CN220655507U - 一种清洗托盘、自清洁装置及基站 - Google Patents

Abstract

一种清洗托盘，包括清洗槽，所述清洗槽内设有进液结构、多个凸起部、以及环设在凸起部周侧的第一凹槽部，所述清洗槽的中部且靠近后侧设有一浸泡区，至少一个凸起部位于浸泡区内，位于浸泡区内的凸起部上设有第二凹槽部，所述进液结构与第二凹槽部相连通，用于使清洗液蓄积在第二凹槽部内并在主机的左右两个清洁件旋转经过浸泡区时将其打湿。该清洗托盘能快速充分打湿清洁件，清洗效果较好，不易发生进液堵塞，且减轻了清理工作量。另外还提供一种自清洁装置及基站。

Description

一种清洗托盘、自清洁装置及基站

技术领域

本实用新型涉及扫地机技术领域，具体涉及一种清洗托盘、自清洁装置及基站。

背景技术

扫地机一般包括主机和基站，基站主要用于对主机上的清洁件进行自清洁或对主机提供充电服务。

申请公布号为CN110464265A的中国发明专利申请公开了一种基站，包括基站本体以及设置在基站本体底部的自清洁装置，自清洁装置的结构如图1所示，包括底座1a以及设置在底座1a上的清洗托盘2a，清洗托盘2a包括清洗槽3a，清洗槽3a内设有进液结构、排液结构、凸起部4a、以及环设在凸起部4a周侧的凹槽部5a，进液结构包括设置在清洗槽3a内的喷液孔6a，清洗托盘2a与底座1a之间形成有污水收集腔，污水收集腔与排液结构相连通。该自清洁装置的工作原理如下：喷液孔6a向清洗槽3a内喷洒清洗液，从而将主机的清洁件打湿，主机的清洁件旋转而与凸起部4a刮擦，从而将清洁件上的污滞和垃圾清除，清洗后的污水流向凹槽部5a并通过排液结构收集到污水收集腔内，由于凸起部4a的位置高于凹槽部5a的位置，使得清洁件在凸起部4a上，不容易与污水接触，清洗过后的清洁件不会再次被污水污染。

但是现有的基站的自清洁装置存在以下技术问题：清洗托盘2a采用喷液孔6a直接喷淋的方式，由于喷液孔6a喷出的清洗液量少且与清洁件接触后很快落入凹槽部5a排走，难以快速充分打湿清洁件，清洗效果较差；还有由于喷液孔6a一般孔径较小且数量较多，不仅容易发生进液堵塞，而且需要不断清理，增加了清理工作量。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是，克服现有技术的缺陷，提出一种清洗托盘，能快速充分打湿清洁件，清洗效果较好，不易发生进液堵塞，且减轻了清理工作量；还提出一种自清洁装置，能快速充分打湿清洁件，清洗效果较好，不易发生进液堵塞，且减轻了清理工作量；还提出一种基站，能快速充分打湿清洁件，清洗效果较好，不易发生进液堵塞，且减轻了清理工作量。

相比现有技术，本实用新型提出一种清洗托盘，包括清洗槽，所述清洗槽内设有进液结构、多个凸起部、以及环设在凸起部周侧的第一凹槽部，所述清洗槽的中部且靠近后侧设有一浸泡区，至少一个凸起部位于浸泡区内，位于浸泡区内的凸起部上设有第二凹槽部，所述进液结构与第二凹槽部相连通，用于使清洗液蓄积在第二凹槽部内并在主机的左右两个清洁件旋转经过浸泡区时将其打湿。

采用上述结构后，与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：本实用新型清洗托盘通过增设浸泡区，并使至少一个凸起部位于浸泡区内，再将进液结构与浸泡区内的凸起部的第二凹槽连通，即可将进液结构的清洗液引入到浸泡区内蓄积；这样主机的左右两个清洁件转动时，浸泡区内的凸起部主要对清洁件进行浸泡，而浸泡区外的凸起部主要对清洁件进行搓洗；由于清洗液大量蓄积在浸泡区的第二凹槽部内，使得清洁件经过浸泡区时可带走大量的清洗液，而大量的清洗液之间粘性和结合性均较好，从而使清洗液不易与清洁件分离而被排走，这样能更加快速充分地打湿清洁件，不断经过浸泡区，即可使清洁件获得充分的浸泡；另外，无需设置孔径小而数量多的喷液孔，从而不易发生进液堵塞，也减轻了清理工作量。

作为优选，所述凸起部设置三个，其中一个位于浸泡区内，另外两个位于浸泡区外且左右对称设置在清洗槽的前侧。合理数量的凸起部，不仅可保证左右两个清洁件均能获得可靠的清洁，而且也不会使结构过于复杂。

