CN219803630U - 煎烤盘和烹饪器具 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种煎烤盘和一种烹饪器具，其中，煎烤盘包括：主体，包括容纳槽，容纳槽用于容纳食材；至少一个导流件，导流件设于容纳槽的槽壁，导流件用于将容纳槽内的液体导出；容纳槽的底壁具有多个凸筋，凸筋凸出于容纳槽的底壁，任意相邻的两个凸筋限定出储液槽，储液槽沿朝向导流件的方向延伸。通过在煎烤盘中设置多个导流件，从而能够在用户需要将容纳槽内的汁液倒出时，通过导流件对汁液进行导流，一方面能够避免汁液流向各个位置，以使煎烤盘保持整洁，另一方面可使汁液集中于导流件，使汁液能够更加快速地被倒出。

Description

煎烤盘和烹饪器具

技术领域

本实用新型属于家用电器设备技术领域，具体而言，涉及一种煎烤盘和一种烹饪器具。

背景技术

现有技术中的烤箱，烤箱中设有烤盘，烤盘能够用于煎烤食材，食材在被煎烤的过程中生成汁液，用户在将烤盘中的汁液倒出时，汁液难以汇聚，进而导致烤盘被四处流动的汁液污染。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。

为此，本实用新型的第一个目的在于提出了一种煎烤盘。

本实用新型的第二个目的在于提出了一种烹饪器具。

为实现上述至少一个目的，根据本实用新型的第一方面，提出了一种煎烤盘，包括：主体，包括容纳槽，容纳槽用于容纳食材；至少一个导流件，导流件设于容纳槽的槽壁，导流件用于将容纳槽内的液体导出；容纳槽的底壁具有多个凸筋，凸筋凸出于容纳槽的底壁，任意相邻的两个凸筋限定出储液槽，储液槽沿朝向导流件的方向延伸。

本申请所提出的煎烤盘，能够用于一种烹饪器具中，煎烤盘用于放置食材，烹饪器具能够对放置于煎烤盘上的食材进行烹饪，具体地，用户可通过煎烤盘对牛排等食材进行煎烤，在将食材放置于煎烤盘上之前，可先对煎烤盘进行预热，在煎烤盘被加热至温度较高的情况下，用户可将食材放置于煎烤盘上，煎烤盘自身的高温能够使食材表面焦化，从而使食材具有外焦里嫩的口感。并且，由于煎烤盘自身已经储热，通过煎烤盘自身的储热与烹饪器具同时对食材进行煎烤，可提升烹饪效率。

进一步地，对煎烤盘的结构进行限定。煎烤盘包括主体，主体包括容纳槽，容纳槽用于容纳食材，可理解地，食材在被煎烤的过程中会形成汁液，通过将食材放置于容纳槽内，可防止汁液外溢。煎烤盘还包括多个导流件，导流件用于将容纳槽内的液体导出。具体地，导流件设置于容纳槽的槽壁，容纳槽内的食材在被煎烤的过程中所形成的汁液被积存在容纳槽内，在烹饪器具完成对食材的烹饪后，用户将食材从煎烤盘上移出，然后可通过导流件将容纳槽内的汁液从容纳槽内导出。如此，可使汁液集中于导流件，避免汁液流向各个位置，使煎烤盘保持整洁，提升了用户的使用便利性。

进一步地，煎烤盘还设有多个凸筋，凸筋设于主体并凸出于容纳槽的底壁，当食材放置于煎烤盘上时，食材与凸筋的上表面接触，如此，可通过凸筋将主体的热量传递至食材，以对食材进行煎烤，凸筋能够使食材的表面形成煎烤的纹路。并且，通过凸筋对食材进行支撑，可以使食材与容纳槽的底壁之间具有一定的间距，使食材在被煎烤过程中所生成的汁液能够滴落至容纳槽的底壁，便于对汁液进行收集，防止汁液外溢。

进一步地，为了使容纳槽内的汁液能够更加顺畅地流向导流件，本申请使任意相邻的两个凸筋之间具有一定的间距，以使任意相邻的两个凸筋能够限定出储液槽，储液槽沿朝向导流件的方向延伸，以使储液槽能够收集食材所滴落的汁液以及对汁液进行导流。具体地，当食材被放置于煎烤盘上被煎烤时，食材所滴落的汁液汇聚于储液槽内，在食材从煎烤盘上移除，用户需要将容纳槽内的汁液倒出时，储液槽内的汁液沿储液槽流动，由于储液槽沿朝向导流件的方向延伸，因此汁液沿储液槽流向导流件，然后汁液顺着导流件被倒出至容纳槽外。

