CN219676442U - 一种涂胶显影机的加工机台 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及制造和处理半导体晶圆的涂胶显影机技术领域，具体为一种涂胶显影机的加工机台，包括工作台，所述工作台下表面的四周均活动连接有轮毂，所述工作台上表面的内部从一端到另一端，依次设置有涂胶组件、显影光刻组件和清洗甩干组件，所述工作台上表面的内部且位于所述涂胶组件、显影光刻组件和清洗甩干组件的对面设置有机械手臂；该涂胶显影机的加工机台中，通过在工作台上设备有机械手臂的结构，以及在机台上设置排水槽和排水口结构，实现了图胶显影机加工流程均使用机械手臂操作完成，以及实现涂胶和清洗液体初步处理的功能，达到了减少人工劳动成本，涂胶显影机的加工机台机械化一体的效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及制造和处理半导体晶圆的涂胶显影机技术领域，具体涉及一种涂胶显影机的加工机台。
背景技术
涂胶显影机的加工机台是在光刻工序中，将半导体晶圆进行涂胶、烘烤、显影、清洗和烘干的操作，形成电子芯片，然而在工作时，由于加工的步骤繁琐，且涂胶含有危害人体健康物质，而加工又需要机械和人工的共同操作，利用人工将晶圆每一个操作进行处理，根据制造晶圆的需求进行涂胶、以及光刻曝光图案误差进行修补处理，存在加工耗时耗力、人工成本高及潜在危害的问题。
例如，申请号为CN202122164828.9公开了一种半导体芯片用可去除异味的涂胶显影机中，包括机身、控制面板、工作台、电动滑轨、滑块、芯片放置平台、涂胶机构、支撑杆、顶板、液压缸、活塞杆、涂胶器、除异味机构及透明观察窗结构组成，通过设置有电动滑轨和涂胶机构，电动滑轨工作便于控制滑块左右滑动，滑块滑动从而带动芯片放置平台左右移动，用于根据需求调整半导体芯片位置，以及通过设置有除异味机构和活性炭板，除异味机构通过电机工作带动风扇转动，用于有效吹散胶溶剂产生的异味，但是存在除味的设置结构局限性大，操作工作机台流程慢，工作效率低的缺陷；申请号为CN202222761367.8公开了一种涂胶显影机卡盘工作台专用的密封垫及卡盘工作台中，包括本体、装配通孔、围挡、上端面、基座、晶圆承载单元及晶圆结构组成，通过围挡的设置，使得密封垫在和晶圆接触时，密封垫可以和晶圆承载单元的上表面组合成类似吸盘的结构，从而和晶圆承载单元共同在吸真空机台的作用下实现对晶圆下端面的吸附限位，用于卡盘工作台对晶圆的吸附效果不再依赖于晶圆承载单元上表面的平整度和清洁度，但是存在晶圆涂胶时，不能将多余的胶液清理，以及工作台对密封垫无清理的缺陷。
因此，上述两个实用新型专利中公开的涂胶显影机，在给半导体晶圆进行加工时，其机台存在晶圆操作流程繁琐，需要人工参与加工流程不流畅，工作效率低和人工成本高的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种涂胶显影机的加工机台，以解决上述背景技术中提到的技术问题。
为了实现上述目的，本实用新型公开了一种涂胶显影机的加工机台，包括工作台，所述工作台下表面的四周均活动连接有轮毂，所述工作台上表面的内部从一端到另一端，依次设置有涂胶组件、显影光刻组件和清洗甩干组件，所述工作台上表面的内部且位于所述涂胶组件、显影光刻组件和清洗甩干组件的对面设置有机械手臂；所述机械手臂的结构包括有液压管，所述液压管的内壁活动套接有伸缩杆，所述伸缩杆的一端固定连接有挡板检测器，所述挡板检测器远离所述伸缩杆的侧面固定连接有顶板，所述顶板下表面的中部固定连接有吸盘，位于所述挡板检测器的侧面且位于所述顶板的下方设置有底板，所述挡板检测器与所述底板的活动连接处开设有平移槽。
可选地，所述涂胶组件的结构包括有涂胶喷管和晶圆真空吸附盘，分别与工作台相连，所述晶圆真空吸附盘下表面的中部固定连接有齿轮，位于所述晶圆真空吸附盘下表面的中部且位于所述齿轮的中部设置有腔体，所述齿轮的下表面固定连接有电机，且两个所述齿轮的侧面啮合相连。
可选地，所述显影光刻组件的结构包括有显影室，所述显影室内部上表面的中部设置有灯，所述显影室内部下表面的中部设置有底座，所述显影室外部的左右侧面均固定连接有隔温防溅挡块；所述清洗甩干组件的结构包括有冲洗箱和旋转置片台，且所述冲洗箱和旋转置片台分别与工作台相连。