作为优选，所述第二凹槽部设置在凸起部的中间位置，所述进液结构包括设置在第二凹槽部内且位于后侧的喷液口，所述第二凹槽部内且位于喷液口的前方设置分流结构。该设置可使喷液口喷出的清洗液均匀分布到左右两侧，从而使两个清洁件均能被快速充分打湿。

作为优选，所述分流结构包括设置在喷液口正前方的导向块，所述导向块靠近喷液口的一端设置为尖角状。该分流结构简单，且分流效果好。

作为优选，所述导向块的另一端通过一分隔条与第二凹槽部前侧的中间位置相连。该设置可使分流后的清洗液能分别蓄积在相应侧，从而使分配到左右两侧的清洗液更加均匀。

作为优选，所述第二凹槽部设置为由后至前逐渐张开的扇形。该设置可使喷液口处喷出的清洗液流速减缓，从而更有利于清洗液蓄积在第二凹槽部内。

相比现有技术，本实用新型提出一种自清洁装置，包括底座，所述底座上设有上述清洗托盘，所述清洗托盘的清洗槽内还设有排液结构，所述清洗托盘与底座之间形成有污水收集腔，所述排液结构与污水收集腔相连通。

采用上述结构后，与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：本实用新型自清洁装置由于设置了上述清洗托盘，因此能快速充分打湿清洁件，清洗效果较好，不易发生进液堵塞，且减轻了清理工作量。

作为优选，所述排液结构包括均匀布设在清洗槽内且避开第二凹槽部的若干漏液孔，所述漏液孔与污水收集腔相连通，所述污水收集腔上还设有抽污液口，所述漏液孔的口径小于抽污液口的口径。该设置利用较小口径的漏液孔来过滤杂质，从而可防止污水堵塞抽污液口。

相比现有技术，本实用新型提出一种基站，包括基站本体，所述基站本体的底部设有上述自清洁装置。

采用上述结构后，与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：本实用新型基站由于设置了上述自清洁装置，因此能快速充分打湿清洁件，清洗效果较好，不易发生进液堵塞，且减轻了清理工作量。

作为优选，所述自清洁装置的清洗托盘的后侧设有磁铁，所述基站本体上与磁铁相应的位置处设有霍尔传感器。该设置可检测清洗托盘是否放置到位，有效防止污液外泄。

附图说明：

图1为现有基站的自清洁装置的结构示意图；

图2为实施例1中清洗托盘的正面结构示意图；

图3为实施例1中清洗托盘的背面结构示意图；

图4为实施例2中自清洁装置的结构示意图；

图5为图4中沿A-A′处的剖视图；

图6为实施例3中基站的结构示意图；

现有技术图中：1a-底座，2a-清洗托盘，3a-清洗槽，4a-凸起部，5a-凹槽部，6a-喷液孔；

本实用新型图中：1-清洗槽，2-凸起部，3-第一凹槽部，4-浸泡区，5-第二凹槽部，6-喷液口，7-导向块，8-分隔条，9-清洗托盘，10-底座，11-污水收集腔，12-抽污液口，13-漏液孔，14-自清洁装置，15-基站本体，16-磁铁。

具体实施方式

下面结合附图，并结合实施例对本实用新型做进一步的说明。

实施例1：

如图2-3所示，本实施例提供一种清洗托盘，包括清洗槽1，所述清洗槽1内设有进液结构、多个凸起部2、以及环设在凸起部2周侧的第一凹槽部3，所述清洗槽1的中部且靠近后侧设有一浸泡区4，至少一个凸起部2位于浸泡区4内，位于浸泡区4内的凸起部2上设有第二凹槽部5，所述进液结构与第二凹槽部5相连通，用于使清洗液蓄积在第二凹槽部5内并在主机的左右两个清洁件旋转经过浸泡区4时将其打湿。

所述凸起部2设置三个，其中一个位于浸泡区4内，另外两个位于浸泡区4外且左右对称设置在清洗槽1的前侧。

所述第二凹槽部5设置在凸起部2的中间位置，所述进液结构包括设置在第二凹槽部5内且位于后侧的喷液口6，所述第二凹槽部5内且位于喷液口6的前方设置分流结构；所述分流结构包括设置在喷液口6正前方的导向块7，所述导向块7靠近喷液口6的一端设置为尖角状；所述导向块7的另一端通过一分隔条8与第二凹槽部5前侧的中间位置相连；所述第二凹槽部5设置为由后至前逐渐张开的扇形。

实施例2：

如图4-5所示，并结合图2-3，本实施例提供一种自清洁装置，包括底座10，所述底座10上设有实施例1中的清洗托盘9，本实施例中清洗托盘9可拆式安装在底座10上，所述清洗托盘9的清洗槽1内还设有排液结构，所述清洗托盘9与底座10之间形成有污水收集腔11，所述排液结构与污水收集腔11相连通。

所述排液结构包括均匀布设在清洗槽1内且避开第二凹槽部5的若干漏液孔13，所述漏液孔13与污水收集腔11相连通，所述污水收集腔11上还设有抽污液口12，所述漏液孔13的口径小于抽污液口12的口径。

实施例3：

如图6所示，并结合图2-5，本实施例提供一种基站，包括基站本体15，所述基站本体15的底部设有实施例2中的自清洁装置14。

所述自清洁装置14的清洗托盘9的后侧设有磁铁16，所述基站本体15上与磁铁16相应的位置处设有霍尔传感器，霍尔传感器采用现有技术即可，图中不再给出示意。该设置可检测清洗托盘9是否放置到位，有效防止污液外泄。

本实用新型基站的工作过程如下：首先，将安装有磁铁16的清洗托盘9安装到底座10上，设置在基站本体15上的霍尔传感器会检测到磁通变化，从而可判断清洗托盘9是否安装到位；然后，控制主机停靠到基站的自清洁装置14内；接着，通过喷液口6提供清洗液并蓄积到浸泡区4的第二凹槽部5内，喷液口6喷出的清洗液在导向块7的分流作用下均匀分配到左右两侧；与此同时，启动主机的两个清洁件转动，这样浸泡区4内的凸起部2主要对清洁件进行浸泡，而浸泡区4外的凸起部2主要对清洁件进行搓洗，大量的清洗液蓄积在浸泡区4的第二凹槽部5内，可快速充分打湿清洁件；清洗过程中产生的污液通过清洗托盘9的漏液孔13流入污水收集腔11，污水收集腔11内收集的污液通过抽污液口12排出到自清洁装置14外。

Claims (10)

1.一种清洗托盘，包括清洗槽(1)，所述清洗槽(1)内设有进液结构、多个凸起部(2)、以及环设在凸起部(2)周侧的第一凹槽部(3)，其特征在于：所述清洗槽(1)的中部且靠近后侧设有一浸泡区(4)，至少一个凸起部(2)位于浸泡区(4)内，位于浸泡区(4)内的凸起部(2)上设有第二凹槽部(5)，所述进液结构与第二凹槽部(5)相连通，用于使清洗液蓄积在第二凹槽部(5)内并在主机的左右两个清洁件旋转经过浸泡区(4)时将其打湿。

2.根据权利要求1所述的一种清洗托盘，其特征在于：所述凸起部(2)设置三个，其中一个位于浸泡区(4)内，另外两个位于浸泡区(4)外且左右对称设置在清洗槽(1)的前侧。

3.根据权利要求2所述的一种清洗托盘，其特征在于：所述第二凹槽部(5)设置在凸起部(2)的中间位置，所述进液结构包括设置在第二凹槽部(5)内且位于后侧的喷液口(6)，所述第二凹槽部(5)内且位于喷液口(6)的前方设置分流结构。

4.根据权利要求3所述的一种清洗托盘，其特征在于：所述分流结构包括设置在喷液口(6)正前方的导向块(7)，所述导向块(7)靠近喷液口(6)的一端设置为尖角状。

5.根据权利要求4所述的一种清洗托盘，其特征在于：所述导向块(7)的另一端通过一分隔条(8)与第二凹槽部(5)前侧的中间位置相连。

6.根据权利要求3所述的一种清洗托盘，其特征在于：所述第二凹槽部(5)设置为由后至前逐渐张开的扇形。

7.一种自清洁装置，包括底座(10)，其特征在于：所述底座(10)上设有权利要求1至权利要求6中所述的任一一种清洗托盘(9)，所述清洗托盘(9)的清洗槽(1)内还设有排液结构，所述清洗托盘(9)与底座(10)之间形成有污水收集腔(11)，所述排液结构与污水收集腔(11)相连通。

8.根据权利要求7所述的一种自清洁装置，其特征在于：所述排液结构包括均匀布设在清洗槽(1)内且避开第二凹槽部(5)的若干漏液孔(13)，所述漏液孔(13)与污水收集腔(11)相连通，所述污水收集腔(11)上还设有抽污液口(12)，所述漏液孔(13)的口径小于抽污液口(12)的口径。

9.一种基站，包括基站本体(15)，其特征在于：所述基站本体(15)的底部设有权利要求7中所述的自清洁装置(14)。

10.根据权利要求9所述的一种基站，其特征在于：所述自清洁装置(14)的清洗托盘(9)的后侧设有磁铁(16)，所述基站本体(15)上与磁铁(16)相应的位置处设有霍尔传感器。