通过在煎烤盘中设置多个导流件，从而能够在用户需要将容纳槽内的汁液倒出时，通过导流件对汁液进行导流，一方面能够避免汁液流向各个位置，以使煎烤盘保持整洁，另一方面可使汁液集中于导流件，使汁液能够更加快速地被倒出。通过在容纳槽的底壁设置多个凸筋，并通过凸筋限定出朝向导流件延伸的储液槽，从而能够通过储液槽对食材所滴落的汁液进行收集，并限定汁液的流动方向，使汁液能够更加顺畅地流向导流件，减少汁液与煎烤盘上其他壁面之间的接触，使煎烤盘保持整洁，并进一步提升了导流件的排液效率。

根据本实用新型上述的煎烤盘，还可以具有以下区别技术特征：

在上述技术方案中，进一步地，导流件与容纳槽连通，导流件沿背离容纳槽的方向伸出于容纳槽的侧壁。

在该技术方案中，对导流件的结构进行限定。具体地，导流件与容纳槽连通，在用户将汁液从容纳槽内倒出时，容纳槽内的汁液可流向导流件，并通过导流件排出。导流件沿背离容纳槽的方向伸出容纳槽的侧壁，如此，使得汁液能够沿着导流件的壁面流出至容纳槽外，并且由于导流件伸出容纳槽的侧壁，从而使得汁液在流出导流件时，容纳槽的侧壁与汁液形成的液流之间具有一定的间距，以防止汁液飞溅至容纳槽的侧壁上，使煎烤盘能够保持整洁。

在上述技术方案中，进一步地，在导流件为多个的情况下，多个导流件相对于容纳槽的中心线对称设置。

在该技术方案中，对导流件所设置的位置进行限定。在导流件为多个的情况下，多个导流件相对于容纳槽的中心线对称设置。可理解地，由于多个导流件相对于容纳槽的中心线对称设置，即靠近于煎烤盘的两侧分别设置有导流件，在用户将容纳槽中的汁液倒出时，用户可根据实际使用环境通过任一导流件将汁液从容纳槽内倒出，提升了用户的使用便利性。并且，容纳槽内的汁液可能分别积存在容纳槽内的不同区域，通过将多个导流件相对于容纳槽的中心线对称设置，从而使得用户能够通过与积存的汁液较为靠近的导流件将汁液导出，进一步提升了用户的使用便利性。

在上述技术方案中，进一步地，容纳槽被构造为矩形，多个导流件沿容纳槽的对角线分别设于容纳槽的折角处。

在该技术方案中，对导流件的设置位置进行进一步限定。容纳槽被构造为矩形，可理解地，对于被构造为矩形的容纳槽，用户在将容纳槽内的汁液倒出时，可将汁液集中于容纳槽的折角处，如此可使汁液更为集中，可更加快速地将汁液倒出。因此，本申请将多个导流件沿容纳槽的对角线分别设置于容纳槽的折角处，相较于将导流件设置于容纳槽的边上而言，此种将导流件设置于容纳槽的折角处的结构能够将汁液更为集中地通过导流件倒出，容纳槽的折角处相邻的两个边对汁液进行止挡，以使汁液集中于折角处的导流件，提升排液效率。

在一种可能的技术方案中，导流件的数量为两个，两个导流件分别沿容纳槽的对角线设于容纳槽的折角处。

在上述技术方案中，进一步地，煎烤盘还包括：溢流槽，溢流槽设于容纳槽的底壁，任一导流件与溢流槽连通。

在该技术方案中，对煎烤盘的结构进行进一步限定。煎烤盘还设有溢流槽，溢流槽用于容纳食物在煎烤过程中所产生的汁液。具体地，溢流槽设于容纳槽的底壁，并且溢流槽凹陷于容纳槽底壁的表面。食物在被煎烤的过程中，食物所产生的汁液滴落至溢流槽内，由于溢流槽凹陷于容纳槽底壁的表面，因此汁液会自动汇聚于溢流槽内，如此，可通过溢流槽对汁液进行收集，一方面可避免汁液溢出至容纳槽外，另一方面可避免汁液集中于食材的底部，影响食材的煎烤效果，提升食材的口感。

进一步地，任一导流件与溢流槽连通，用户在将汁液从容纳槽内倒出时，溢流槽内的汁液流向导流件，进而通过导流件将溢流槽内的汁液倒出。

通过在容纳槽的底壁设置溢流槽，一方面可避免汁液溢出至容纳槽外，另一方面可避免汁液集中于食材的底部，影响食材的煎烤效果，提升食材的口感。并且，通过将溢流槽与导流件连通，可使溢流槽内的汁液流向导流件，进而通过导流件将溢流槽内的汁液倒出。

