CN215696561U - 一种光刻胶收集杯清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于半导体技术领域，公开了一种光刻胶收集杯清洗装置，包括可旋转的旋转台、清洗盘和喷嘴；清洗盘设置在旋转台上，旋转台旋转时带动清洗盘转动，清洗盘内设有通道，所述清洗盘的侧壁沿转动方向设有多个通孔，所述清洗盘的底部沿转动方向设有多个斜孔，所述斜孔的底部出口朝向所述清洗盘的外侧倾斜，所述通孔和所述斜孔分别与所述通道连通；喷嘴设置在所述清洗盘的下方，用于向所述通道内喷射清洗液。本实用新型通过在清洗盘的侧面设置用于喷射清洗液的通孔，同时在清洗盘的底部设置用于喷射清洗液的斜孔，可实现在收集杯的不同高度向收集杯内壁喷射清洗液，实现自动清洗收集杯内壁残留的光刻胶的同时，提高清洗效果且节省清洗时间。

Description

一种光刻胶收集杯清洗装置

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，尤指一种光刻胶收集杯清洗装置。

背景技术

在半导体制造过程中，光刻工艺是重要的环节之一，光刻工艺是指在基板上，如在衬底基板上依次经过光刻胶涂布、曝光、显影等处理，将光刻掩膜板上设计好的图案转移到衬底基板表面膜层中的过程，从而在衬底基板上形成光刻图案。

其中，光刻涂布的方法是将衬底基板放置在光刻胶涂布设备的旋转台上，光刻胶喷嘴向衬底基板的上表面中央喷涂光刻胶，旋转台转动带动衬底基板旋转，在离心力的作用下，光刻胶覆盖在整个衬底基板的上表面，形成光刻胶层，在该过程中，部分光刻胶会被甩到旋转台外侧的光刻胶收集杯中，需要对光刻胶收集杯中的残余光刻胶进行清理，否则，在下一次光刻胶涂布时，残余光刻胶会溅落到衬底基板的边缘造成缺陷，影响后续产品的良率。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种光刻胶收集杯清洗装置，可自动清洗收集杯内残留的光刻胶，且清洗效果好、清洗时间短。

本实用新型提供的技术方案如下：

一种光刻胶收集杯清洗装置，包括：

可旋转的旋转台；

清洗盘，设置在所述旋转台上，所述旋转台旋转时带动所述清洗盘转动，所述清洗盘内设有通道，所述清洗盘的侧壁沿转动方向设有多个通孔，所述清洗盘的底部沿转动方向设有多个斜孔，所述斜孔的底部出口朝向所述清洗盘的外侧倾斜，所述通孔和所述斜孔分别与所述通道连通；

喷嘴，设置在所述清洗盘的下方，用于向所述通道内喷射清洗液。

本技术方案中，为减少收集杯内壁残留的光刻胶，一般收集杯对应旋转台处为斜面，从旋转台上的衬底基板甩出的光刻胶会溅射到收集杯的斜面上，使溅射到斜面上的光刻胶大部分会掉落到收集杯的底部，减少收集杯上残留的光刻胶。但是，随着一天的长时间使用，收集杯的竖直面上仍然堆积了较多的光刻胶，因此，本技术方案通过在清洗盘的侧面设置多个通孔，多个通孔可直接喷射清洗液到收集杯的斜面上对光刻胶进行清洗，同时，清洗盘的底部还设置有多个斜孔，多个斜孔可直接喷射清洗液到收集杯的竖直面上，以对竖直面上的光刻胶进行清洗，进而使清洗更全面、更干净，且清洗时间短。

进一步优选地，所述清洗盘的底部设有开口，所述开口与所述通道相通，所述喷嘴对应所述开口设置，所述喷嘴喷射的清洗液从所述开口处进入所述通道内。

进一步优选地，所述清洗盘包括上清洗盘和下清洗盘，所述上清洗盘与所述下清洗盘固定连接，所述通道位于所述上清洗盘与所述下清洗盘之间。

进一步优选地，所述下清洗盘包括侧板和底板，所述侧板围设在所述底板的外边缘，所述上清洗盘盖设在所述侧板上，所述底板为环形，环形的所述底板的内侧形成所述开口，所述上清洗盘与所述底板之间形成所述通道，所述旋转台穿过所述开口并与所述上清洗盘连接。

