CS205549B1 - Lázeň pro selektivní odstranění vrstev niklu, cínu, olova a jejioh slitin z mědi nebo slitin mědi - Google Patents
Lázeň pro selektivní odstranění vrstev niklu, cínu, olova a jejioh slitin z mědi nebo slitin mědi Download PDFInfo
- Publication number
- CS205549B1 CS205549B1 CS682678A CS682678A CS205549B1 CS 205549 B1 CS205549 B1 CS 205549B1 CS 682678 A CS682678 A CS 682678A CS 682678 A CS682678 A CS 682678A CS 205549 B1 CS205549 B1 CS 205549B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- acid
- copper
- alloys
- nickel
- bath
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 32
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims description 16
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 title description 17
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 16
- -1 aromatic nitro compound Chemical class 0.000 claims description 10
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 claims description 6
- RVEZZJVBDQCTEF-UHFFFAOYSA-N sulfenic acid Chemical class SO RVEZZJVBDQCTEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DLLMHEDYJQACRM-UHFFFAOYSA-N 2-(carboxymethyldisulfanyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CSSCC(O)=O DLLMHEDYJQACRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003396 thiol group Chemical class [H]S* 0.000 claims description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 claims 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- ONMOULMPIIOVTQ-UHFFFAOYSA-N 98-47-5 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 ONMOULMPIIOVTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCLSOMLVSHPPFV-UHFFFAOYSA-N 3-(2-carboxyethyldisulfanyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCSSCCC(O)=O YCLSOMLVSHPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical compound NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUSMHIGDXPKSID-DVKNGEFBSA-N 1-thio-beta-D-glucopyranose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](S)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O JUSMHIGDXPKSID-DVKNGEFBSA-N 0.000 description 1
- RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trifluoromethoxy)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(OC(F)(F)F)C=C1 RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFPHMAVQAJGVPV-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylbutanoic acid Chemical compound CCC(S)C(O)=O CFPHMAVQAJGVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFPHTEQTJZKQAQ-UHFFFAOYSA-N 3-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 AFPHTEQTJZKQAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFIRODWJCYBBHY-UHFFFAOYSA-N 3-nitrophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1C(O)=O KFIRODWJCYBBHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQPNXPWEGVCPCX-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylbutanoic acid Chemical compound CC(S)CC(O)=O RQPNXPWEGVCPCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- HVAFGESYLSBECZ-UHFFFAOYSA-N borotrithioic acid Chemical compound SB(S)S HVAFGESYLSBECZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAODIKUWGRDBO-UHFFFAOYSA-N butanethioic s-acid Chemical compound CCCC(O)=S DGAODIKUWGRDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- WQABCVAJNWAXTE-UHFFFAOYSA-N dimercaprol Chemical compound OCC(S)CS WQABCVAJNWAXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- ZHPNWZCWUUJAJC-UHFFFAOYSA-N fluorosilicon Chemical compound [Si]F ZHPNWZCWUUJAJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N monothioglycerol Chemical compound OCC(O)CS PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- IXHMHWIBCIYOAZ-UHFFFAOYSA-N styphnic acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C(O)=C1[N+]([O-])=O IXHMHWIBCIYOAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/44—Compositions for etching metallic material from a metallic material substrate of different composition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
Vynález se týká lázně pro selektivní odstranění vrstev niklu, olova, cínu a jejioh slitin z mědi, nebo slitin mědi.
Dosud známé roztoky podobných vlastností, založené na použití komplexujících aminosloučenin a komplexujíoíoh aniontů rozpouštění niklu a nerozpouštějí olovo ani oín. Komplexotvorné látky způsobují potíže při likvidaci lázní a oplachových odpadních vod. Dále známé kyselé roztoky neuvádějí použití inhibitorů, které by bránily rozpouštění mědi. Znečištění lázně mědí má za následek cementaci této na rozpouštěný kov, zvláště nikl, čímž je potlačeno další rozpouštění.
Uvedené nedostatky odstraňuje lázeň pro selektivní odstranění vrstev niklu, oínu, olova a jejich slitin z mědi a slitin mědi obsahující 5 až 500 g/1 silně disocloVané kyseliny, 1 až 300 g/1 aromatické nitrosloučeniny podle vynálezu, jejíž podstata spočívá v tom, že obsahuje 1θ”5 až ÍO*^ M/l alifatických merkaptokyselin, nebo merkaptoalkoholů, nebo disulfidů od nich odvozených.