在上述技术方案中，进一步地，溢流槽沿煎烤盘的周向设于容纳槽的底壁。

在该技术方案中，对溢流槽进行进一步限定。溢流槽沿煎烤盘的周向设于容纳槽的底壁，多个储液槽位于溢流槽所合围成的区域内，食物在被煎烤的过程中，汁液滴落至容纳槽的底壁，容纳槽的底壁设有多个储液槽，汁液汇聚于多个储液槽内。随着汁液的增多，储液槽内的汁液沿储液槽流入溢流槽内，溢流槽对汁液进行收集。如此，可减少汁液在储液槽内的积存，避免过多的汁液对食材的煎烤效果产生影响，提升食材的口感。并且，通过将溢流槽沿煎烤盘的周向设置，可以使溢流槽更加接近于导流件，在用于将容纳槽内的汁液倒出时，溢流槽内的汁液可快速地流向导流件，减少汁液与其他壁面之间的接触，提升排液效率。

在上述技术方案中，进一步地，主体包括：盘体；限位边，限位边连接于盘体并凸出于盘体的表面，盘体与限位边合围成容纳槽，导流件设于限位边。

在该技术方案中，对主体的结构进行限定。主体包括盘体和限位边，其中，盘体用于放置食材，储液槽和溢流槽均设置于盘体。限位边与盘体相连并凸出于盘体的表面，溢流槽与限位边相邻设置，溢流槽位于限位边所合围成的区域内，储液槽位于溢流槽所合围成的区域内，盘体与限位边合围成容纳槽，导流件设于限位边。

通过在主体中设置盘体和限位边，并使限位边凸出于盘体的表面，从而能够通过限位边与盘体合围成容纳槽，以对食材在煎烤过程中所生成的汁液进行收集，防止汁液溢出至煎烤盘外，使煎烤盘保持整洁。

在上述技术方案中，进一步地，盘体的厚度范围为1.5mm至5.5mm。

在该技术方案中，对盘体进行限定，盘体的厚度范围为1.5mm至5.5mm。用户在通过煎烤盘对食材进行煎烤之前，先对煎烤盘进行预热，煎烤盘被加热至高温状态后，再将食材放置于煎烤盘上，煎烤盘通过自身的热量对食材进行加热，使食材的表面焦化，以使食材具有外焦里嫩的口感，然后用户可再通过烹饪器具对食材进行进一步煎烤。并且，由于煎烤盘自身已经储热，通过煎烤盘自身的储热与烹饪器具同时对食材进行煎烤，可提升烹饪效率。

可理解地，盘体的厚度越大，煎烤盘所能存储的热能越多，通过将盘体的厚度限定在1.5mm至5.5mm的范围内，可使煎烤盘在保证自身轻便易用的性能的同时，还能够存储足够的热能，以提升对食材的烹饪效率。盘体可采用铝或合金铝或铸铁等材料制成。

在上述技术方案中，进一步地，溢流槽设于盘体，溢流槽凹陷于盘体的表面，溢流槽与限位边相邻设置。

在该技术方案中，对盘体的结构进行进一步限定，溢流槽设置于盘体，溢流槽凹陷于盘体的表面并与限位边相邻设置。食材在被煎烤过程中所生成的汁液在滴落至盘体的表面上之后，汇聚于储液槽内，并沿储液槽流入溢流槽内，由于溢流槽凹陷于盘体的表面，从而使得溢流槽能够收集大量的汁液，以避免汁液从煎烤盘溢出。进一步地，由于溢流槽与限位边相邻设置，导流件设置于限位边，因此，在用户将汁液从煎烤盘中倒出的过程中，溢流槽内的汁液可直接流向导流件，并通过导流件将汁液倒出，减少汁液与煎烤盘中其他壁面的接触，使煎烤盘保持整洁。

在上述技术方案中，进一步地，多个凸筋朝同一方向延伸，储液槽能够与溢流槽连通。

在该技术方案中，对凸筋进行进一步限定。多个凸筋朝同一方向延伸，具体地，多个凸筋沿朝向导流件的方向延伸，任意相邻的两个凸筋限定出储液槽，如此，可以使由凸筋所限定出的储液槽能够沿朝向导流件件的方向延伸，以使储液槽能够将其内部的汁液导向导流件。储液槽能够与溢流槽连通，储液槽先将汁液导向溢流槽内，通过溢流槽对汁液进行收集，然后在用户将煎烤盘内的汁液倒出时，汁液再流向导流件，如此可以防止汁液外溢，使煎烤盘保持整洁。

在上述技术方案中，进一步地，煎烤盘用于烹饪器具中，烹饪器具包括烹饪腔，煎烤盘还包括：安装盘，与主体相连，安装盘用于将主体安装于烹饪腔内。

在该技术方案中，对煎烤盘的结构进行进一步限定。煎烤盘所用于的烹饪器具包括烹饪腔，为了使煎烤盘能够安装于烹饪腔内，本申请在煎烤盘中还设置了安装盘，安装盘与主体相连，并沿背离容纳槽的方向向外延伸，以使安装盘凸出于主体，通过安装盘可将主体安装于烹饪腔内。具体地，烹饪腔的壁面可设有与安装盘配合的安装架，在煎烤盘位于烹饪腔内时，安装盘可放置于安装架上，以对主体进行安装固定。

