CN219745767U - 一种基于晶圆清洗的刷洗组件 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种基于晶圆清洗的刷洗组件，包括承载平台、清洗平台，承载平台并沿着半径方向设置若干组定位嘴，使晶圆所在的下端面对定位嘴覆盖并固定，同时承载平台自身产生以中心为轴心的旋转运动；清洗平台的升降支架所在上端部通过横向设置的转动支架连接刷头组件，使得刷头组件位于承载平台所在的上端部；刷头组件的刷头件接触在位于承载平台上的晶圆上表面，通过旋转驱动件带动刷头件接触在晶圆表面时自身同步产生旋转运动，转动支架带动刷头组件从晶圆中心逐步向外沿的偏转运动。整个装置将承载平台与清洗平台相互配合，能够实现将对于晶圆表面的清洁作业，提高了清洗的效率，并实现了全自动化作业。
Description
技术领域
本实用新型属于晶圆清洗设备技术领域，具体涉及一种基于晶圆清洗的刷洗组件。
背景技术
晶圆作为半导体行业中常用到的原料，应用广泛，通常时将硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后成型，这种切割成型的晶圆并不能直接应用，需要经过多步骤进行清洗，清楚晶圆表面的杂质，保持晶圆表面的光洁度，才能经过光刻作业，并加工成需要的制成芯片。
在中国专利申请号为CN201710493246.0中公开了一种晶圆刷洗装置，在该装置中，滚刷轴、滚刷、进水端和驱动端，通过滚刷轴一端卡接，另一端锁紧的连接方式，使滚刷轴的连接刚性得到较大提升，避免高速旋转时产生轴向窜动，达到更好的晶圆刷洗效果。
但是这种刷洗方式，容易造成滚刷在晶圆表面往复运动时，造成一定杂质二次附着在晶圆表面，影响清洁效果。
实用新型内容
针对现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种基于晶圆清洗的刷洗组件，解决了现有技术中存在的上述技术问题。
本实用新型的目的可以通过以下技术方案实现：
一种基于晶圆清洗的刷洗组件，包括承载平台、清洗平台，所述承载平台以中心所在的方向向外，并沿着半径方向设置若干组定位嘴，且所述定位嘴所在的下端部与外接的负压吸附连通，多组定位嘴所在的上表面位于同一水平面上，使晶圆所在的下端面对定位嘴覆盖并固定，同时承载平台自身产生以中心为轴心的旋转运动；
所述清洗平台包括升降支架、转动支架、刷头组件，所述升降支架所在上端部通过横向设置的转动支架连接刷头组件，使得刷头组件位于承载平台所在的上端部；
同时所述刷头组件包括刷头件、位于刷头件上部的旋转驱动件，使所述刷头件接触在位于承载平台上的晶圆上表面，通过旋转驱动件带动刷头件接触在晶圆表面时自身同步产生旋转运动，同时转动支架带动刷头组件从晶圆中心逐步向外沿的偏转运动。
进一步的，所述位于定位嘴沿承载平台所在的半径方向外周设置有定位柱，同时定位柱的高度高于定位嘴的高度，使多组定位柱对晶圆的外周形成包裹。
进一步的，所述定位嘴与定位柱均设置两组，每组定位嘴与定位柱形成一组定位组件，同时位于承载平台所在上表面外侧的定位嘴与定位柱整体高于内侧的定位组件高度；
通过两组定位组件形成不同的内径以适配不同晶圆的承载。
进一步的，位于所述承载平台所在的侧边位置药液盒，通过将刷头组件的刷头件浸润在药液盒中，以保持刷头件表面的清洁度。
进一步的，位于所述清洗平台顶部设置定位相机，用于实时监测刷头组件相对运动位置。
进一步的，所述刷头组件位于转动支架的端部采用拆卸式连接，同时刷头组件采用软性材质。
本实用新型的有益效果：
1、本装置将承载平台与清洗平台相互配合，能够实现将对于晶圆表面的清洁作业，提高了清洗的效率，并实现了全自动化作业。
2、本装置采用的承载平台带动晶圆的自身旋转，以及清洗平台的刷头件从晶圆的中部逐步向外沿移动，从而实现整个刷头件与晶圆表面接触，并将附着在晶圆表面的杂质刷洗脱离。
3、位于侧边设置的药液盒能够保持刷头件保持长久的清洁度，避免对晶圆表面的刮伤损伤情况。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
图1是本实用新型实施例的整体结构示意图；
图2是本实用新型实施例的俯视结构示意图；
图3是本实用新型实施例的截面结构的部分示意图；
图4是本实用新型实施例的承载平台结构示意图；
图5是本实用新型实施例图4中A处部分结构示意图；
图6是本实用新型实施例的清洗平台结构示意图；
图7是本实用新型实施例的刷头组件剖面结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
如图1、图2所示，本实用新型实施例提供一种基于晶圆清洗的刷洗组件，包括承载平台1、清洗平台2以及定位相机3，承载平台1以中心沿着半径方向向外设置若干组定位嘴11，且定位嘴11所在的下端部与外接的负压吸附连通，多组定位嘴11所在的上表面位于同一水平面上(使得晶圆在放置时能够实现整体覆盖，避免出现偏移现象)，随后使晶圆所在的下端面对定位嘴11覆盖(控制定位嘴对晶圆下表面进行负压吸附)并固定，同时承载平台1所在的下方设置有驱动组件，通过该驱动组件可实现承载平台1自身产生以中心为轴心做旋转运动。
