JPH02302757A - 冷却機能付ペリクル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 レチクルの表面に異物が付着するのを防止するペリクル
の構造の改良に関し、 ペリクルのペリクルフレームが熱膨張し、ペリクル膜が
傾斜するのを防止することが可能な冷却機能付ペリクル
の提供を目的とし、 ペリクル膜を接着したペリクルフレームをレチクルに貼
り付け、前記レチクルの表面に異物が付着するのを防止
するペリクルにおいて、前記ペリクルフレームの内部に
、両端に冷却水供給口と冷却水排出口とを備えた冷却水
流路を具備するよう構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、レチクルの表面に異物が付着するのを防止す
るペリクルの構造の改良に関するものである。

半導体装置の製造工程のフォト工程における棺先に用い
る連続縮小露光装置（以下、ステッパと称する。）にお
いては、光源から放射される光線がペリクル膜及びレチ
クルを透過し、縮小レンズにより縮小されて半導体ウェ
ーハの表面に形成されたレジスト膜に照射されるが、長
時間にわたって連続して使用すると、レチクル及びペリ
クルフレームの温度が上昇し、ペリクルフレームが熱膨
張するので、ペリクル膜に加えられていた引っ張り力が
なくなり、露光の精度を低下させる障害が発生しており
、高精度が要求される超高集積度の半導体装置の製造工
程において問題となっている。

以上のような状況から、超高集積度の半導体装置の製造
工程において用いることが可能な、ペリクル膜の引っ張
り力に変化が起こらないペリクルが要望されている。

〔従来の技術〕

従来のペリクルについて第２図〜第４図により説明する
。

第３図は従来のペリクルを示す図である。

図に示すように、ペリクル１１はペリクル膜１１ａに引
っ張り力を加えながらペリクルフレームｌｌｂに接着剤
によりペリクル膜１１ａを貼り付け、ペリクル膜１１ａ
を貼付した面の反対側に接着剤１１ｃを形成したもので
ある。

第２図はステッパの概略構成を示す図である。

第３図に示すようなペリクルを、通常はレチクル３の両
面にペリクル１１の接着剤によりペリクル１１を貼付し
たペリクル付のレチクル３をステッパに装着し、光源４
から放射された光線４ａをこのペリクル付のレチクル３
を透過させ、縮小レンズ５によりレチクル３を透過した
光線４ａを縮小して半導体ウェーハ６の表面に形成した
レジスト膜７に照射している。

このような状態で長時間にわたってステッパを使用する
と、光線４ａによりペリクル及びレチクルが加熱される
ようになり、ジュラルミンからなるペリクルフレームが
熱膨張し、そのためにペリクル膜に加わっていた引っ張
り力が小さくなり、第４図（ａｌに示すようにペリクル
膜１ａの中央部が下方にたれるようになる。

〔発明が解決しようとする課題〕

以上説明した従来のペリクルにおいては、ペリクル付レ
チクルをステッパで長時間にわたって連続して使用する
と、第４図（８）に示すように光線によってペリクルフ
レームｌｌｂが加熱され、そのためにペリクルフレーム
Ｉｌｂが熱膨張し、ペリクルフレームｌｌｂに貼り付け
たペリクル膜１１ａに加えられていた引っ張り力が小さ
くなり、ペリクル膜１１ａの中央部が下方にたれるよう
になり、光線に対して垂直であったペリクル膜１１ａが
傾斜するようになる。

このように光線４ａに対してペリクル膜１１ａが傾斜す
ると、第４図（ｂ）に示すようにペリクル膜１１ａの傾
斜に伴って像シフトが生じ、図に示すようにレチクル３
のＡ点のパターンが半導体ウェーハ６の表面ではこの像
シフトの距離だけずれてＢの位置に照射されるようにな
るから、傾斜の度合が大きな周辺部程この像シフトが太
き（なり、レチクル３のパターンが半導体ウェーハに高
精度に照射されなくなるという問題点があった。