在上述技术方案中，进一步地，煎烤盘还包括：多个支撑件，设于主体背离容纳槽的一侧，多个支撑件凸出于主体的表面。

在该技术方案中，对煎烤盘的结构进行进一步限定。煎烤盘还包括多个支撑件，支撑件用于对主体进行支撑，支撑件设于主体背离容纳槽的一侧。可理解地，在用户采用煎烤盘对食材进行烹饪时，主体中设置容纳槽的一侧朝向上方，在烹饪器具完成对食材的烹饪后，用户可将煎烤盘从烹饪器具的烹饪腔中取出直接放置于桌面上，若主体背离容纳槽的一侧不设置用于对主体进行支撑的结构，那么主体则会与桌面贴合，这样会导致煎烤盘的高温对桌面造成损伤，并且使用户难以取放煎烤盘。为了避免上述问题，本申请在主体背离容纳槽的一侧设置了凸出于主体的支撑件，在用户将煎烤盘放置于桌面时，可通过支撑件对主体进行支撑。如此，可避免主体与桌面贴合，使主体与桌面之间能够具有一定的间距。一方面能够防止煎烤盘的高温对桌面产生损伤，另一方面可便于用户对煎烤盘进行取放，提升了用户的使用便利性。

本实用新型的第二方面还提出了一种烹饪器具，包括本实用新型第一方面所提出的煎烤盘。

本实用新型第二方面提供的烹饪器具，因包括本实用新型第一方面提出的煎烤盘，因此具有煎烤盘的全部有益效果。

在上述技术方案中，进一步地，烹饪器具还包括：箱体，包括烹饪腔，煎烤盘可拆卸地安装于烹饪腔内。

在该技术方案中，对烹饪器具的结构进行限定。烹饪器具包括箱体，箱体具有烹饪腔，煎烤盘可拆卸地安装于烹饪腔内，烹饪腔的壁面设有安装架，煎烤盘具有能够与安装架适配的安装盘。在煎烤盘位于烹饪腔内时，安装盘放置于安装架上，以对煎烤盘进行安装固定。进一步地，安装架的数量可以为多个，多个安装架分别设置于烹饪腔的壁面的不同位置，以使用户能够根据被煎烤的食材的不同体积将煎烤盘放置于烹饪腔内的不同位置。

烹饪器具包括烤箱或微蒸烤一体机。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1示出了本实用新型的一个实施例的煎烤盘的结构示意图之一；

图2示出了本实用新型的一个实施例的煎烤盘的结构示意图之二；

图3示出了本实用新型的一个实施例的煎烤盘的结构示意图之三；

图4示出了图3中C-C截面的剖视图；

图5示出了图3中D-D截面的剖视图；

图6是出了本实用新型的一个实施例的烹饪器具的结构示意图。

其中，图1至图6中附图标记与部件名称之间的对应关系为：

100煎烤盘，110主体，111容纳槽，112储液槽，113溢流槽，114盘体，115限位边，116凸筋，120导流件，130安装盘，140支撑件，200烹饪器具，210箱体，211烹饪腔，212安装架。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本实用新型的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型，但是，本实用新型还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本实用新型的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。

下面参照图1至图6描述根据本实用新型的一些实施例提供的煎烤盘100和烹饪器具200。

在根据本申请的一个实施例中，如图1、图3、图4和图5所示，本实用新型的第一方面，提出了一种煎烤盘100，包括：主体110，包括容纳槽111，容纳槽111用于容纳食材；至少一个导流件120，导流件120设于容纳槽111的槽壁，导流件120用于将容纳槽111内的液体导出；容纳槽111的底壁具有多个凸筋116，凸筋116凸出于容纳槽111的底壁，任意相邻的两个凸筋116限定出储液槽112，储液槽112沿朝向导流件120的方向延伸。

本申请所提出的煎烤盘100，能够用于一种烹饪器具200中，煎烤盘100用于放置食材，烹饪器具200能够对放置于煎烤盘100上的食材进行烹饪，具体地，用户可通过煎烤盘100对牛排等食材进行煎烤，在将食材放置于煎烤盘100上之前，可先对煎烤盘100进行预热，在煎烤盘100被加热至温度较高的情况下，用户可将食材放置于煎烤盘100上，煎烤盘100自身的高温能够使食材表面焦化，从而使食材具有外焦里嫩的口感。并且，由于煎烤盘100自身已经储热，通过煎烤盘100自身的储热与烹饪器具200同时对食材进行煎烤，可提升烹饪效率。