如图4、图5所示，位于定位嘴11沿承载平台1所在的半径方向外周设置有定位柱12，同时定位柱12的高度高于定位嘴11的高度，使多组定位柱12对晶圆的外周形成包裹，避免晶圆在随承载平台1整体旋转时，会在离心力的作用下向外甩出，保证了晶圆在旋转刷洗过程中的稳定性。
定位嘴11与定位柱12均设置两组，每组定位嘴11与定位柱12形成一组定位组件(即此时共同组成一起对一种尺寸的晶圆进行固定)，同时位于承载平台1所在上表面外侧的定位嘴11与定位柱12整体高于内侧的定位组件高度，此时可以适用于更大尺寸晶圆的固定，并且位于内侧(定位嘴11与定位柱12)的高度偏低，不影响更大尺寸晶圆的摆放，通过两组定位组件形成不同的内径以适配不同晶圆的承载。
如图3、图6所示，清洗平台2包括升降支架21、转动支架22、刷头组件23，升降支架21所在上端部通过横向设置的转动支架22连接刷头组件23，使得刷头组件23整体位于承载平台1所在的上端部；当晶圆被转运至承载平台1上方时，清洗平台2整体偏移为其腾出空位，位于清洗平台2顶部设置定位相机3，用于实时监测刷头组件23相对运动位置，可以调整晶圆放置时的相对位置。
如图7所示，刷头组件23包括刷头件231、位于刷头件231上部的旋转驱动件232，使刷头件231接触在位于承载平台上的晶圆上表面，通过旋转驱动件232带动刷头件231接触在晶圆表面时自身同步产生旋转运动，同时转动支架22带动刷头组件23从晶圆中心逐步向外沿的偏转运动(此时的晶圆在承载平台1转动下自身发生转动)，当杂质被刷头件231带到晶圆外沿时，在离心力的作用下会被快速甩出，不易被二次沉积，或是随着刷头件231脱离晶圆表面的接触，将杂质带出，从而实现刷头件231对晶圆上表面的全部刷洗结束。
位于承载平台1所在的侧边位置药液盒101，当刷头件231不进行刷洗时，通过将刷头组件23的刷头件231浸润在药液盒101中，以保持刷头件231表面的清洁度。同时刷头组件23位于转动支架22的端部采用拆卸式连接，刷头组件23采用软性材质(可以避免对晶圆表面产生划痕)。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。
Claims (6)
1.一种基于晶圆清洗的刷洗组件，包括承载平台(1)、清洗平台(2)，其特征在于，所述承载平台(1)以中心所在的方向向外，并沿着半径方向设置若干组定位嘴(11)，且所述定位嘴(11)所在的下端部与外接的负压吸附连通，多组定位嘴(11)所在的上表面位于同一水平面上，使晶圆所在的下端面对定位嘴(11)覆盖并固定，同时承载平台(1)自身产生以中心为轴心的旋转运动；
所述清洗平台(2)包括升降支架(21)、转动支架(22)、刷头组件(23)，所述升降支架(21)所在上端部通过横向设置的转动支架(22)连接刷头组件(23)，使得刷头组件(23)位于承载平台(1)所在的上端部；
同时所述刷头组件(23)包括刷头件(231)、位于刷头件(231)上部的旋转驱动件(232)，使所述刷头件(231)接触在位于承载平台上的晶圆上表面，通过旋转驱动件(232)带动刷头件(231)接触在晶圆表面时自身同步产生旋转运动，同时转动支架(22)带动刷头组件(23)从晶圆中心逐步向外沿的偏转运动。
2.根据权利要求1所述的基于晶圆清洗的刷洗组件，其特征在于，位于所述定位嘴(11)沿承载平台(1)所在的半径方向外周设置有定位柱(12)，同时定位柱(12)的高度高于定位嘴(11)的高度，使多组定位柱(12)对晶圆的外周形成包裹。
3.根据权利要求1所述的基于晶圆清洗的刷洗组件，其特征在于，所述定位嘴(11)与定位柱(12)均设置两组，每组定位嘴(11)与定位柱(12)形成一组定位组件，同时位于承载平台(1)所在上表面外侧的定位嘴(11)与定位柱(12)整体高于内侧的定位组件高度；
通过两组定位组件形成不同的内径以适配不同晶圆的承载。
4.根据权利要求1所述的基于晶圆清洗的刷洗组件，其特征在于，位于所述承载平台(1)所在的侧边位置药液盒(101)，通过将刷头组件(23)的刷头件(231)浸润在药液盒(101)中，以保持刷头件(231)表面的清洁度。
5.根据权利要求1所述的基于晶圆清洗的刷洗组件，其特征在于，位于所述清洗平台(2)顶部设置定位相机(3)，用于实时监测刷头组件(23)相对运动位置。
6.根据权利要求1所述的基于晶圆清洗的刷洗组件，其特征在于，所述刷头组件(23)位于转动支架(22)的端部采用拆卸式连接，同时刷头组件(23)采用软性材质。
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