CN219400765U - 一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构 - Google Patents

一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构 Download PDF

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Abstract

本实用新型涉及半导体涂胶设备技术领域,具体为一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构,包括涂胶机架,所述涂胶机架内部的一端到另一端,依次设置有清洗箱和真空吸盘,位于所述涂胶机架内部的另一端且位于所述真空吸盘的下表面设置有电动设备箱,所述涂胶机架上端的正面活动连接有喷胶设备;该半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构中,通过在喷胶设备上设置有喷嘴的结构,以及在清洗箱上设置有电动毛刷件的结构,实现了涂胶喷嘴在清洗时更彻底、旋转塑料毛条清洗圆台喷头内腔胶液残留物更干净的功能,以及实现了在喷管上安装拆卸喷嘴更便捷功能,达到了喷嘴更换简单、清洗毛刷和泵压冲洗更干净的效果,以此提高后续涂胶晶圆的质量。

Description

一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构
技术领域
本实用新型涉及半导体涂胶设备技术领域,具体涉及一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构。
背景技术
半导体涂胶设备是在制作半导体芯片加工工艺的机械设备,在半导体晶圆上喷涂覆盖光刻显影胶时,其喷射胶液的喷嘴腔内灌满胶液,在工艺过程中,经过高温烘烤或久滞风吹固化,胶液的黏着性会沾粘附着在喷嘴的内部和表面,很难清洗干净,现有的喷嘴清洗机构是将喷嘴从涂胶设备拆下,放入到液体中浸泡后,进行搅拌清洗,但是依然存在附着在喷嘴腔内部的胶液,导致后续加工时,晶圆表面在喷涂胶液不均匀而造成喷涂缺陷的问题。
例如,申请号为CN202221786540.3公开了一种用于喷胶设备的喷嘴清洗装置中,包括喷枪喷嘴、盒体、清洗毛刷、支架、盖板、电机、减速结构、感应传感器、液位传感器、无杆气缸、气缸行程传感器、滑块、转轴、刷丝复合辊、同步联接组件、主动轮、从动轮、传动带、张紧轮、封盖部及连接部结构,通过采用电驱动的清洗毛刷对喷枪喷嘴进行清洗,无需人工清理,用于节省人力,但是存在毛刷磨损后清洗喷嘴不全面而导致喷嘴内部残留胶液,以及存在喷嘴损坏或传感器接触不良而导致喷嘴更换难的缺陷;申请号为CN202221791719.8公开了一种喷胶枪自动清洗装置中,包括喷枪喷嘴、盒体、清洗毛刷、支架、盖板、电机、减速结构、感应传感器、液位传感器、无杆气缸、气缸行程传感器、滑块、转轴、刷丝复合辊、封盖部及连接部结构,通过采用自动化传感器和自动控制器,使得该喷胶枪自动清洗装置,用于无需机器人自动喷胶设备停工,但是存在喷嘴清洗结构复杂,喷涂单件产品就清洗的工作周期短、清洗成本高,喷嘴腔内涂胶液浪费的缺陷。
因此,上述两个实用新型专利中均公开了喷嘴清洗装置,但是在喷嘴喷涂胶液后进行清洗时,存在喷嘴更换难、清洗毛刷磨损导致清洗不干净,遗留胶液残留物影响后续涂胶晶圆质量问题,以及存在喷胶单件产品就自动清洗喷嘴的资源浪费和清洗成本高的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构,以解决上述背景技术中提到的技术问题。