进一步地，对煎烤盘100的结构进行限定。煎烤盘100包括主体110，主体110包括容纳槽111，容纳槽111用于容纳食材，可理解地，食材在被煎烤的过程中会形成汁液，通过将食材放置于容纳槽111内，可防止汁液外溢。煎烤盘100还包括多个导流件120，导流件120用于将容纳槽111内的液体导出。具体地，导流件120设置于容纳槽111的槽壁，容纳槽111内的食材在被煎烤的过程中所形成的汁液被积存在容纳槽111内，在烹饪器具200完成对食材的烹饪后，用户将食材从煎烤盘100上移出，然后可通过导流件120将容纳槽111内的汁液从容纳槽111内导出。如此，可使汁液集中于导流件120，避免汁液流向各个位置，使煎烤盘100保持整洁，提升了用户的使用便利性。

进一步地，煎烤盘100还设有多个凸筋116，凸筋116设于主体110并凸出于容纳槽111的底壁，当食材放置于煎烤盘100上时，食材与凸筋116的上表面接触，如此，可通过凸筋116将主体110的热量传递至食材，以对食材进行煎烤，凸筋116能够使食材的表面形成煎烤的纹路。并且，通过凸筋116对食材进行支撑，可以使食材与容纳槽111的底壁之间具有一定的间距，使食材在被煎烤过程中所生成的汁液能够滴落至容纳槽111的底壁，便于对汁液进行收集，防止汁液外溢。

进一步地，为了使容纳槽111内的汁液能够更加顺畅地流向导流件120，本申请使任意相邻的两个凸筋116之间具有一定的间距，以使任意相邻的两个凸筋116能够限定出储液槽112，储液槽112沿朝向导流件120的方向延伸，以使储液槽112能够收集食材所滴落的汁液以及对汁液进行导流。具体地，当食材被放置于煎烤盘100上被煎烤时，食材所滴落的汁液汇聚于储液槽112内，在食材从煎烤盘100上移除，用户需要将容纳槽111内的汁液倒出时，储液槽112内的汁液沿储液槽112流动，由于储液槽112沿朝向导流件120的方向延伸，因此汁液沿储液槽112流向导流件120，然后汁液顺着导流件120被倒出至容纳槽111外。

通过在煎烤盘100中设置多个导流件120，从而能够在用户需要将容纳槽111内的汁液倒出时，通过导流件120对汁液进行导流，一方面能够避免汁液流向各个位置，以使煎烤盘100保持整洁，另一方面可使汁液集中于导流件120，使汁液能够更加快速地被倒出。通过在容纳槽111的底壁设置多个凸筋116，并通过凸筋116限定出朝向导流件120延伸的储液槽112，从而能够通过储液槽112对食材所滴落的汁液进行收集，并限定汁液的流动方向，使汁液能够更加顺畅地流向导流件120，减少汁液与煎烤盘100上其他壁面之间的接触，使煎烤盘100保持整洁，并进一步提升了导流件120的排液效率。

在根据本申请的一个实施例中，如图1和图3所示，导流件120与容纳槽111连通，导流件120沿背离容纳槽111的方向伸出于容纳槽111的侧壁。

在该实施例中，对导流件120的结构进行限定。具体地，导流件120与容纳槽111连通，在用户将汁液从容纳槽111内倒出时，容纳槽111内的汁液可流向导流件120，并通过导流件120排出。导流件120沿背离容纳槽111的方向伸出容纳槽111的侧壁，如此，使得汁液能够沿着导流件120的壁面流出至容纳槽111外，并且由于导流件120伸出容纳槽111的侧壁，从而使得汁液在流出导流件120时，容纳槽111的侧壁与汁液形成的液流之间具有一定的间距，以防止汁液飞溅至容纳槽111的侧壁上，使煎烤盘100能够保持整洁。

在根据本申请的一个实施例中，在导流件120为多个的情况下，多个导流件120相对于容纳槽111的中心线对称设置。

在该实施例中，对导流件120所设置的位置进行限定。在导流件120为多个的情况下，多个导流件120相对于容纳槽111的中心线对称设置。可理解地，由于多个导流件120相对于容纳槽111的中心线对称设置，即靠近于煎烤盘100的两侧分别设置有导流件120，在用户将容纳槽111中的汁液倒出时，用户可根据实际使用环境通过任一导流件120将汁液从容纳槽111内倒出，提升了用户的使用便利性。并且，容纳槽111内的汁液可能分别积存在容纳槽111内的不同区域，通过将多个导流件120相对于容纳槽111的中心线对称设置，从而使得用户能够通过与积存的汁液较为靠近的导流件120将汁液导出，进一步提升了用户的使用便利性。

在根据本申请的一个实施例中，如图1和图3所示，容纳槽111被构造为矩形，多个导流件120沿容纳槽111的对角线分别设于容纳槽111的折角处。

在该实施例中，对导流件120的设置位置进行进一步限定。容纳槽111被构造为矩形，可理解地，对于被构造为矩形的容纳槽111，用户在将容纳槽111内的汁液倒出时，可将汁液集中于容纳槽111的折角处，如此可使汁液更为集中，可更加快速地将汁液倒出。因此，本申请将多个导流件120沿容纳槽111的对角线分别设置于容纳槽111的折角处，相较于将导流件120设置于容纳槽111的边上而言，此种将导流件120设置于容纳槽111的折角处的结构能够将汁液更为集中地通过导流件120倒出，容纳槽111的折角处相邻的两个边对汁液进行止挡，以使汁液集中于折角处的导流件120，提升排液效率。

