CN219642084U - 可自动清洗的旋涂单元 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及半导体晶片加工技术领域，具体涉及一种可自动清洗的旋涂单元。其通过弧形设置的上下胶盘，以及位于上下胶盘之间的清洗组件，实现了上下胶盘上光刻胶的自动清洗。本实用新型包括如下单元：匀胶单元包括机械手臂以及安装于机械手臂末端的匀胶胶管；下胶盘单元包括弧形设置的下胶盘、与下胶盘榫卯连接的旋转支臂、以及驱动旋转支臂动作的旋转电机；上胶盘单元包括弧形设置的上胶盘、以及位于上胶盘底部的动力模块；载盘单元包括载盘以及销轴；清洗单元包括位于下胶盘与上胶盘之间缝隙处的清洗组件；上胶盘位于下胶盘上方，下胶盘与上胶盘底部设置有倒梯形的导流槽。本实用新型不但节省物料，人力及时间，更能保证清洁人员的身体健康。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体晶片加工技术领域，具体涉及一种可自动清洗的旋涂单元。
背景技术
LED芯片制备主要包括光刻，镀膜，刻蚀，清洗等工艺流程。其中光刻工艺对于LED芯片的制备又是一个重要环节，对后期芯片制备的良率及光电性有至关重要的作用。光刻工艺一般分为匀胶、曝光、显影三步。匀胶主要是在晶圆上均匀涂布一层光刻胶，一般采用旋涂的方式，胶膜的均匀性是评价匀胶设备好坏的一个重要标准。但现在匀胶单元经过旋涂后，光刻胶会粘附在设备的上胶盘及下胶盘上，特别是下胶盘的平底设计，会因为时间的推迟积累过多的光刻胶难以清理。依靠人工清洗保持上下胶盘干净整洁，该工作耗费大量的人力，物料以及时间；同时光刻胶对身体有害，容易对清洁人员健康产生影响。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种可自动清洗的旋涂单元，通过弧形设置的上下胶盘，以及位于上下胶盘之间的清洗组件，实现了上下胶盘上光刻胶的自动清洗。
本实用新型的技术方案为：
一种可自动清洗的旋涂单元，包括如下单元：
匀胶单元，包括机械手臂以及安装于机械手臂末端的匀胶胶管；机械手臂带动匀胶胶管上下升降并驱动匀胶胶管旋转至载盘正上方，自匀胶胶管朝向载盘上的晶圆边缘喷涂胶水；
下胶盘单元，包括弧形设置的下胶盘、与下胶盘榫卯连接的旋转支臂、以及驱动旋转支臂动作的旋转电机；旋转电机带动旋转支臂旋转从而同步带动下胶盘旋转；
上胶盘单元，包括弧形设置的上胶盘、以及位于上胶盘底部的动力模块；动力模块驱动位于其上的上胶盘旋转；
载盘单元，包括载盘以及销轴；载盘设置有吸附圆晶的真空孔，载盘通过销轴与旋转支臂相连，载盘在旋转电机驱动下旋转；
清洗单元，包括位于下胶盘与上胶盘之间缝隙处的清洗组件；清洗组件呈弧形条状设置，且清洗组件上开设有若干喷头；间隔设置的清洗组件至少分为清洗件Ⅰ和清洗件Ⅱ；
其中，上胶盘位于下胶盘上方，下胶盘与上胶盘底部设置有倒梯形的导流槽。
优选地，所述下胶盘包括弧形设置的上壳体、以及位于上壳体下方的底壳；上壳体与底壳中部开设有通孔，沿通孔处上壳体与底壳均设置有与旋转支臂相配合的榫卯节点。
优选地，所述下胶盘的底壳的外缘底部设置有滑轮Ⅰ，底壳下方设置有支撑模块，支撑模块上铺设与滑轮Ⅰ相配合的轨道。
优选地，所述上胶盘包括弧形的壳体，壳体下方设置有与动力模块相配合的滑轮Ⅱ。
优选地，所述支撑模块的外侧面、动力模块的内侧面分别为构成导流槽的斜面之一。
优选地，所述载盘的真空孔通过供真空管与抽真空装置连接，圆晶通过真空孔吸附于载盘上。
优选地，所述下胶盘与上胶盘同向同速进行旋转，旋涂时产生的残留光刻胶自导流槽排出。
优选地，所述清洗组件内的清洗液包括丙酮、异丙醇、PGMEA、NMP去胶液、酒精。
本实用新型与现有技术相比，具有以下有益效果：
通过改进上下胶盘形状，由平底设计改为弧形设置，方便光刻胶的自由滑落；在上下胶盘之间的增加了清洗组件，利用带有喷头的清洗组件实现上下胶盘上光刻胶的自动清洗；本实用新型不但节省物料，人力及时间，更能保证清洁人员的身体健康。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术的剖视图。