进一步优选地，所述通孔设置在所述侧板上，所述斜孔设置在所述底板上。

进一步优选地，所述侧板的内侧壁向内侧凸出设有连接部，所述上清洗盘与所述连接部螺纹连接，所述连接部位于相邻的两个所述通孔之间。

进一步优选地，所述斜孔的底部出口位于所述清洗盘的底部边缘处。

进一步优选地，所述喷嘴的数量为多个，多个所述喷嘴对称设置在所述清洗盘的下方。

进一步优选地，所述通孔距离所述旋转台的高度高于衬底基板距离所述旋转台的高度。

进一步优选地，所述旋转台上设有用于吸附所述清洗盘的多个吸附孔。

本实用新型的技术效果在于：通过在清洗盘的侧面设置用于喷射清洗液的通孔，同时在清洗盘的底部设置用于喷射清洗液的斜孔，可实现在收集杯的不同高度向收集杯内壁喷射清洗液，实现自动清洗收集杯内壁残留的光刻胶的同时，提高清洗效果且节省清洗时间。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明：

图1是本申请具体实施例提供的一种光刻胶收集杯清洗装置的剖面图；

图2是图1中A处放大图；

图3是本申请具体实施例提供的清洗盘的底部结构示意图；

图4是本申请具体实施例提供的下清洗盘的结构示意图；

图5是本申请具体实施例提供的收集杯的外部结构示意图；

图6是本申请具体实施例提供的收集杯的内部结构示意图。

附图标号说明：

10、旋转台；20、清洗盘；201、通道；202、通孔；203、斜孔；204、开口；21、上清洗盘；22、下清洗盘；221、侧板；2211、连接部；222、底板；30、喷嘴；40、收集杯；41、上收集杯；411、竖直段；412、倾斜段；42、下收集杯。

具体实施方式

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

为使图面简洁，各图中只示意性地表示出了与本实用新型相关的部分，它们并不代表其作为产品的实际结构。另外，以使图面简洁便于理解，在有些图中具有相同结构或功能的部件，仅示意性地绘示了其中的一个，或仅标出了其中的一个。在本文中，“一个”不仅表示“仅此一个”，也可以表示“多于一个”的情形。

还应当进一步理解，在本申请说明书和所附权利要求书中使用的术语“和/或”是指相关联列出的项中的一个或多个的任何组合以及所有可能组合，并且包括这些组合。

在本文中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

另外，在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

实施例一

一种光刻胶收集杯清洗装置，如图1至图6所示，包括可旋转的旋转台10、清洗盘20和喷嘴30。旋转台10位于收集杯40的内侧，旋转台10的底部连接有一转轴，转轴由驱动机构驱动转动时带动旋转台10转动。旋转台10和收集杯40均为涂胶显影机上的原始部件，通过在旋转台10上安装清洗盘20，并在清洗盘20下方设置喷嘴30，喷嘴30向清洗盘20内喷射清洗液，清洗盘20随旋转台10转动并将清洗液溅射到收集杯40内，以清洗收集杯40内壁上残留的光刻胶。

如图1所示，收集杯40包括上收集杯41和下收集杯42，上收集杯41设置在下收集杯42上，上收集杯41内侧壁的纵向截面包括竖直段411和倾斜段412，竖直段411与下收集杯42连接，倾斜段412设置在竖直段411的另一端，且倾斜段412远离竖直段411的一端朝向收集杯40的内侧倾斜。旋转台10对应上收集杯41的倾斜段412设置。

涂胶显影机在进行光刻涂胶时，旋转台10上安装衬底基板，旋转台10带动衬底基板旋转，衬底基板上方设置喷嘴组件，通过喷嘴组件对衬底基板进行涂胶，旋转台10对应倾斜段412设置，被旋转台10甩出的光刻胶溅射到倾斜段412上后，大部分光刻胶在重力作用下可直接落到收集杯40底部，剩余光刻胶才会沿着倾斜段412向下流到竖直段411，以减少收集杯40内壁上的光刻胶残留。