Popsaná lázeň umožňuje dosud nezvykle rychlé rozpouštění kovů a její účinek vlivem použitých inhibitorů zůstává dlouhodobý. Povrch výrobků po odstranění vrstev niklu, cínu, olova, nebo jejich slitin není narušen, nedochází k váhovým změnám a nemění se lesk povrchu proti stavu před nanesením odstraňované vrstvy kovu. Takto zpracované výrobky je
205 549
II 5 5 4 9 možné galvanizovat ihned po oplaohu v roztoku alkalického kyanidu, nebo elektrolytickém působení v odmašťovacích roztooích běžných typů, nebo po bleskovém moření v oxydujíoíoh kyselinách.
Vynálezem zavedené alifatické merkaptokyseliny obecného složení (HOOC)X R(SH)y a disulf Idy od nich odvozené obecného složeni (HOOC)XR-S-S-R-(COOH)X kde x 1 až 3ι 2 1 až 2 a R je alkylový, nebo alkonový radikál, mohou být také použity ve formě kovových solí, nebo r.A uhlících alkyl, nebo alken radikálů dále substituovaných sloučenin.
Merkaptoalkoholy obecného složení:
(Η0)χ R (SH)y (H0)_ R - S - S - R (OH) / \ (SH)^ kde x je 1 až 4, j je 1 až 5, R je alkyl, nebo alkenradikál b počtem uhlíků 1 až 12, mohou také být použity jako sloučeniny substituované na R. Jako merkaptokyseliny mohou být na příklad použity: kyselina merkaptoootová, ob - merkaptopropionová, /3 -merkaptopropionová, thiojablečná, - merkaptomáselná, eb - merkaptomáselná a podobně. Jako disulfidy od merkaptokyseliny odvozenýoh, je vhodné použít na příklad: kyselinu dithioglykolovou, dithiodiproplonovou, dithiodijablečnou, dithiodimáselnou, které jsou odvozeny od svýoh eó nebo /5 forem a podobně. Jako merkaptoalkoholy jsou vhodné dlmerkaptoetanol, 3-merkap to-l,2-propandiol, dithlothreltol,/3 -D-thioglukoza, 2,3-dimerkapto-l,2propanol a podobně
Koncentrace používaných merkaptosloučenin v lázni pro selektivní rozpouštění je volena v rozsahu 10“^ ίο“1 Molů na litr, volba konoentrace souvisí s prostorovým uspořádáním molekuly a je určena emplrioky. Nejúčinnější oó -merkaptokyseliny s R - 1 až 2 a do nloh odvozené disulfidy, se vyznačují konoentrační tolerancí v rozsahu 5·1Ο~4 až 10~^ M, v běžné provozní praxi pak koncentraoí 10**^ M. Zvětšení molekuly 1 vzdálenosti skupin -SH a -COOH je spojeno se zúžením koncentračního oboru a nutnosti volby nízké koncentrace. Tak například kyselinu /3 -merkaptopropionovou je možné použít v konoentraol blízké 10~^M, kyselinu /3 -dithioproplonovou v koncentraci 5·1θ“^ a kyselinu ř -merkaptomáselnou v konoentraol 10'5 až 5.1O**5. Zvýšením konoentrace nad udanou kritickou konoentraol dochází v důsledku zvýěené pasivity k nižší rozpustnosti niklu, až k úplnému přerušení. Technologická aplikace extrémně nízkých koncentrací merkaptosloučenin je spojena s nekonstantními výsledky.
Merkaptosloučeniny obecně reagují s ionty jednomooné 1 dvojmooně mědi. Sloučeniny s Cu1 jsou vesměs nerozpustné na rozdíl od sloučenin Cu11, které často vytvářejí rozpustné komplexy. Rozpustné komplexy tvoří také sloučeniny s větším počtem thlolových skupin, dříve jmenovaných, na příklad dimerkaptopropanol. Pro inhibiční funkci jsou vhodné nerozpustné sloučeniny Cu1, které vznikají na základě reakcí (1) a (2).
205 549
RS( ) + Cu11 (RS)2 Cu11 (1) (RS)2 Cu11 —2 RS Cu11 + RSSR (2)
Disulfidy reagují s dvojmocnou mědí podle reakce (3)·
HOOC R - S - S - R COOH + 9 HgO + 10 CuS04
Cu 00C - CH2 - CH2 - SCu + 3 HOOC - R - SO^H + 10 H2SO4 (3)
Merkaptokyseliny, merkaptoalkoholy i jejich disulfidy jsou schopné podle reakcí (2) a (3) redukovat dvojvalentní měd na jednovalentní a vytvářet pasivní, nerozpustné, kompaktní povlaky, čímž dochází k požadovanému inhibičnímu účinku, V důsledku kvantitativních poměrů podle reakce (3) je nutné posunout koncentraci použitých disulfidů k vyšším hodnotám. Přitom, vzhledem k velikosti molekuly, je patrná zvýšená pasivita, to znamená, snížená rychlost v rozpouštění niklu. Na stabilitu a redukční schopnost má vliv i poloha karboxilové skupiny. Dithiodiglykolová kyselina je například podstatně stabilnější než dithiodipropionová kyselina s /3 - polohou karboxilové skupiny.
Organická nitrosloučenina s oxydačním účinkem je nejvýhodněji volena z aromatických derivátů a je používána například: kyselina m-nitrobenzoová, kyselina m-nitrobenzensulfonová, kyselina nitroftalová, kyselina dlnitrobenzoová, trinitroresorcinol, výhodně v koncentraci 20 až 100 g/1.
Jako silně disooiovanýoh kyselin je výhodné použití kyselin: sírová, fluoroboritá, fluorokřemičitá, amidosulfonová, méně výhodně chloristá, fluorovodíková, solná a pyrofosforečná. Z nich kyselina amidosulfonová a fluoroboritá jsou výhodné při rozpouštění cínu, olova a jejioh slitin.
Aplikace povrchově aktivních látek zlepšuje vlastnosti lázně, pro funkci věak nejsou tyto látky nezbytné. Výhodné je použití látek typá sulfonovanýoh vyšších mastných kyselin nebo methylen-bis-dinaftylsulfonových kyselin v koncentraci 1 až 5 g/1.
Lázeň popsaného složení pracuje při teplotě 10 až 100 °C, optimální provozní teplota je 60 až 90 °C. Rychlost rozpouštění niklu je v laboratorních podmínkách, při teplotě 70 °C, 50 g/m2.min.
Příklad 1 g/1 kyselina m-nitrobenzensulfonová ml/1 kyselina sírová
0,1 g/1 kyselina thioglykolová
V lázni byla docílena rozpustnost niklu při teplotě 70 °C, 40 až 60 g/m .min. Povrch zá203 549 kladního materiálu, kterým byl povlak lesklá mědi získaný galvanicky, byl tmavá zbarven.
Po oplachu předmětu v roztoku alkalického kyanidu byl obnoven lesklý povrch mědi ve stavu, který předcházel niklování a výrobek bylo možné po dekapaoi v roztoku kyseliny přímo niklovat.
Příklad 2
100 g/1 kyseliny amidosulfonové
100 g/1 kyseliny m-nitrobenzensulfonové
0,2 g/1 2-merkaptoetanolu
Roztok používaný v laboratorních podmínkách při 70 °C rozpouštěl 120 g/m .hod. slitiny olovo(60%) - cín(40%). Za stejnou dobu a stejných podmínek bylo rozpuštěno 20 g niklu.
Příklad 3 g/1 kyseliny nitrobenzoové
100 g/1 kyseliny chloristé
0,02 g/1 kyseliny e6-merkaptopropionové
Příklad 4 g/1 kyseliny m-nitrobenzensulfonové
100 g/1 kyseliny sírové
0,1 g/1 až 1 g/1 kyseliny thiojablečné
Roztok používaný v provozních podmínkách při teplotš 60 až 90 °C k odstraňování galvanioky vyloučenýoh vrstev niklu byl doplňován po rozpuštění 10 g/1 niklu přídavkem 0,2 g/1 kyseliny thiojablečné. Po dosažení konoentraoe 50 g/1 niklu byla doplněna kyselina sírová na základě analýzy. Tímto způsobem byl roztok používán až k dosažení konoentraoe 100 g/1, kdy byl likvidován. Likvidace lázně byla provedena obvyklým způsobem, to je srážením vápenným mlékem. Výsledek úpravy odpadních vod vyhovoval vodohospodářským požadavkům.
Doplňování inhibitorů je dále možné provádět na základě analytických metod u e6-merkaptokyselin na základě měření redoxpotenoiálu.