为了实现上述目的,本实用新型公开了一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构,包括涂胶机架,所述涂胶机架内部的一端到另一端,依次设置有清洗箱和真空吸盘,位于所述涂胶机架内部的另一端且位于所述真空吸盘的下表面设置有电动设备箱,所述涂胶机架上端的正面活动连接有喷胶设备;所述喷胶设备的结构包括有压力喷箱,所述压力喷箱的正面和下表面分别固定连接有喷管,所述喷管的下表面活动连接有喷嘴,所述压力喷箱背面的底部固定连接有电动滑轨,所述压力喷箱靠近上表面的背面中部开设有螺纹连接孔,用于连接压力充液管道,通过压力作用将胶液及洗涤胶液的化学混合物液体注入,利用喷管和喷嘴进行涂胶和清洗。
可选地,所述喷嘴的结构包括有圆台喷头,所述圆台喷头的外壁均匀开设有若干摩擦槽,所述圆台喷头上表面环形的中部开设有管槽,所述圆台喷头上表面的外环侧面开设有一组卡扣槽,便于拆卸更换圆台喷头在喷管的底端。
可选地,所述清洗箱的结构包括有箱体和排水口活塞,所述箱体与所述排水口活塞活动相连,所述箱体的内部设置有电动毛刷件;所述电动毛刷件的结构包括有电动机箱,所述电动机箱上表面的中部开设有漏水孔,用于将清洗的液体漏到箱体的内部,所述电动机箱上表面的四周均设置有电动伸缩管,所述电动伸缩管的内壁中活动套接有毛刷杆,所述毛刷杆靠近顶端的侧面固定连接有若干塑料毛条,用于旋转和伸缩毛刷杆,甩动塑料毛条刷洗喷嘴内部的胶液。
可选地,所述真空吸盘的结构包括有吸附转盘,所述吸附转盘的下表面固定连接有齿轮,所述吸附转盘下表面的中心设置有真空腔,所述齿轮的侧面均啮合连接带有固定齿轮的电机;所述电动设备箱的结构包括有箱壳,用于设置真空吸附的机构和驱动电机高速旋转的感应器,所述箱壳的上表面开设有盘槽,用于在其内部安装吸附转盘。
可选地,所述喷嘴上表面的形状与所述喷管下表面的形状相互匹配,所述喷嘴上表面的内、外壁直径分别与所述喷管下表面的内、外壁直径相等,用于将喷嘴无缝隙的旋转卡接在喷管的底端,所述电动滑轨的形状和尺寸分别与所述电动滑槽的形状和尺寸相同,用于将电动滑轨连接在内部的电动滑槽中,经过滑动在框架的两端分别进行喷胶和清洗操作。
可选地,所述盘槽的直径比所述吸附转盘的直径大,用于齿轮在电机带动齿轮旋转时,所述吸附转盘能够在盘槽中高速无摩擦旋转,所述齿轮的直径比吸附转盘的直径大,用于相邻的齿轮进行啮合旋转,所述箱壳内部的深度比所述真空腔的高度大,用于在箱壳内部安装并存储真空腔。
可选地,所述电动毛刷件的长度和宽度分别比所述箱体内部的长度和宽度要大,但是所述电动毛刷件的长度和宽度分别比所述箱体外部的长度和宽度要小,用于在箱体内部安装并固定所述电动毛刷件的位置,所述喷管下表面的中心分别对应吸附转盘上表面的中心和毛刷杆上表面的中心,用于均匀喷涂晶圆表面的胶液,以及通过喷嘴下表面的中心穿入塑料毛条进行刷洗,所述电动伸缩管内壁的直径与所述毛刷杆的直径相等,用于在电动伸缩管中安装、更换毛刷杆对喷嘴进行胶液清洗,所述塑料毛条的长度与所述圆台喷头上表面的内壁半径相等,所述毛刷杆的直径比所述圆台喷头上表面的内壁直径小,用于能够穿过圆台喷头的腔内,利用毛刷杆旋转对其内壁进行刷洗去胶。
有益效果
与现有技术相比,本实用新型具有以下优点:
1、该半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构中,通过在涂胶机架上设置有清洗箱、真空吸盘和喷胶设备的结构,实现了半导体涂胶设备的涂胶工艺与涂胶结束后清洗喷嘴的一体成型设备,达到了涂胶和清洗结合一体的高效率,节省资源的效果。
2、该半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构中,通过在喷胶设备上设置有喷嘴的结构,以及在清洗箱上设置有电动毛刷件的结构,实现了涂胶喷嘴在清洗时更彻底、旋转塑料毛条清洗圆台喷头内腔胶液残留物更干净的功能,以及实现了在喷管上安装拆卸喷嘴更便捷功能,达到了喷嘴更换简单、清洗毛刷和泵压冲洗更干净的效果,以此提高后续涂胶晶圆的质量。
附图说明
图1为本实用新型的半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构侧面结构示意图。
图2为本实用新型的半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构正面结构示意图。
图3为本实用新型的半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构爆炸结构示意图。
图4为本实用新型的喷胶设备结构纵向剖面图。
图5为本实用新型的喷嘴结构示意图。
图6为本实用新型的电动毛刷件结构示意图。
附图标记为:1、涂胶机架;101、框架;102、驱动轮毂;103、;104、电动滑槽;2、清洗箱;201、箱体;202、排水口活塞;203、电动毛刷件;2031、电动机箱;2032、漏水孔;2033、电动伸缩管;2034、毛刷杆;2035、塑料毛条;3、真空吸盘;301、吸附转盘;302、齿轮;303、真空腔;304、电机;4、电动设备箱;401、箱壳;402、盘槽;5、喷胶设备;501、压力喷箱;502、喷管;503、喷嘴;5031、圆台喷头;5032、摩擦槽;5033、管槽;5034、卡扣槽;504、电动滑轨;505、螺纹连接孔。
具体实施方式
下面通过具体实施例进行详细阐述,说明本实用新型的技术方案。
参照图1-6所示,本实用新型公开了一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构结构,包括涂胶机架1,涂胶机架1内部的一端到另一端,依次设置有清洗箱2和真空吸盘3,位于涂胶机架1内部的另一端且位于真空吸盘3的下表面设置有电动设备箱4,涂胶机架1上端的正面活动连接有喷胶设备5;喷胶设备5的结构包括有压力喷箱501,压力喷箱501的正面和下表面分别固定连接有喷管502,喷管502的下表面活动连接有喷嘴503,压力喷箱501背面的底部固定连接有电动滑轨504,压力喷箱501靠近上表面的背面中部开设有螺纹连接孔505,用于连接压力充液管道,通过压力作用将胶液及洗涤胶液的化学混合物液体注入,利用喷管502和喷嘴503进行涂胶和清洗。
在一个优选的实施例中,喷嘴503的结构包括有圆台喷头5031,圆台喷头5031的外壁均匀开设有若干摩擦槽5032,用于增加摩擦力,圆台喷头5031上表面环形的中部开设有管槽5033,圆台喷头5031上表面的外环侧面开设有一组卡扣槽5034,便于拆卸更换圆台喷头5031在喷管502的底端。
在一个优选的实施例中,清洗箱2的结构包括有箱体201和排水口活塞202,箱体201与排水口活塞202活动相连,箱体201的内部设置有电动毛刷件203,用于上下伸缩给喷嘴503的内腔进行刷洗;电动毛刷件203的结构包括有电动机箱2031,电动机箱2031上表面的中部开设有漏水孔2032,用于将清洗的液体漏到箱体201的内部,电动机箱2031上表面的四周均设置有电动伸缩管2033,电动伸缩管2033的内壁中活动套接有毛刷杆2034,毛刷杆2034靠近顶端的侧面固定连接有若干塑料毛条2035,用于旋转和伸缩毛刷杆2034,甩动塑料毛条2035刷洗喷嘴503内部的胶液。
在一个优选的实施例中,真空吸盘3的结构包括有吸附转盘301,吸附转盘301的下表面固定连接有齿轮302,吸附转盘301下表面的中心设置有真空腔303,齿轮302的侧面均啮合连接带有固定齿轮的电机304;电动设备箱4的结构包括有箱壳401,用于设置真空吸附的机构和驱动电机304高速旋转的感应器,箱壳401的上表面开设有盘槽402,用于在其内部安装吸附转盘301,进行旋转涂胶。
在一个优选的实施例中,喷嘴503上表面的形状与喷管502下表面的形状相互匹配,喷嘴503上表面的内、外壁直径分别与喷管502下表面的内、外壁直径相等,用于将喷嘴503无缝隙的旋转卡接在喷管502的底端,在喷涂胶液时不会渗漏,电动滑轨504的形状和尺寸分别与电动滑槽104的形状和尺寸相同,用于将电动滑轨504连接在103内部的电动滑槽104中,经过滑动在框架101的两端分别进行喷胶和清洗操作,实现半导体涂胶和喷嘴清洗一体化的功能。
在一个优选的实施例中,盘槽402的直径比吸附转盘301的直径大,用于齿轮302在电机304带动齿轮302旋转时,吸附转盘301能够在盘槽402中高速无摩擦旋转,齿轮302的直径比吸附转盘301的直径大,用于相邻的齿轮302进行啮合旋转,箱壳401内部的深度比真空腔303的高度大,用于在箱壳401内部安装并存储真空腔303。
在一个优选的实施例中,电动毛刷件203的长度和宽度分别比箱体201内部的长度和宽度要大,但是电动毛刷件203的长度和宽度分别比箱体201外部的长度和宽度要小,用于在箱体201内部安装并固定电动毛刷件203的位置,喷管502下表面的中心分别对应吸附转盘301上表面的中心和毛刷杆2034上表面的中心,用于均匀喷涂晶圆表面的胶液,以及通过喷嘴503下表面的中心穿入塑料毛条2035进行刷洗,电动伸缩管2033内壁的直径与毛刷杆2034的直径相等,用于在电动伸缩管2033中安装、更换毛刷杆2034对喷嘴503进行胶液清洗,塑料毛条2035的长度与圆台喷头5031上表面的内壁半径相等,毛刷杆2034的直径比圆台喷头5031上表面的内壁直径小,用于能够穿过圆台喷头5031的腔内,利用毛刷杆2034旋转对其内壁进行刷洗去胶。
工作原理:工作人员先手推框架101随着驱动轮毂102移动到生产晶圆进行涂胶处理的工艺流程场所,首先将充满胶液的压力管道通过对齐螺纹连接孔505并拧紧安装在压力喷箱501上,将电动滑轨504从103上的电动滑槽104移动到靠近真空吸盘3的一端,使得喷嘴503对齐在吸附转盘301的中心,启动箱壳401内部的电机304,带动齿轮302相互啮合,并带动吸附转盘301在盘槽402内部进行旋转,使得胶液从箱壳401注入通过喷管502流到喷嘴503喷出胶液,经过吸附转盘301旋转带动上面吸附的晶圆进行均匀涂胶,利用其他机械手臂将涂胶的晶圆烘干并夹取、更换晶圆进行涂胶处理,当涂胶工艺结束后,将电动滑轨504从103上的电动滑槽104移动到靠近真空吸盘3的另一端,利用压力喷箱501的侧面抵住箱体201的内壁上,将喷嘴503底面的中心对齐电动毛刷件203上表面的毛刷杆2034,从压力喷箱501背面的螺纹连接孔505拧下压力注胶管,重新通过螺纹连接孔505接入溶解胶液清洗胶液的液体压力管,注入清洗液从压力喷箱501内部冲到喷管502,从喷嘴503中喷出,与此同时,启动电动机箱2031内部的电动伸缩管2033升起,使得毛刷杆2034从圆台喷头5031底部穿入,并旋转毛刷杆2034带动塑料毛条2035转动清洗冲刷圆台喷头5031的内腔,清洗的液体从圆台喷头5031底部喷出,透过漏水孔2032落下箱体201内部,清洗结束后,通过取下排水口活塞202,回收清洗液体进行处理,避免污染;最后当喷嘴503出现损坏时,则取出相同的喷嘴503,手动捏住圆台喷头5031上的摩擦槽5032,将管槽5033和卡扣槽5034对齐喷管502的底部,进行旋转套接即可进行更换。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用于限制实用新型,凡在本实用新型的设计构思之内所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构,其特征在于:包括涂胶机架(1),所述涂胶机架(1)内部的一端到另一端,依次设置有清洗箱(2)和真空吸盘(3),位于所述涂胶机架(1)内部的另一端且位于所述真空吸盘(3)的下表面设置有电动设备箱(4),所述涂胶机架(1)上端的正面活动连接有喷胶设备(5);所述喷胶设备(5)的结构包括有压力喷箱(501),所述压力喷箱(501)的正面和下表面分别固定连接有喷管(502),所述喷管(502)的下表面活动连接有喷嘴(503),所述压力喷箱(501)背面的底部固定连接有电动滑轨(504),所述压力喷箱(501)靠近上表面的背面中部开设有螺纹连接孔(505)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构,其特征在于:所述喷嘴(503)的结构包括有圆台喷头(5031),所述圆台喷头(5031)的外壁均匀开设有若干摩擦槽(5032),所述圆台喷头(5031)上表面环形的中部开设有管槽(5033),所述圆台喷头(5031)上表面的外环侧面开设有一组卡扣槽(5034)。
3.根据权利要求2所述的一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构,其特征在于:所述清洗箱(2)的结构包括有箱体(201)和排水口活塞(202),所述箱体(201)与所述排水口活塞(202)活动相连,所述箱体(201)的内部设置有电动毛刷件(203);所述电动毛刷件(203)的结构包括有电动机箱(2031),所述电动机箱(2031)上表面的中部开设有漏水孔(2032),所述电动机箱(2031)上表面的四周均设置有电动伸缩管(2033),所述电动伸缩管(2033)的内壁中活动套接有毛刷杆(2034),所述毛刷杆(2034)靠近顶端的侧面固定连接有若干塑料毛条(2035)。
4.根据权利要求3所述的一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构,其特征在于:所述真空吸盘(3)的结构包括有吸附转盘(301),所述吸附转盘(301)的下表面固定连接有齿轮(302),所述吸附转盘(301)下表面的中心设置有真空腔(303),所述齿轮(302)的侧面均啮合连接带有固定齿轮的电机(304);所述电动设备箱(4)的结构包括有箱壳(401),所述箱壳(401)的上表面开设有盘槽(402)。
5.根据权利要求4所述的一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构,其特征在于:所述喷嘴(503)上表面的形状与所述喷管(502)下表面的形状相互匹配,所述喷嘴(503)上表面的内、外壁直径分别与所述喷管(502)下表面的内、外壁直径相等,所述电动滑轨(504)的形状和尺寸分别与所述电动滑槽(104)的形状和尺寸相同。
6.根据权利要求4所述的一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构,其特征在于:所述盘槽(402)的直径比所述吸附转盘(301)的直径大,所述齿轮(302)的直径比吸附转盘(301)的直径大,所述箱壳(401)内部的深度比所述真空腔(303)的高度大。
7.根据权利要求4所述的一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构,其特征在于:所述电动毛刷件(203)的长度和宽度分别比所述箱体(201)内部的长度和宽度要大,但是所述电动毛刷件(203)的长度和宽度分别比所述箱体(201)外部的长度和宽度要小,所述喷管(502)下表面的中心分别对应吸附转盘(301)上表面的中心和毛刷杆(2034)上表面的中心,所述电动伸缩管(2033)内壁的直径与所述毛刷杆(2034)的直径相等,所述塑料毛条(2035)的长度与所述圆台喷头(5031)上表面的内壁半径相等,所述毛刷杆(2034)的直径比所述圆台喷头(5031)上表面的内壁直径小。
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