需要对收集杯40进行清洗时，将旋转台10上的衬底基板取下，在旋转台10上安装清洗盘20，旋转台10旋转时带动清洗盘20转动，通过清洗盘20溅射清洗液到收集杯40的内侧壁，以清洗残留在收集杯40内侧壁的光刻胶。

清洗盘20内设有通道201，清洗盘20的侧壁沿转动方向设有多个通孔202，清洗盘20的底部沿转动方向设有多个斜孔203，斜孔203的底部出口朝向清洗盘20的外侧倾斜，通孔202和斜孔203分别与通道201连通；喷嘴30设置在清洗盘20的下方，用于向通道201内喷射清洗液。

清洗时，喷嘴30向清洗盘20的通道201内喷射用于清洗光刻胶的清洗液，进入通道201内的清洗液在离心力的作用下从清洗盘20侧壁的通孔202以及底部的斜孔203喷射出，并溅射到收集杯40的内壁上，清洗收集杯40内壁残留的光刻胶。

优选地，喷嘴30的数量为多个，多个喷嘴30对称设置在清洗盘20的下方。通过设置多个喷嘴30，可增大进入通道201的清洗液的量，进而增大从通孔202和斜孔203喷出的液体量和液压，以提高清洗效果。

本实施例中，在清洗盘20的侧壁设置多个通孔202，从通孔202喷射出的清洗液可直接喷射到收集杯40的倾斜段412上，并对倾斜段412上残留的光刻胶进行清洗，部分清洗液会顺着倾斜段412向下流向竖直段411，以对竖直段411和下收集杯41内壁残留的光刻胶进行清洗，因溅射到倾斜段412上的部分清洗液会被倾斜段412向外反弹，若只在清洗盘20侧面设置通孔202，会使得向下流到上收集杯41的竖直段411以及下收集杯42内壁的清洗液变少，导致清洗不干净，收集杯40内壁上仍会残留光刻胶，并且，倾斜段412下方竖直段411以及下收集杯42内壁残留的光刻胶只能等流下的清洗液清洗，清洗速度慢。

为了解决仅在清洗盘20侧面设置通孔202导致的清洗不干净且速度慢的问题，本实施例在清洗盘20的底部沿清洗盘20的转动方向还设有多个斜孔203，斜孔203可直接向上收集杯41的倾斜段412与竖直段411的连接处或直接向竖直段411喷射清洗液，以清洗竖直段411上残留的光刻胶，使清洗更全面、更干净，且清洗时间短。在实际使用时，可根据收集杯40的形状以及光刻胶的残留情况，调整斜孔203的倾斜角度，以使清洗效果更好。

作为本实施例的变化实施方式，清洗盘20的侧壁上也可以沿清洗盘20的高度方向设置多排通孔202，清洗盘20的底部也可以沿清洗盘20的径向设置多圈斜孔203。

优选地，通孔202距离旋转台10的高度高于衬底基板距离旋转台10的高度，以使通孔202喷射出的清洗液的高度高于从衬底基板上溅射出的光刻胶的高度，防止因通孔202喷射出的清洗液高度不够而导致收集杯40的较高位置处残留光刻胶，以使清洗更全面、更干净，提高清洗效果。

在一种实施方式中，如图3所示，清洗盘20的底部设有开口204，开口204与通道201相通，喷嘴30对应开口204设置，喷嘴30喷射的清洗液从开口204处进入通道201内。喷嘴30可直接伸入开口204内，且喷嘴30的出口朝向通道201设置，使喷嘴30喷出的清洗液直接进入通道201内，减少清洗液的浪费。喷嘴30可随旋转台10一起转动，也可不随旋转台10转动，喷嘴30随旋转台10转动时，清洗盘20底部的开口204可为一个小的缺口或一整圈缺口。喷嘴30不随旋转台10一起转动时，开口204为沿转动方向设置的一整圈缺口。

如图2和图3所示，清洗盘20包括上清洗盘21和下清洗盘22，上清洗盘21与下清洗盘22固定连接，通道201位于上清洗盘21与下清洗盘22之间。将清洗盘20设置为分体设置的上清洗盘21和下清洗盘22可简化加工难度，便于清洗盘20的加工。