图2是本实用新型的剖视图。
图3是本实用新型的细节图。
图4是本实用新型的俯视图。
图中：1、载盘；11、旋转电机；12、销轴；13、旋转支臂；2、下胶盘；21、榫卯节点；22、滑轮Ⅰ；23、支撑模块；3、上胶盘；31、滑轮Ⅱ；32、动力模块；4、导流槽；5、机械手臂；6、匀胶胶管；7、清洗件Ⅰ；71、喷头；8、清洗件Ⅱ。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型中的技术方案，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。
实施例1
图1为传统旋涂单元设计，包括匀胶单元，匀胶单元包括可旋转及升降的机械手臂5以及匀胶胶管6。下胶盘2通过螺栓固定与机器支架上，人工清洁时需要耗费大量时间将下胶盘2取下进行清洗。旋转电机11，主要连接载盘1，使载盘1旋转。载盘1顶部附有真空孔，主要将晶圆吸附于载盘1上。导流槽4，将旋涂时产生的残留光刻胶排出。
如图2和图3所示，本实施例提供了一种可自动清洗的旋涂单元，包括如下单元：
匀胶单元，包括机械手臂5以及安装于机械手臂5末端的匀胶胶管6；机械手臂5带动匀胶胶管6上下升降并驱动匀胶胶管6旋转至载盘1正上方，自匀胶胶管6朝向载盘1上的晶圆边缘喷涂胶水；
下胶盘单元，包括弧形设置的下胶盘2、与下胶盘2榫卯连接的旋转支臂13、以及驱动旋转支臂13动作的旋转电机11；旋转电机11带动旋转支臂13旋转从而同步带动下胶盘2旋转；
上胶盘单元，包括弧形设置的上胶盘3、以及位于上胶盘3底部的动力模块32；动力模块32驱动位于其上的上胶盘3旋转；
载盘单元，包括载盘1以及销轴12；载盘1设置有吸附圆晶的真空孔，载盘1通过销轴12与旋转支臂13相连，载盘1在旋转电机11驱动下旋转；
清洗单元，包括位于下胶盘2与上胶盘3之间缝隙处的清洗组件；清洗组件呈弧形条状设置，且清洗组件上开设有若干喷头71；间隔设置的清洗组件至少分为清洗件Ⅰ7和清洗件Ⅱ8；
其中，上胶盘3位于下胶盘2上方，下胶盘2与上胶盘3底部设置有倒梯形的导流槽4。
工作原理：
本实用新型提供一种可自动清洗的旋涂单元，可适用于匀胶及显影工艺。如图4所示，其包括上下胶盘的旋涂单元，通过上下胶盘的旋转及高压的清洗液的喷洒，对上下胶盘进行清洗，同时下部倒梯形的导流槽4的设计，旋涂残余的光刻胶能更加顺滑经导流槽4排出，减少残留。通过此旋涂单元的设计，不但节省物料，人力及时间，更能保证清洁人员的身体健康。
选择清洗流程后，下胶盘2通过旋转电机11、上胶盘3通过动力模块32按照同向同速进行旋转，同时清洗件Ⅰ7开始喷洒清洗液，当转到设定圈数后，清洗件Ⅱ8进行喷洒清洗液再次清洗，如有其他清洗组件，则可设置相应旋转圈数及圈速，清洗过程中由于倒梯形的导胶槽的作用，废液经导胶槽流出。
优选地，所述清洗组件内的清洗液包括丙酮、异丙醇、PGMEA、NMP去胶液、酒精，可根据实际情况进行选择性添加。
实施例2
在实施例1的基础上，所述下胶盘2包括弧形设置的上壳体、以及位于上壳体下方的底壳；上壳体与底壳中部开设有通孔，沿通孔处上壳体与底壳均设置有与旋转支臂13相配合的榫卯节点21。
优选地，所述下胶盘2的底壳的外缘底部设置有滑轮Ⅰ22，底壳下方设置有支撑模块23，支撑模块23上铺设与滑轮Ⅰ22相配合的轨道。
下胶盘2通过榫卯节点21与旋转支臂13连接，由旋转支臂13带动旋转，可控制其转速及旋转方向，榫卯节点21与螺栓固定方式对比，安装更加方便快捷。下胶盘2的两端由滑轮Ⅰ22与支撑装置的轨道接触，起到旋转过程中轨迹限制作用，同样也防止因光刻胶大量残留使胶盘两端重量增加，造成榫卯节点21脱落。
实施例3
在实施例1的基础上，所述上胶盘3包括弧形的壳体，壳体下方设置有与动力模块32相配合的滑轮Ⅱ31。