可选地，所述所述工作台的结构包括有机台，所述机台的下表面固定连接有框架腿，所述机台上表面的一侧开设有排水槽，位于所述机台的侧面且位于所述排水槽的末端固定连接有排水口，所述机台下表面的中部固定连接有电线，所述机台背面的两端均设置有接口，位于所述机台上表面内部的中部且位于所述机械手臂的同侧开设有滑槽，位于所述机台的内部且位于所述晶圆真空吸附盘的底部开设有机仓。
可选地，所述液压管内壁的直径与所述伸缩杆的直径是相等的，用于伸缩杆在液压管内部进行伸缩，将夹取的晶圆分别送至涂胶组件、显影光刻组件及清洗甩干组件的加工程序中；所述顶板的长度、宽度和厚度分别与所述底板的长度、宽度和厚度相等，所述吸盘的形状为圆台，且其材质为橡胶。
可选地，所述晶圆真空吸附盘上表面的中心位置与所述涂胶喷管一端下表面的中心位置在一条垂线上，用于将涂胶喷管内喷出的胶液，均匀覆盖在晶圆真空吸附盘上表面的晶圆上，所述晶圆真空吸附盘下表面的中心与所述齿轮和腔体的中心是在一条垂线上，用于所述齿轮随着电机转动高速旋转时，带动晶圆真空吸附盘进行旋转，对涂胶的晶圆进行均匀涂覆，并把多余的胶液甩出落在机台上表面的中部，所述腔体接通气体，对晶圆真空吸附盘上表面的晶圆进行吸附作用，所述涂胶喷管通过接口接通涂胶加工的胶液，并通过涂胶喷管腔道喷射出胶液。
可选地，所述排水槽的形状是倾斜长条状，用于将机台内部的液体进行清理回收，所述冲洗箱的内部是中空的，通过接口注入清水，从冲洗箱下表面喷出清洗旋转置片台上表面的晶圆，所述旋转置片台底部的结构与所述晶圆真空吸附盘底部的结构相同，所述显影室的形状为开口箱体。
有益效果
与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：
该涂胶显影机的加工机台中，通过在工作台上设备有机械手臂的结构，以及在机台上设置排水槽和排水口结构，实现了图胶显影机加工流程均使用机械手臂操作完成，以及实现涂胶和清洗液体初步处理的功能，达到了减少人工劳动成本，涂胶显影机的加工机台机械化一体的效果，提高了晶圆加工操作的流畅度，以及提高了工作效率。
附图说明
图1为本实用新型的涂胶显影机的加工机台正面结构示意图。
图2为本实用新型的涂胶显影机的加工机台俯视结构示意图。
图3为本实用新型的涂胶显影机的加工机台背面结构示意图。
图4为本实用新型的涂胶显影机的加工机台局部结构剖视图。
图5为本实用新型的机械手臂结构示意图。
图6为本实用新型的显影光刻组件结构示意图。
附图标记为：1、工作台；101、机台；102、框架腿；103、排水槽；104、排水口；105、电线；106、接口；107、滑槽；108、机仓；2、轮毂；3、涂胶组件；301、涂胶喷管；302、晶圆真空吸附盘；303、齿轮；304、腔体；305、电机；4、显影光刻组件；401、显影室；402、灯；403、底座；404、隔温防溅挡块；5、清洗甩干组件；501、冲洗箱；502、旋转置片台；6、机械手臂；601、液压管；602、伸缩杆；603、挡板检测器；604、顶板；605、吸盘；606、平移槽；607、底板。
具体实施方式
下面通过具体实施例进行详细阐述，说明本实用新型的技术方案。
参照图1-6所示，本实用新型公开了一种涂胶显影机的加工机台结构，包括工作台1，工作台1下表面的四周均活动连接有轮毂2，工作台1上表面的内部从一端到另一端，依次设置有涂胶组件3、显影光刻组件4和清洗甩干组件5，工作台1上表面的内部且位于涂胶组件3、显影光刻组件4和清洗甩干组件5的对面设置有机械手臂6；机械手臂6的结构包括有液压管601，液压管601的内壁活动套接有伸缩杆602，伸缩杆602的一端固定连接有挡板检测器603，挡板检测器603远离伸缩杆602的侧面固定连接有顶板604，顶板604下表面的中部固定连接有吸盘605，位于挡板检测器603的侧面且位于顶板604的下方设置有底板607，挡板检测器603与底板607的活动连接处开设有平移槽606。
在一个优选的实施例中，涂胶组件3的结构包括有涂胶喷管301和晶圆真空吸附盘302，分别与工作台1相连，晶圆真空吸附盘302下表面的中部固定连接有齿轮303，位于晶圆真空吸附盘302下表面的中部且位于齿轮303的中部设置有腔体304，齿轮303的下表面固定连接有电机305，且两个齿轮303的侧面啮合相连。