在一种可能的实施例中，导流件120的数量为两个，两个导流件120分别沿容纳槽111的对角线设于容纳槽111的折角处。

在根据本申请的一个实施例中，如图1、图3和图4所示，煎烤盘100还包括：溢流槽113，溢流槽113设于容纳槽111的底壁，任一导流件120与溢流槽113连通。

在该实施例中，对煎烤盘100的结构进行进一步限定。煎烤盘100还设有溢流槽113，溢流槽113用于容纳食物在煎烤过程中所产生的汁液。具体地，溢流槽113设于容纳槽111的底壁，并且溢流槽113凹陷于容纳槽111底壁的表面。食物在被煎烤的过程中，食物所产生的汁液滴落至溢流槽113内，由于溢流槽113凹陷于容纳槽111底壁的表面，因此汁液会自动汇聚于溢流槽113内，如此，可通过溢流槽113对汁液进行收集，一方面可避免汁液溢出至容纳槽111外，另一方面可避免汁液集中于食材的底部，影响食材的煎烤效果，提升食材的口感。

进一步地，任一导流件120与溢流槽113连通，用户在将汁液从容纳槽111内倒出时，溢流槽113内的汁液流向导流件120，进而通过导流件120将溢流槽113内的汁液倒出。

通过在容纳槽111的底壁设置溢流槽113，一方面可避免汁液溢出至容纳槽111外，另一方面可避免汁液集中于食材的底部，影响食材的煎烤效果，提升食材的口感。并且，通过将溢流槽113与导流件120连通，可使溢流槽113内的汁液流向导流件120，进而通过导流件120将溢流槽113内的汁液倒出。

在根据本申请的一个实施例中，如图1、图3和图4所示，溢流槽113沿煎烤盘100的周向设于容纳槽111的底壁。

在该实施例中，对溢流槽113进行进一步限定。溢流槽113沿煎烤盘100的周向设于容纳槽111的底壁，多个储液槽112位于溢流槽113所合围成的区域内，食物在被煎烤的过程中，汁液滴落至容纳槽111的底壁，容纳槽111的底壁设有多个储液槽112，汁液汇聚于多个储液槽112内。随着汁液的增多，储液槽112内的汁液沿储液槽112流入溢流槽113内，溢流槽113对汁液进行收集。如此，可减少汁液在储液槽112内的积存，避免过多的汁液对食材的煎烤效果产生影响，提升食材的口感。并且，通过将溢流槽113沿煎烤盘100的周向设置，可以使溢流槽113更加接近于导流件120，在用于将容纳槽111内的汁液倒出时，溢流槽113内的汁液可快速地流向导流件120，减少汁液与其他壁面之间的接触，提升排液效率。

在根据本申请的一个实施例中，如图1、图2和图3所示，主体110包括：盘体114；限位边115，限位边115连接于盘体114并凸出于盘体114的表面，盘体114与限位边115合围成容纳槽111，导流件120设于限位边115。

在该实施例中，对主体110的结构进行限定。主体110包括盘体114和限位边115，其中，盘体114用于放置食材，储液槽112和溢流槽113均设置于盘体114。限位边115与盘体114相连并凸出于盘体114的表面，溢流槽113与限位边115相邻设置，溢流槽113位于限位边115所合围成的区域内，储液槽112位于溢流槽113所合围成的区域内，盘体114与限位边115合围成容纳槽111，导流件120设于限位边115。

通过在主体110中设置盘体114和限位边115，并使限位边115凸出于盘体114的表面，从而能够通过限位边115与盘体114合围成容纳槽111，以对食材在煎烤过程中所生成的汁液进行收集，防止汁液溢出至煎烤盘100外，使煎烤盘100保持整洁。

在根据本申请的一个实施例中，如图5所示，盘体114的厚度范围为1.5mm至5.5mm。

在该实施例中，对盘体进行限定，如图5所示，盘体114的厚度为B，盘体114的厚度范围为1.5mm至5.5mm。用户在通过煎烤盘100对食材进行煎烤之前，先对煎烤盘100进行预热，煎烤盘100被加热至高温状态后，再将食材放置于煎烤盘100上，煎烤盘100通过自身的热量对食材进行加热，使食材的表面焦化，以使食材具有外焦里嫩的口感，然后用户可再通过烹饪器具200对食材进行进一步煎烤。并且，由于煎烤盘100自身已经储热，通过煎烤盘100自身的储热与烹饪器具200同时对食材进行煎烤，可提升烹饪效率。