上胶盘3主要依靠其下部滑轮Ⅱ31产生旋转，滑轮Ⅱ31依靠动力模块32控制其速度与旋转方向。此部分动力模块32与底部机台均采用榫卯连接。
需要说明的是：所述载盘1的真空孔通过供真空管与抽真空装置连接，圆晶通过真空孔吸附于载盘1上。
所述支撑模块23的外侧面、动力模块32的内侧面分别为构成导流槽4的斜面之一。导流槽采用倒梯形设计，有利于残留光刻胶经导流槽4排出。
尽管通过参考附图并结合优选实施例的方式对本实用新型进行了详细描述，但本实用新型并不限于此。在不脱离本实用新型的精神和实质的前提下，本领域普通技术人员可以对本实用新型的实施例进行各种等效的修改或替换，而这些修改或替换都应在本实用新型的涵盖范围内/任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
Claims (7)
1.一种可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，包括如下单元：
匀胶单元，包括机械手臂(5)以及安装于机械手臂(5)末端的匀胶胶管(6)；机械手臂(5)带动匀胶胶管(6)上下升降并驱动匀胶胶管(6)旋转至载盘(1)正上方，自匀胶胶管(6)朝向载盘(1)上的晶圆边缘喷涂胶水；
下胶盘单元，包括弧形设置的下胶盘(2)、与下胶盘(2)榫卯连接的旋转支臂(13)、以及驱动旋转支臂(13)动作的旋转电机(11)； 旋转电机(11)带动旋转支臂(13)旋转从而同步带动下胶盘(2)旋转；
上胶盘单元，包括弧形设置的上胶盘(3)、以及位于上胶盘(3)底部的动力模块(32)；动力模块(32)驱动位于其上的上胶盘(3)旋转；
载盘单元，包括载盘(1)以及销轴(12)；载盘(1)设置有吸附圆晶的真空孔，载盘(1)通过销轴(12)与旋转支臂(13)相连，载盘(1)在旋转电机(11)驱动下旋转；
清洗单元，包括位于下胶盘(2)与上胶盘(3)之间缝隙处的清洗组件；清洗组件呈弧形条状设置，且清洗组件上开设有若干喷头(71)；间隔设置的清洗组件至少分为清洗件Ⅰ(7)和清洗件Ⅱ(8)；
其中，上胶盘(3)位于下胶盘(2)上方，下胶盘(2)与上胶盘(3)底部设置有倒梯形的导流槽(4)。
2.如权利要求1所述的可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，所述下胶盘(2)包括弧形设置的上壳体、以及位于上壳体下方的底壳；上壳体与底壳中部开设有通孔，沿通孔处上壳体与底壳均设置有与旋转支臂(13)相配合的榫卯节点(21)。
3.如权利要求2所述的可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，所述下胶盘(2)的底壳的外缘底部设置有滑轮Ⅰ(22)，底壳下方设置有支撑模块(23)，支撑模块(23)上铺设与滑轮Ⅰ(22)相配合的轨道。
4.如权利要求3所述的可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，所述上胶盘(3)包括弧形的壳体，壳体下方设置有与动力模块(32)相配合的滑轮Ⅱ(31)。
5.如权利要求3所述的可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，所述支撑模块(23)的外侧面、动力模块(32)的内侧面分别为构成导流槽(4)的斜面之一。
6.如权利要求1所述的可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，所述载盘(1)的真空孔通过供真空管与抽真空装置连接，圆晶通过真空孔吸附于载盘(1)上。
7.如权利要求1或4所述的可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，所述下胶盘(2)与上胶盘(3)同向同速进行旋转，旋涂时产生的残留光刻胶自导流槽(4)排出。
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