CN219568129U - 晶圆除杂输送装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了晶圆除杂输送装置，涉及晶圆技术领域。其技术方案要点是：包括炉体，炉体的一侧开设有进料口，炉体的一侧设有连通进料口的处理箱，处理箱内存在有输送物料的通道，处理箱内设有除杂组件，处理箱上固定连接有驱动件，驱动件用于驱动除杂组件沿处理箱高度方向做往复运动。本实用新型通过驱动件的设置，驱动件用于驱动除杂组件沿处理箱高度方向做往复运动，并对处理箱内的物料与杂物分离，提高炉体整体的提炼效率。

Description

晶圆除杂输送装置

技术领域

本实用新型涉及晶圆技术领域，更具体地说，它涉及晶圆除杂输送装置。

背景技术

晶圆是指作为硅半导体电路所用的硅晶片，其原材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片，也就是晶圆。

人们将物料与焦炭、煤炭或木屑等进行混合，并将混合物放入石墨电弧炉中进行高温加热。在高于1900℃的温度下，通过各种化学反应将石英砂还原成硅。

但是在日常加工中，物料在运输时，物料自身会与外界的杂质融合在一起，当把带有杂质了物料放入到电弧炉中加工，无法加速电弧炉的熔炼速率，其熔炼效果一般，容易出现提炼出来的晶圆不纯，且影响工作效率，因而设置一种结构来解决传统晶圆在加工过程中熔炼效果一般的问题就很有必要。

因此需要提出一种新的方案来解决这个问题。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供晶圆除杂输送装置，通过结构的设置达到提高炉体整体熔炼的目的。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：包括炉体，所述炉体的一侧开设有进料口，所述炉体的一侧设有连通进料口的处理箱，所述处理箱内存在有输送物料的通道，所述处理箱内设有除杂组件，所述处理箱上固定连接有驱动件，所述驱动件用于驱动除杂组件沿处理箱高度方向做往复运动。

本实用新型进一步设置为：所述驱动件包括转动辊以及固定连接在转动辊外周壁上的凸轮，所述凸轮用于驱动除杂组件沿处理箱内壁滑动。

本实用新型进一步设置为：所述除杂组件包括过滤板以及固定连接在过滤板侧壁上的滑块，所述处理箱上开设有供滑块滑动的滑槽。

本实用新型进一步设置为：所述过滤板上阵列分布有若干过滤孔。

本实用新型进一步设置为：所述过滤板的侧壁上固定连接有若干缓冲块，所述缓冲块的外周壁上套设有弹性件，所述弹性件用于驱动过滤板朝向处理箱顶面运动。

本实用新型进一步设置为：所述处理箱的内壁上固定连接有配合缓冲块的缓冲环，所述弹性件的一端固定连接在缓冲环的顶面，所述弹性件的另一端固定连接在缓冲块的外周壁上。

本实用新型进一步设置为：所述处理箱内设有斜板，所述斜板倾斜设置在处理箱的内壁上，所述斜板位于过滤板的正下方。

本实用新型进一步设置为：所述处理箱上开设有连通炉体进料口的入料口。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

炉体的一侧开设有进料口，炉体的一侧设有连通进料口的处理箱，处理箱内存在有输送物料的通道，处理箱内设有除杂组件，处理箱上固定连接有驱动件，驱动件用于驱动除杂组件沿处理箱高度方向做往复运动，并对过滤板上的物料与杂物分离，提高炉体整体的提炼效率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型中处理箱的剖视图；

图3为图2中A部的放大图；

图4为图3中B部的放大图。

图中：1、炉体；2、处理箱；3、转动辊；4、凸轮；5、滑块；6、滑槽；7、过滤孔；8、缓冲块；9、弹性件；10、缓冲环；11、斜板；12、过滤板。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型进行详细描述。

晶圆除杂输送装置，如图1和图2所示，包括炉体1、处理箱2、除杂组件以及驱动件，炉体1的一侧开设有供物料进入的进料口，处理箱2与进料口相连通，使得经过处理箱2的物料可直接传输到炉体1内，除杂组件安装在处理箱2内，驱动组件安装在处理箱2内。

如图1和图3所示，驱动件包括转动辊3以及固定连接在转动辊3外周壁上的凸轮4，当转动辊3发生转动时，转动辊3可驱动凸轮4与转动辊3一并转动，凸轮4用于驱动除杂组件沿处理箱2内壁滑动。