可理解地，盘体114的厚度越大，煎烤盘100所能存储的热能越多，通过将盘体114的厚度限定在1.5mm至5.5mm的范围内，可使煎烤盘100在保证自身轻便易用的性能的同时，还能够存储足够的热能，以提升对食材的烹饪效率。盘体114可采用铝或合金铝或铸铁等材料制成。

在根据本申请的一个实施例中，如图4所示，溢流槽113设于盘体114，溢流槽113凹陷于盘体114的表面，溢流槽113与限位边115相邻设置。

在该实施例中，对盘体114的结构进行进一步限定，溢流槽113设置于盘体114，溢流槽113凹陷于盘体114的表面并与限位边115相邻设置，溢流槽113如图4中的A所示。食材在被煎烤过程中所生成的汁液在滴落至盘体114的表面上之后，汇聚于储液槽112内，并沿储液槽112流入溢流槽113内，由于溢流槽113凹陷于盘体114的表面，从而使得溢流槽113能够收集大量的汁液，以避免汁液从煎烤盘100溢出。进一步地，由于溢流槽113与限位边115相邻设置，导流件120设置于限位边115，因此，在用户将汁液从煎烤盘100中倒出的过程中，溢流槽113内的汁液可直接流向导流件120，并通过导流件120将汁液倒出，减少汁液与煎烤盘100中其他壁面的接触，使煎烤盘100保持整洁。

在根据本申请的一个实施例中，如图1和图3所示，多个凸筋116朝同一方向延伸，储液槽112能够与溢流槽113连通。

在该实施例中，对凸筋116进行进一步限定。多个凸筋116朝同一方向延伸，具体地，多个凸筋116沿朝向导流件120的方向延伸，任意相邻的两个凸筋116限定出储液槽112，如此，可以使由凸筋116所限定出的储液槽112能够沿朝向导流件120件的方向延伸，以使储液槽112能够将其内部的汁液导向导流件。储液槽112能够与溢流槽113连通。如此，可以通过储液槽112对汁液进行导流，并将汁液导向溢流槽113内，通过溢流槽113对汁液进行收集，然后在用户将煎烤盘100内的汁液倒出时，汁液再流向导流件120，如此可以防止汁液外溢，使煎烤盘100保持整洁。

在根据本申请的一个实施例中，如图1和图4所示，煎烤盘100用于烹饪器具200中，烹饪器具200包括烹饪腔211，煎烤盘100还包括：安装盘130，与主体110相连，安装盘130用于将主体110安装于烹饪腔211内。

在该实施例中，对煎烤盘100的结构进行进一步限定。煎烤盘100所用于的烹饪器具200包括烹饪腔211，为了使煎烤盘100能够安装于烹饪腔211内，本申请在煎烤盘100中还设置了安装盘130，安装盘130与主体110相连，并沿背离容纳槽111的方向向外延伸，以使安装盘130凸出于主体110，通过安装盘130可将主体110安装于烹饪腔211内。具体地，烹饪腔211的壁面可设有与安装盘130配合的安装架212，在煎烤盘100位于烹饪腔211内时，安装盘130可放置于安装架212上，以对主体110进行安装固定。

在根据本申请的一个实施例中，如图4所示，煎烤盘100还包括：多个支撑件140，设于主体110背离容纳槽111的一侧，多个支撑件140凸出于主体110的表面。

在该实施例中，对煎烤盘100的结构进行进一步限定。煎烤盘100还包括多个支撑件140，支撑件140用于对主体110进行支撑，支撑件140设于主体110背离容纳槽111的一侧。可理解地，在用户采用煎烤盘100对食材进行烹饪时，主体110中设置容纳槽111的一侧朝向上方，在烹饪器具200完成对食材的烹饪后，用户可将煎烤盘100从烹饪器具200的烹饪腔211中取出直接放置于桌面上，若主体110背离容纳槽111的一侧不设置用于对主体110进行支撑的结构，那么主体110则会与桌面贴合，这样会导致煎烤盘100的高温对桌面造成损伤，并且使用户难以取放煎烤盘100。为了避免上述问题，本申请在主体110背离容纳槽111的一侧设置了凸出于主体110的支撑件140，在用户将煎烤盘100放置于桌面时，可通过支撑件140对主体110进行支撑。如此，可避免主体110与桌面贴合，使主体110与桌面之间能够具有一定的间距。一方面能够防止煎烤盘100的高温对桌面产生损伤，另一方面可便于用户对煎烤盘100进行取放，提升了用户的使用便利性。

在根据本申请的一个实施例中，附件盘(即煎烤盘100)采用铝或合金铝或铸铁等材料制成，附件盘的盘体114的厚度在1.5mm～5.5mm之间(如图5中的尺寸B)，把附件盘放入烤箱预热后附件盘可储热，附件盘预热完成后再向其中放入食材，可使食材快速接触高温实现快速烹饪完成。