如图4所示，下清洗盘22包括侧板221和底板222，侧板221围设在底板222的外边缘，上清洗盘21为板状结构，上清洗盘21盖设在侧板221上，底板222为环形，环形的底板222的内侧形成开口204，即开口204为一整圈缺口，上清洗盘21与底板222之间的空间形成储存清洗液的通道201，旋转台10穿过开口204并与上清洗盘21连接。旋转台10上设有用于吸附上清洗盘21的多个吸附孔，即整个清洗盘20通过真空吸附在旋转台10上。

如图4所示，清洗盘20的通孔202设置在侧板221上，清洗盘20的斜孔203设置在底板222上。侧板221的内侧壁向内侧凸出设有连接部2211，连接部2211内设有螺纹孔，上清洗盘21通过螺栓与连接部2211上的螺纹孔连接，实现上清洗盘21与下清洗盘22的固定连接，连接部2211位于相邻的两个通孔202之间。为提高上清洗盘21与下清洗盘22的连接强度，侧板221的内侧壁上沿圆周方向间隔设有多个连接部2211，上清洗盘21与多个连接部2211螺纹连接，以在整个圆周方向实现上清洗盘21与下清洗盘22的连接。其中，每个连接部2211均位于相邻的两个通孔202之间。

在一种实施方式中，如图4所示，斜孔203的底部出口位于清洗盘20的底部边缘处，使斜孔203喷出的清洗液可喷射在收集杯40的较高位置处，如喷射在倾斜段412与竖直段411的连接处，因倾斜段412与竖直段411的连接处空间变大，该连接处残留的光刻胶也更多，斜孔203喷射出的清洗液直接喷射在该连接处，可提高清洗效果。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种光刻胶收集杯清洗装置，其特征在于，包括：

可旋转的旋转台；

清洗盘，设置在所述旋转台上，所述旋转台旋转时带动所述清洗盘转动，所述清洗盘内设有通道，所述清洗盘的侧壁沿转动方向设有多个通孔，所述清洗盘的底部沿转动方向设有多个斜孔，所述斜孔的底部出口朝向所述清洗盘的外侧倾斜，所述通孔和所述斜孔分别与所述通道连通；

喷嘴，设置在所述清洗盘的下方，用于向所述通道内喷射清洗液。

2.根据权利要求1所述的一种光刻胶收集杯清洗装置，其特征在于，

所述清洗盘的底部设有开口，所述开口与所述通道相通，所述喷嘴对应所述开口设置，所述喷嘴喷射的清洗液从所述开口处进入所述通道内。

3.根据权利要求2所述的一种光刻胶收集杯清洗装置，其特征在于，

所述清洗盘包括上清洗盘和下清洗盘，所述上清洗盘与所述下清洗盘固定连接，所述通道位于所述上清洗盘与所述下清洗盘之间。

4.根据权利要求3所述的一种光刻胶收集杯清洗装置，其特征在于，

所述下清洗盘包括侧板和底板，所述侧板围设在所述底板的外边缘，所述上清洗盘盖设在所述侧板上，所述底板为环形，环形的所述底板的内侧形成所述开口，所述上清洗盘与所述底板之间形成所述通道，所述旋转台穿过所述开口并与所述上清洗盘连接。

5.根据权利要求4所述的一种光刻胶收集杯清洗装置，其特征在于，所述通孔设置在所述侧板上，所述斜孔设置在所述底板上。

6.根据权利要求4所述的一种光刻胶收集杯清洗装置，其特征在于，所述侧板的内侧壁向内侧凸出设有连接部，所述上清洗盘与所述连接部螺纹连接，所述连接部位于相邻的两个所述通孔之间。

7.根据权利要求1至6任一项所述的一种光刻胶收集杯清洗装置，其特征在于，所述斜孔的底部出口位于所述清洗盘的底部边缘处。

8.根据权利要求1至6任一项所述的一种光刻胶收集杯清洗装置，其特征在于，所述喷嘴的数量为多个，多个所述喷嘴对称设置在所述清洗盘的下方。

9.根据权利要求1至6任一项所述的一种光刻胶收集杯清洗装置，其特征在于，所述通孔距离所述旋转台的高度高于衬底基板距离所述旋转台的高度。

10.根据权利要求1至6任一项所述的一种光刻胶收集杯清洗装置，其特征在于，所述旋转台上设有用于吸附所述清洗盘的多个吸附孔。

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