如图1和图3所示，除杂组件包括过滤板12以及固定连接在过滤板12侧壁上的滑块5，处理箱2上开设有供滑块5滑动的滑槽6，当过滤板12处于初始状态时，此时滑块5处于滑槽6的最底端，当转动辊3带动凸轮4发生转动时，凸轮4突出的部位靠近滑块5，并驱动滑块5沿滑槽6的长度方向滑动，使得滑块5推动过滤板12朝向处理箱2顶面运动，过滤板12上阵列分布有若干过滤孔7，过滤孔7用于对物料与杂物之间进行处理，将物料与杂物进行分离，达到提高整体的处理效果。

如图1和图4所示，过滤板12的侧壁上固定连接有若干缓冲块8，缓冲块8为铁质材料，缓冲块8呈圆柱形，缓冲块8的外周壁上套设有弹性件9，弹性件9为弹簧，处理箱2的内壁上固定连接有配合缓冲块8的缓冲环10，弹性件9的一端焊接在缓冲环10的顶面上，弹性件9的另一端焊接在缓冲块8的外周壁上，当过滤板12上放置物料时，此时过滤板12通过缓冲块8对弹性件9进行挤压，使得弹性件9发生弹性形变，此时驱动转动辊3并带动凸轮4发生转动，当凸轮4的突出的部分与滑块5接触，并驱动滑块5沿滑槽6内壁滑动时，弹性件9发生弹性形变驱动缓冲块8远离缓冲环10，达到对过滤板12起到缓冲的作用。

如图1、图2和图4所示，处理箱2内设有斜板11，斜板11倾斜设置在处理箱2的内壁上，斜板11位于过滤板12的正下方，当过滤板12将物料与杂物分离后，物料通过过滤板12上的过滤孔7流到斜板11上，避免物料堆积在处理箱2内，处理箱2上开设有连通炉体1进料口的入料口，将处理后的物料从处理箱2内传输到炉体1。

当对物料进行提炼时，将物料通过处理箱2放置到过滤板12上，此时物料通过自身重力将过滤板12沿着处理箱2高度方向滑动，缓冲块8与缓冲环10配合挤压弹性件9，使得弹性件9发生弹性形变，并驱动滑块5滑动到滑槽6最底端，此时转动辊3发生转动，使凸轮4的突出部与滑块5相抵触，并推动过滤板12沿处理箱2顶面滑动，弹性件9发生弹性形变驱动缓冲块8远离缓冲环10，达到对过滤板12起到缓冲的作用，并对过滤板12上的物料与杂物分离，提高炉体1整体的提炼效率。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (8)

1.晶圆除杂输送装置，包括炉体，其特征在于：所述炉体的一侧开设有进料口，所述炉体的一侧设有连通进料口的处理箱，所述处理箱内存在有输送物料的通道，所述处理箱内设有除杂组件，所述处理箱上固定连接有驱动件，所述驱动件用于驱动除杂组件沿处理箱高度方向做往复运动。

2.根据权利要求1所述的晶圆除杂输送装置，其特征在于：所述驱动件包括转动辊以及固定连接在转动辊外周壁上的凸轮，所述凸轮用于驱动除杂组件沿处理箱内壁滑动。

3.根据权利要求1所述的晶圆除杂输送装置，其特征在于：所述除杂组件包括过滤板以及固定连接在过滤板侧壁上的滑块，所述处理箱上开设有供滑块滑动的滑槽。

4.根据权利要求3所述的晶圆除杂输送装置，其特征在于：所述过滤板上阵列分布有若干过滤孔。

5.根据权利要求4所述的晶圆除杂输送装置，其特征在于：所述过滤板的侧壁上固定连接有若干缓冲块，所述缓冲块的外周壁上套设有弹性件，所述弹性件用于驱动过滤板朝向处理箱顶面运动。

6.根据权利要求5所述的晶圆除杂输送装置，其特征在于：所述处理箱的内壁上固定连接有配合缓冲块的缓冲环，所述弹性件的一端固定连接在缓冲环的顶面，所述弹性件的另一端固定连接在缓冲块的外周壁上。

7.根据权利要求6所述的晶圆除杂输送装置，其特征在于：所述处理箱内设有斜板，所述斜板倾斜设置在处理箱的内壁上，所述斜板位于过滤板的正下方。

8.根据权利要求1所述的晶圆除杂输送装置，其特征在于：所述处理箱上开设有连通炉体进料口的入料口。