在一个优选的实施例中，显影光刻组件4的结构包括有显影室401，显影室401内部上表面的中部设置有灯402，显影室401内部下表面的中部设置有底座403，显影室401外部的左右侧面均固定连接有隔温防溅挡块404；清洗甩干组件5的结构包括有冲洗箱501和旋转置片台502，且冲洗箱501和旋转置片台502分别与工作台1相连。
在一个优选的实施例中，工作台1的结构包括有机台101，机台101的下表面固定连接有框架腿102，机台101上表面的一侧开设有排水槽103，位于机台101的侧面且位于排水槽103的末端固定连接有排水口104，机台101下表面的中部固定连接有电线105，机台101背面的两端均设置有接口106，位于机台101上表面内部的中部且位于机械手臂6的同侧开设有滑槽107，位于机台101的内部且位于晶圆真空吸附盘302的底部开设有机仓108。
在一个优选的实施例中，液压管601内壁的直径与伸缩杆602的直径是相等的，用于伸缩杆602在液压管601内部进行伸缩，将夹取的晶圆分别送至涂胶组件3、显影光刻组件4及清洗甩干组件5的加工程序中；顶板604的长度、宽度和厚度分别与底板607的长度、宽度和厚度相等，用于机械自动化夹取晶圆芯片，吸盘605的形状为圆台，且其材质为橡胶，用于吸附接触晶圆表面，避免造成摩擦和划伤。
在一个优选的实施例中，晶圆真空吸附盘302上表面的中心位置与涂胶喷管301一端下表面的中心位置在一条垂线上，用于将涂胶喷管301内喷出的胶液，均匀覆盖在晶圆真空吸附盘302上表面的晶圆上，晶圆真空吸附盘302下表面的中心与齿轮303和腔体304的中心是在一条垂线上，用于齿轮303随着电机305转动高速旋转时，带动晶圆真空吸附盘302进行旋转，对涂胶的晶圆进行均匀涂覆，并把多余的胶液甩出落在机台101上表面的中部，腔体304接通气体，对晶圆真空吸附盘302上表面的晶圆进行吸附作用，涂胶喷管301通过接口106接通涂胶加工的胶液，并通过涂胶喷管301腔道喷射出胶液。
在一个优选的实施例中，排水槽103的形状是倾斜长条状，用于将机台101内部的液体进行清理回收，冲洗箱501的内部是中空的，通过接口106注入清水，从冲洗箱501下表面喷出清洗旋转置片台502上表面的晶圆，旋转置片台502底部的结构与晶圆真空吸附盘302底部的结构相同，用于清洗晶圆时，甩干其表面附着的多余水分，显影室401的形状为开口箱体，用于防止污染飘在晶圆表面。
工作原理：工作人员利用框架腿102底部的轮毂2将机台101推至到晶圆适合涂胶显影的位置，并连接电线105到电源上，取出废液桶并将其放置在排水口104的正下方，依次取出调配好的涂胶液和清水管道，分别从机台101背面的接口106安装在涂胶喷管301和冲洗箱501上，然后启动机仓108内部的机械手臂6和晶圆真空吸附盘302底部的电机305，期间，电机305转动带动齿轮303进行啮合联动齿轮303上表面的晶圆真空吸附盘302转动，接通腔体304，对晶圆真空吸附盘302上表面进行晶圆真空吸附操作，将需要加工的晶圆利用机械夹子传输到挡板检测器603上顶板604和底板607的中部，当晶圆放置在底板607的表面时，底板607顺着平移槽606上移，将晶圆挤压吸附在顶板604下表面吸盘605的底部，然后底板607下移，与此同时，伸缩杆602从液压管601中伸缩带动挡板检测器603及吸附在吸盘605上的晶圆到加工程序中，将晶圆防止在晶圆真空吸附盘302上表面的中部，经过腔体304稳定的吸附在其表面，然后涂胶喷管301喷出胶液，高速旋转的晶圆均匀涂覆胶液后，顶板604和底板607夹取晶圆经过伸缩杆602伸缩和在机仓108的移动，放置到显影室401内部的底座403表面，与此同时灯402根据光色和光强弱进行照明显影，等待一定时间后，再利用机械手臂6取出晶圆从机仓108中移动放置到旋转置片台502的上表面，相应的冲洗箱501下表面对齐旋转置片台502的中心，喷射清水，对晶圆进行清洗，旋转置片台502旋转甩掉晶圆表面附着水分；最后将加工完成的晶圆利用机械夹子夹取收纳包装即可，而在机台101内部喷射出多余的涂液和清水洗涤的液体顺着排水槽103，从排水口104流出收纳到废水桶中，进一步的进行废液处理。