附件盘在两个对角设置有倒流咀(即导流件120)，烹饪完成后方便用户倒汁水及清洁。

附件盘在内部周圈设置有一圈溢流槽113，溢流槽113低于盘体114的表面(如图4中的A)，可使食材在加热过程流出的汁水存储在此溢流槽113中，使汁水不影响烹饪效果。

附件盘内部的牛扒筋(即凸筋116)方向与倒流咀在同一轴向方向，可使汁水更方便倒出。

本实用新型的第二方面还提出了一种烹饪器具200，包括本实用新型第一方面所提出的煎烤盘100。

本实用新型第二方面提供的烹饪器具200，因包括本实用新型第一方面提出的煎烤盘100，因此具有煎烤盘100的全部有益效果。

在根据本申请的一个实施例中，如图6所示，烹饪器具200还包括：箱体210，包括烹饪腔211，煎烤盘100可拆卸地安装于烹饪腔211内。

在该实施例中，对烹饪器具200的结构进行限定。烹饪器具200包括箱体210，箱体210具有烹饪腔211，煎烤盘100可拆卸地安装于烹饪腔211内，烹饪腔211的壁面设有安装架212，煎烤盘100具有能够与安装架212适配的安装盘130。在煎烤盘100位于烹饪腔211内时，安装盘130放置于安装架212上，以对煎烤盘100进行安装固定。进一步地，安装架212的数量可以为多个，多个安装架212分别设置于烹饪腔211的壁面的不同位置，以使用户能够根据被煎烤的食材的不同体积将煎烤盘100放置于烹饪腔211内的不同位置。

烹饪器具200包括烤箱或微蒸烤一体机。

在本实用新型中，术语“多个”则指两个或两个以上，除非另有明确的限定。术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；“相连”可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本说明书的描述中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (15)

1.一种煎烤盘，其特征在于，包括：

主体，包括容纳槽，所述容纳槽用于容纳食材；

至少一个导流件，所述导流件设于所述容纳槽的槽壁，所述导流件用于将所述容纳槽内的液体导出；

所述容纳槽的底壁具有多个凸筋，所述凸筋凸出于所述容纳槽的底壁，任意相邻的两个凸筋限定出储液槽，所述储液槽沿朝向所述导流件的方向延伸。

2.根据权利要求1所述的煎烤盘，其特征在于，

所述导流件与所述容纳槽连通，所述导流件沿背离所述容纳槽的方向伸出于所述容纳槽的侧壁。

3.根据权利要求1所述的煎烤盘，其特征在于，

在所述导流件为多个的情况下，多个所述导流件相对于所述容纳槽的中心线对称设置。

4.根据权利要求1所述的煎烤盘，其特征在于，

所述容纳槽被构造为矩形，在所述导流件为多个的情况下，多个所述导流件沿所述容纳槽的对角线分别设于所述容纳槽的折角处。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的煎烤盘，其特征在于，还包括：

溢流槽，所述溢流槽设于所述容纳槽的底壁，任一所述导流件与所述溢流槽连通。

6.根据权利要求5所述的煎烤盘，其特征在于，

所述溢流槽沿所述煎烤盘的周向设于所述容纳槽的底壁。

7.根据权利要求5所述的煎烤盘，其特征在于，所述主体包括：

盘体；

限位边，所述限位边连接于所述盘体并凸出于所述盘体的表面，所述盘体与所述限位边合围成所述容纳槽，所述导流件设于所述限位边。

8.根据权利要求7所述的煎烤盘，其特征在于，

所述盘体的厚度范围为1.5mm至5.5mm。

9.根据权利要求7所述的煎烤盘，其特征在于，

所述溢流槽设于所述盘体，所述溢流槽凹陷于所述盘体的表面，所述溢流槽与所述限位边相邻设置。

10.根据权利要求5所述的煎烤盘，其特征在于，

所述多个凸筋朝同一方向延伸，所述储液槽能够与所述溢流槽连通。

11.根据权利要求1至4中任一项所述的煎烤盘，其特征在于，所述煎烤盘用于烹饪器具中，所述烹饪器具包括烹饪腔，所述煎烤盘还包括：

安装盘，与所述主体相连，所述安装盘用于将所述主体安装于所述烹饪腔内。

12.根据权利要求1至4中任一项所述的煎烤盘，其特征在于，还包括：

多个支撑件，设于所述主体背离所述容纳槽的一侧，所述多个支撑件凸出于所述主体的表面。

13.一种烹饪器具，其特征在于，包括：

如权利要求1至12中任一项所述的煎烤盘。

14.根据权利要求13所述的烹饪器具，其特征在于，还包括：

箱体，包括烹饪腔，所述煎烤盘可拆卸地安装于所述烹饪腔内。

15.根据权利要求13所述的烹饪器具，其特征在于，

所述烹饪器具包括烤箱或微蒸烤一体机。