本発明は以上のような状況から、ペリクルのペリクルフ
レームが熱膨張し、ペリクル膜が傾斜するのを防止する
ことが可能な冷却機能付ペリクルの提供を目的としたも
のである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の冷却機能付ペリクルは、ペリクル膜を接着剤に
より接着したペリクルフレームを、接着剤を用いてレチ
クルに貼り付け、前記レチクルの表面に異物が付着する
のを防止するペリクルにおいて、前記ペリクルフレーム
の内部に、両端に冷却水供給口と冷却水排出口とを備え
た冷却水流路を具備するよう構成する。

〔作用〕

即ち本発明においては、ペリクルのペリクルフレームの
内部に冷却水流路を設け、これに接続す　゛る冷却水供
給口及び冷却水排出口を設け、冷却水供給口から冷却水
を供給し、冷却水排出口から冷却水を排出するから、ペ
リクルフレームの温度を常に冷却水の温度と同じに維持
し、ペリクルフレームの熱膨張を防止することが可能と
なる。

したがってペリクル膜に加えられている引っ張り力が変
化するのを防止し、常にステッパの光線がペリクル膜に
対して垂直に照射されるようにすることが可能となるの
で、レチクルのパターンを高精度で半導体ウェーへの表
面に転写することが可能となる。

〔実施例〕

以下第１図〜第２図により本発明による一実施例を詳細
に説明する。

第１図は本発明による一実施例の冷却機能付ペリクルを
示す図である。

ペリクル１は第１図（ａ）に示すように、ペリクル膜１
ａに引っ張り力を加えながらペリクルフレームｌｂに接
着剤によりペリクル膜１ａを貼り付け、ペリクル膜１ａ
を貼付した面の反対側に接着剤ＩＣを形成したものであ
る。

ペリクルフレームｌｂの内部には第１図（ａｌ及び（ｂ
ｌに示すように、冷却水流路２が設けられており、その
両端はそれぞれ図示のように冷却水供給口２ａ及び冷却
水排出口２ｂに接続されている。

このようなペリクル付レチクル３を第２図に示すステッ
パに装着して長時間にわたってステッパを使用すると、
光線４ａによりペリクル及びレチクルが加熱されるが、
ペリクルフレーム１ｂの内部の冷却水流路２には常に一
定の温度、例えば１２℃程度の冷却水が流れているので
、ペリクルフレーム１ｂが熱膨張しない。したがってペ
リクル膜１ａには製造時に加えた引っ張り力が常に働い
ておりステッパの照射光に対して垂直状態が維持される
ので、ペリクル膜１ａの傾斜による像シフトが生じない
から、レチクル３のパターンを半導体ウェーハ６の表面
に高精度で照射することが可能となる。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように本発明によれば、極めて
簡単なペリクルフレームの構造の変更により、ステッパ
使用時におけるペリクルフレームの熱膨張を防止し、ペ
リクル膜のたるみを防止することが可能となるので、レ
チクルのパターンの高精度の照射を行うことが可能とな
る等の利点があり、著しい信頬性向上の効果が期待でき
冷却機能付ペリクルの提供が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による一実施例の冷却機能付ペリクルを
示す図、 第２図は連続縮小露光装置の概略構成を示す図、第３図
は従来のペリクルを示す側断面図、第４図は発明が解決
しようとする問題点を示す図、 である。 図において、 １はペリクル、　　　　　１ａはペリクル膜、１ｂはペ
リクルフレーム、ＩＣは接着剤、２は冷却水流路、　　
　　２ａは冷却水供給口、２ｂは冷却水排出口、　　３
はレチクル、４は光源、　　　　　　　４ａは光線、５
は縮小レンズ、　　　　６は半導体ウェーハ７はレジス
ト膜、 を示す。 ＋ａｔ　　側断面図 連続縮小露光装置の概略構成を示す面 落　２　図 従来のペリクルを示す側断面図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ペリクル膜（１ａ）を接着したペリクルフレーム（１ｂ
   をレチクル（３）に貼り付け、前記レチクル（３）の表
   面に異物が付着するのを防止するペリクル（１）におい
   て、 前記ペリクルフレーム（１ｂ）の内部に、両端に冷却水
   供給口（２ａ）と冷却水排出口（２ｂ）とを備えた冷却
   水流路（２）を具備することを特徴とする冷却機能付ペ
   リクル。