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用于限制实用新型，凡在本实用新型的设计构思之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种涂胶显影机的加工机台，其特征在于：包括工作台(1)，所述工作台(1)下表面的四周均活动连接有轮毂(2)，所述工作台(1)上表面的内部从一端到另一端，依次设置有涂胶组件(3)、显影光刻组件(4)和清洗甩干组件(5)，所述工作台(1)上表面的内部且位于所述涂胶组件(3)、显影光刻组件(4)和清洗甩干组件(5)的对面设置有机械手臂(6)；所述机械手臂(6)的结构包括有液压管(601)，所述液压管(601)的内壁活动套接有伸缩杆(602)，所述伸缩杆(602)的一端固定连接有挡板检测器(603)，所述挡板检测器(603)远离所述伸缩杆(602)的侧面固定连接有顶板(604)，所述顶板(604)下表面的中部固定连接有吸盘(605)，位于所述挡板检测器(603)的侧面且位于所述顶板(604)的下方设置有底板(607)，所述挡板检测器(603)与所述底板(607)的活动连接处开设有平移槽(606)。
2.根据权利要求1所述的一种涂胶显影机的加工机台，其特征在于：所述涂胶组件(3)的结构包括有涂胶喷管(301)和晶圆真空吸附盘(302)，所述晶圆真空吸附盘(302)下表面的中部固定连接有齿轮(303)，位于所述晶圆真空吸附盘(302)下表面的中部且位于所述齿轮(303)的中部设置有腔体(304)，所述齿轮(303)的下表面固定连接有电机(305)，且两个所述齿轮(303)的侧面啮合相连。
3.根据权利要求2所述的一种涂胶显影机的加工机台，其特征在于：所述显影光刻组件(4)的结构包括有显影室(401)，所述显影室(401)内部上表面的中部设置有灯(402)，所述显影室(401)内部下表面的中部设置有底座(403)，所述显影室(401)外部的左右侧面均固定连接有隔温防溅挡块(404)；所述清洗甩干组件(5)的结构包括有冲洗箱(501)和旋转置片台(502)。
4.根据权利要求3所述的一种涂胶显影机的加工机台，其特征在于：所述工作台(1)的结构包括有机台(101)，所述机台(101)的下表面固定连接有框架腿(102)，所述机台(101)上表面的一侧开设有排水槽(103)，位于所述机台(101)的侧面且位于所述排水槽(103)的末端固定连接有排水口(104)，所述机台(101)下表面的中部固定连接有电线(105)，所述机台(101)背面的两端均设置有接口(106)，位于所述机台(101)上表面内部的中部且位于所述机械手臂(6)的同侧开设有滑槽(107)，位于所述机台(101)的内部且位于所述晶圆真空吸附盘(302)的底部开设有机仓(108)。
5.根据权利要求4所述的一种涂胶显影机的加工机台，其特征在于：所述液压管(601)内壁的直径与所述伸缩杆(602)的直径是相等的，所述顶板(604)的长度、宽度和厚度分别与所述底板(607)的长度、宽度和厚度相等，所述吸盘(605)的形状为圆台，且其材质为橡胶。
6.根据权利要求4所述的一种涂胶显影机的加工机台，其特征在于：所述晶圆真空吸附盘(302)上表面的中心位置与所述涂胶喷管(301)一端下表面的中心位置在一条垂线上，所述晶圆真空吸附盘(302)下表面的中心与所述齿轮(303)和腔体(304)的中心是在一条垂线上，所述涂胶喷管(301)通过接口(106)接通涂胶加工的胶液，并通过涂胶喷管(301)腔道喷射出胶液。
7.根据权利要求4所述的一种涂胶显影机的加工机台，其特征在于：所述排水槽(103)的形状是倾斜长条状，所述冲洗箱(501)的内部是中空的，所述旋转置片台(502)底部的结构与所述晶圆真空吸附盘(302)底部的结构相同，所述显影室(401)的形状为开口箱体。
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2023
- 2023-03-16 CN CN202320509239.6U patent/CN219676442U/zh active Active
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| CN117612988A (zh) * | 2024-01-19 | 2024-02-27 | 宇弘研科技(苏州)有限公司 | 一种涂胶显影机用晶圆缓冲式定位托架 |
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Legal Events
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |