CN2807314Y - 金属液位限制装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于金属冶炼行业中对输送熔化的金属的溜槽的液位进行控制的金属液位限制装置,可方便实用的对金属液位进行控制。金属液位限制装置,是在输送通道中设置有与控制电路连接的两根导电体,两根导电体的下端均不高于输送通道的控制液位,至少一根导电体的下端设置在控制液位处。当输送通道中的金属液的液位到达控制液位时,两根导电体同时与金属液导通从而形成控制电路的回路,用于发出信号对输送通道的液位进行人工或自动控制。本装置充分利用了金属液的导电性能,结构简单实用,操作方便,反应迅速及时,可广泛的适用于金属冶炼行业中需要对输送熔化的金属的输送通道中的液位进行控制场合。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种位置控制装置,尤其是一种用于金属冶炼行业中对输送熔化的金属的溜槽的液位进行控制的金属液位限制装置。
背景技术
目前,金属冶炼行业中,经常要将冶炼后熔化的金属通过输送通道输送到熔铸等工位。例如在铝的冶炼过程中,熔炼后的铝液从倾动炉倾入输送铝液的溜槽中,通过溜槽将铝液输送到熔铸工位而制成铝锭等产品。一般而言,在正常的生产过程中,需要对溜槽中输送的铝液的液位的最高限度进行控制,否则会由于液位过高而使熔化的金属铝液外溢,不仅造成原材料、能源的浪费的极大浪费,还会导致生产成本增大以及设备损坏,甚至于造成人员伤亡。但在现有的铝冶炼工艺过程中,对输送熔化的金属铝液的溜槽中的铝液的液位控制都是通过目视或经验来进行控制的,既不准确也极其不方便,还容易因反映滞后而造成事故。
实用新型内容
为了克服现有金属冶炼工艺过程中对输送通道中熔化的金属的液位进行控制不方便的不足,本实用新型所要解决的技术问题是提供一种方便实用的金属液位控制装置。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:金属液位限制装置,是在输送通道中设置有与控制电路连接的两根导电体,两根导电体的下端均不高于输送通道的控制液位,至少一根导电体的下端设置在控制液位处。当输送通道中的金属液的液位到达控制液位时,两根导电体同时与金属液导通从而形成控制电路的回路,用于发出信号对输送通道的液位进行人工或自动控制。
本实用新型的有益效果是:采用上述结构的技术方案后,使其当输送通道内的金属液的液位升高至控制液位时,即可通过金属液将两根导电体导通而形成控制电路的回路,此时控制电路发出信号对输送通道的液位进行人工或自动控制,从而达到控制输送通道内的金属液的液位的目的。本装置充分利用了金属液的导电性能,结构简单实用,操作方便,反应迅速及时,可广泛的适用于金属冶炼行业中需要对输送熔化的金属的输送通道中的液位进行控制场合。
附图说明
图1是本实用新型的一种实施方式的结构示意图。
图2是本实用新型的另一种实施方式的结构示意图。
图中标记为:导电体1、导电体2、控制电路3、输送通道4、控制液位5。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
如图1、图2所示,本实用新型的金属液位限制装置,是在输送金属液的输送通道4中设置与控制电路3连接的两根导电体1、2,导电体1、2可以采用如碳棒、金属棒等导体制成。两根导电体1、2的下端均不高于输送通道4的控制液位5,至少一根导电体1的下端设置在控制液位5处。这样,当输送通道4内的金属液的液位升高至控制液位5时,即可通过金属液将两根导电体1、2导通而形成控制电路的回路,用于发出信号对输送通道4的液位进行人工或自动控制。
两根导电体1、2的设置位置可以有多种方式,都可实现本实用新型的目的。例如:将两根导电体1、2的下端均设置在输送通道4的控制液位5处,当金属液的液位升高至控制液位时,金属液同时与两根导电体1、2导通,从而使导电体1、2导通而形成控制电路的回路。也可以将一根导电体1的下端设置在输送通道4的控制液位5处,另一根导电体2的下端设置在输送通道4的控制液位5之下,同样也是在金属液的液位升高至控制液位时,才可以利用金属液导通导电体1、2形成控制电路的回路。
实施例:本实用新型的金属液位限制装置,是在冶炼铝的倾动炉出口处的溜槽中,设置两根与控制电路3连接的金属导电体1、2,两根导电体1、2的下端均设置在输送通道4的控制液位5上,当溜槽内的铝液的液位升高至控制液位5时,即可通过铝液将两根导电体1、2导通而形成控制电路的回路,用于发出信号对输送通道4的液位进行人工或自动控制。
Claims (4)
1、金属液位限制装置,其特征是:在输送通道(4)中设置有与控制电路(3)连接的两根导电体(1、2),两根导电体(1、2)的下端均不高于输送通道(4)的控制液位(5),至少一根导电体(1)的下端设置在控制液位(5)处。
2、如权利要求1所述的金属液位限制装置,其特征是:所述两根导电体(1、2)的下端均设置在输送通道(4)的控制液位(5)处。
3、如权利要求1所述的金属液位限制装置,其特征是:一根导电体(1)的下端设置在输送通道(4)的控制液位(5)处,另一根导电体(2)的下端设置在输送通道(4)的控制液位(5)之下。
4、如权利要求1、2或3所述的金属液位限制装置,其特征是:所述输送通道(4)为溜槽。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 200520034568 CN2807314Y (zh) | 2005-06-22 | 2005-06-22 | 金属液位限制装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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CN 200520034568 CN2807314Y (zh) | 2005-06-22 | 2005-06-22 | 金属液位限制装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN2807314Y true CN2807314Y (zh) | 2006-08-16 |
Family
ID=36921614
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN 200520034568 Expired - Lifetime CN2807314Y (zh) | 2005-06-22 | 2005-06-22 | 金属液位限制装置 |
Country Status (1)
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CN (1) | CN2807314Y (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104101403A (zh) * | 2014-07-21 | 2014-10-15 | 南通高新工业炉有限公司 | 一种铝液下限位测试装置 |
CN113477920A (zh) * | 2021-07-07 | 2021-10-08 | 上海交通大学 | 一种金属液充填节点监控装置、方法与反重力铸造设备 |
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2005
- 2005-06-22 CN CN 200520034568 patent/CN2807314Y/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
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Legal Events
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CX01 | Expiry of patent term |
Expiration termination date: 20150622 Granted publication date: 20060816 |