepla a přídavný termostat. Závěrka ' osvitu, uspořádaná v . dráze . paprsků osvětlovacího . zařízení, může být s výhodou spojena· s řídícím přístrojem, za účelem regulace požadované teploty proudu plynu prostřednictvím vysílání signálů v závislosti . na době svého otevření pomocí řídícího přístroje.

Pomocí zařízení podle vynálezu je tedy možná eliminace vlivu rozdílných změn délky substrátu a šablony,

Vynález je blíže vysvětlen . na příkladu pro2 vedení zobrazeném na přiloženém výkresu.

Ze schematického znázornění vyplývá, že systému, tvořenému substrátem 1 a šablonou 3, je ve styku se spodní stranou substrátu 1 přiřazen nosič 2 substrátu, spojený s termostatem. Na horní straně šablony 3, koncentricky vzhledem к jejímu středu, se nachází tryska 4 pro ofukování šablony 3 proudem 14 plynu ovládaným termostatem, který je směrován v radiálním směru z vnějšku směrem dovnitř, na povrch šablony 3. Mezi substrátem 1 a šablonou 3 může, jak je znázorněno na výkrese, existovat jak paralelní vzdálenost, tak i bezprostřední styk obou částí. Regulace teploty nosiče 2 substrátu je prováděno termostatem 5, který je prostřednictvím kapalinového cirkulačního systému 15 účinně spojen s nosičem 2 substrátu 2. К trysce 4 je připoj en systém 10 pro přívod plynu, tvořený měřicím čidlem 6, řídicím členem 7 a akčním členem 8, tomuto, systému je. dále přiřazen výměník tepla 11 s přídavným termostatem 9. Měřící čidlo 6 může být však také uspořádáno v trysce 4, jak je znázorněno na výkrese, nebo bezprostředně na šabloně 3.

Při menších požadavcích na přesnost je možné spojit výměník tepla 11 s termostatem 5. U takto zjednodušeného provedení mohou řídicí člen 7 a akční člen 8 odpadnout. Proud plynu 14 nabývá potom přibližně požadované teploty. Závěrky osvitu 13 uspořádané v dráze papnsků 12, je užito к vysílání signálů pro řídicí člen 7, takže v závislosti na době jejího otevření může být regulována požadovaná teplota proudu plynu 14. Zvýšení teploty šablony 3, к němuž dochází během osvětlování, může být zmírněno tím, že je šablona 3 občas -otfukována proiudem plynu 14, jehož teplota je nižší než požadovaná teplota.

Claims (5)

1. Zařízení pro kompenzaci působení tepla v seřizovacím a osvětlovacím zařízení, vyznačené tím, že zahrnuje nosič (2) substrátu, spojený s termostatem, a alespoň jednu trysku (4) pro ofukování šablony (3) proudem plynu tepelně regulovatelným termostatem.

2. Zařízení podle' bodu 1, vyznačené tím, že zahrnuje kapalinový cirkulační systém (15), který je spojen s termostatem (5) a nosičem (2) substrátu.

3. Zařízení podle bodu 1 nebo 2, vyznačené tím, že tryska (4) je uspořádána koncentricky vzhledem ke středu šablony (3).

4. Zařízení podle bodu 1, vyznačené tím, že zahrnuje systém (10) pro přívod plynu к trysce (4), měřicí čidlo (6), řídicí člen (7), akční člen (8) a výměník tepla (11) s termostatem (9).

5. Zařízení podle bodu 1, vyznačené tím, že závěrka (13) osvitu, uspořádaná v dráze paprsků osvětlovacího zařízení, je spojena s řídicím členem (7).