Claims (3)
- PŘEDMĚT VYNÁLEZU1. Lázeň pro selektivní odstranění vrstev niklu, olova, oínu a jejich slitin z mědi, nebo slitin mědi, která obsahuje 5 až 500 g/1 silně disociované kyseliny, 1 až 300 g/1 aromatické nitrosloučenlny, vyznačujíoí se tím, že obsahuje 10-^ až 10^ M/l alifatiokýoh merkaptokyselin, nebo merkaptoalkoholů, nebo disulfidů od nioh odvozenýoh.
- 2. Lázeň podle bodu 1, vyznačující se tím, že jako merkaptokyselinu obsahuje oC-merkaptokyseliny, nebo dieulfidy od Λ-merkaptokyselin odvozené v koncentraci 10~^ až 10“2 M/l.
- 3. Lázeň podle bodu 1 a 2, vyznačující se tím, že jako tb -merkaptokyselinu obsahuje kyselinu thioglykolovou, nebo dithiodiglykolovou.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS682678A CS205549B1 (cs) | 1978-10-20 | 1978-10-20 | Lázeň pro selektivní odstranění vrstev niklu, cínu, olova a jejioh slitin z mědi nebo slitin mědi |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS682678A CS205549B1 (cs) | 1978-10-20 | 1978-10-20 | Lázeň pro selektivní odstranění vrstev niklu, cínu, olova a jejioh slitin z mědi nebo slitin mědi |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS205549B1 true CS205549B1 (cs) | 1981-05-29 |
Family
ID=5416178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS682678A CS205549B1 (cs) | 1978-10-20 | 1978-10-20 | Lázeň pro selektivní odstranění vrstev niklu, cínu, olova a jejioh slitin z mědi nebo slitin mědi |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS205549B1 (cs) |
-
1978
- 1978-10-20 CS CS682678A patent/CS205549B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6165342A (en) | Cyanide-free electroplating bath for the deposition of gold and gold alloys | |
| JP6926120B2 (ja) | 基板表面の活性化を含む基板表面に金属または金属合金を析出させるための方法 | |
| EP0611840B1 (en) | Cyanide-free plating solutions for monovalent metals | |
| JP6980017B2 (ja) | 錫めっき浴および錫もしくは錫合金を基材の表面に析出させる方法 | |
| JPS6049717B2 (ja) | メツキ処理に先立つプラスチツク性被メツキ基質の前処理方法 | |
| US4222779A (en) | Non-chromate conversion coatings | |
| KR101624759B1 (ko) | 구리 층의 갈바닉 침착을 위한 시안화물-무함유 전해질 조성물 | |
| KR100813444B1 (ko) | 산성 처리액 및 구리 표면의 처리 방법 | |
| JPH0220714B2 (cs) | ||
| US8801844B2 (en) | Autocatalytic plating bath composition for deposition of tin and tin alloys | |
| KR102035012B1 (ko) | 플라스틱 공정에서의 도금에서 크롬 무함유 에칭이 사용되는 경우의 랙에 대한 저해제 조성물 | |
| SE8103008L (sv) | Bad och forfarande for elektrolytisk avdragning | |
| EP0361705A2 (en) | Gold plating bath and method | |
| JP2001107287A (ja) | Ｓｎ−Ｃｕ合金めっき浴 | |
| CS205549B1 (cs) | Lázeň pro selektivní odstranění vrstev niklu, cínu, olova a jejioh slitin z mědi nebo slitin mědi | |
| KR900000907B1 (ko) | 금속침전의 재산화/재용해 방지공정 | |
| JPS628518B2 (cs) | ||
| JPH10317157A (ja) | 置換金めっき浴 | |
| US3902907A (en) | System for electroless plating of copper and composition | |
| JP4355987B2 (ja) | スズ−亜鉛合金を電着するための水溶液 | |
| SE502520C2 (sv) | Bad, sätt och användning vid elektroplätering med tenn- vismutlegeringar | |
| GB2253634A (en) | Pretreating solution for silver plating to prevent silver displacement | |
| KR100568389B1 (ko) | 표면처리제, 그것을 사용한 표면처리물 및 무전해니켈도금방법 | |
| WO2001073167A1 (en) | Process for the deposition of a silver-tin alloy | |
| EP0384679B1 (en) | Electrolytic deposition of gold-containing alloys |