CN219114850U - 一种靶材压印装置 - Google Patents
一种靶材压印装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN219114850U CN219114850U CN202223484447.XU CN202223484447U CN219114850U CN 219114850 U CN219114850 U CN 219114850U CN 202223484447 U CN202223484447 U CN 202223484447U CN 219114850 U CN219114850 U CN 219114850U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- racks
- target
- gears
- imprinting
- utility
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000004049 embossing Methods 0.000 claims description 6
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Shaping Metal By Deep-Drawing, Or The Like (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种靶材压印装置,包括操作台,所述操作台上设有传送机构,所述传送机构包括传送台,所述传送台的两侧均设有第一齿条,所述操作台的内部两侧均设有第一齿轮,所述操作台内设有两个相同的伺服电机,两个所述伺服电机由同一个控制器进行控制,两个所述伺服电机分别与第一齿轮连接,两个所述第一齿轮分别与两个第一齿条相啮合,所述操作台上还设有压印机构;本实用新型结构简单,设计新颖,使压印过程实现自动化。
Description
技术领域
本实用新型涉及靶材压印技术领域,具体为一种靶材压印装置。
背景技术
靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源,通过薄膜沉积设备使用高能的粒子轰击靶材然后在硅片上形成特定功能的金属层,例如导电层,阻挡层等。
靶材在制作工程中需要进行压印,将较厚的靶材原件压薄,在压印过程中改变微观组织结构,改变原件内晶体排列方式,使晶向更适宜做后续的半导体材料,但目前的压印工序全程由操作人员手动进行,需要使用工具将靶材推入压印滚筒下,再拿出,此过程还需反复多次,费时费力,效率低下。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种靶材压印装置,以解决上述背景技术中提出的问题。为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种靶材压印装置,包括操作台,所述操作台上设有传送机构,所述传送机构包括传送台,所述传送台的两侧均设有第一齿条,所述操作台的内部两侧均设有第一齿轮,所述操作台内设有两个相同的伺服电机,两个所述伺服电机由同一个控制器进行控制,两个所述伺服电机分别与第一齿轮连接,两个所述第一齿轮分别与两个第一齿条相啮合,所述操作台上还设有压印机构。
优选的,所述压印机构包括压印滚筒,所述压印滚筒内设有旋转轴,所述旋转轴连接至旋转电机,所述旋转轴两端均设有液压杆,所述液压杆通过数控驱动控制。
优选的,所述传送台的两侧设有多个第二齿轮,所述操作台内侧设有多个第二齿条,所述第二齿轮与第二齿条相啮合。
优选的,所述传送台与压印滚筒上均设有一层防滑垫。
优选的,所述操作台内侧的两端均设有防撞垫。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单,设计新颖,利用合理的机械结构,巧妙发挥各要素内在潜力,使压印过程实现自动化,通过传送机构的往复移动,使需要压印的靶材反复经过压印机构,省去了人工放入、拿出的工序,节省时间及人力,提高靶材制造效率。
附图说明
图1为本实用新型整体结构示意图;
图2为本实用新型传送机构俯视图;
图3为本实用新型中操作台内部结构示意图;
图4为本实用新型中传送机构侧视图;
图5为本实用新型中操作台内部侧视图;
图6为本实用新型中压印机构结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1,本实用新型提供一种技术方案:一种靶材压印装置,包括操作台1,所述操作台1上设有传送机构2,所述传送机构2包括传送台21,所述传送台21的两侧均设有第一齿条22,所述操作台1的内部两侧均设有第一齿轮11,所述操作台1内设有两个相同的伺服电机12,两个所述伺服电机12由同一个控制器13进行控制,所述控制器13可同步控制两个伺服电机12进行正转及反转,两个所述伺服电机12分别与第一齿轮11连接,两个所述第一齿轮11分别与两个第一齿条22相啮合,由伺服电机12带动第一齿轮11进行旋转,从而带动传送台21进行往复运动,所述操作台1上还设有压印机构3。
本实施例中,所述压印机构3包括压印滚筒31,所述压印滚筒31内设有旋转轴32,所述旋转轴32连接至旋转电机33,所述旋转轴32两端均设有液压杆34,所述液压杆34通过数控驱动控制,在压印过程中压印滚筒31通过液压杆34的伸长逐步下降,靶材每经过一次压印滚筒31,压印滚筒31就下降一点,其下降高度由数控驱动控制。
本实施例中,所述传送台21的两侧设有多个第二齿轮23,所述操作台1内侧设有多个第二齿条14,所述第二齿轮23与第二齿条14相啮合,通过所述第二齿轮23与第二齿条14使整个传送台21受力均匀。
本实施例中,所述传送台21与压印滚筒31上均设有一层防滑垫,所述防滑垫用于增大靶材与传送台21、压印滚筒31之间的摩擦力,使靶材在压印过程中保持稳定。
本实施例中,所述操作台1内侧的两端均设有防撞垫15,所述防撞垫15可避免传送台21在运动过程中撞击到操作台1的内侧。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (5)
1.一种靶材压印装置,包括操作台(1),所述操作台(1)上设有传送机构(2),其特征在于:所述传送机构(2)包括传送台(21),所述传送台(21)的两侧均设有第一齿条(22),所述操作台(1)的内部两侧均设有第一齿轮(11),所述操作台(1)内设有两个相同的伺服电机(12),两个所述伺服电机(12)由同一个控制器(13)进行控制,两个所述伺服电机(12)分别与第一齿轮(11)连接,两个所述第一齿轮(11)分别与两个第一齿条(22)相啮合,所述操作台(1)上还设有压印机构(3)。
2.根据权利要求1所述的一种靶材压印装置,其特征在于:所述压印机构(3)包括压印滚筒(31),所述压印滚筒(31)内设有旋转轴(32),所述旋转轴(32)连接至旋转电机(33),所述旋转轴(32)两端均设有液压杆(34),所述液压杆(34)通过数控驱动控制。
3.根据权利要求1所述的一种靶材压印装置,其特征在于:所述传送台(21)的两侧设有多个第二齿轮(23),所述操作台(1)内侧设有多个第二齿条(14),所述第二齿轮(23)与第二齿条(14)相啮合。
4.根据权利要求1所述的一种靶材压印装置,其特征在于:所述传送台(21)与压印滚筒(31)上均设有一层防滑垫。
5.根据权利要求1所述的一种靶材压印装置,其特征在于:所述操作台(1)内侧的两端均设有防撞垫(15)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202223484447.XU CN219114850U (zh) | 2022-12-27 | 2022-12-27 | 一种靶材压印装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202223484447.XU CN219114850U (zh) | 2022-12-27 | 2022-12-27 | 一种靶材压印装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN219114850U true CN219114850U (zh) | 2023-06-02 |
Family
ID=86522634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202223484447.XU Active CN219114850U (zh) | 2022-12-27 | 2022-12-27 | 一种靶材压印装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN219114850U (zh) |
-
2022
- 2022-12-27 CN CN202223484447.XU patent/CN219114850U/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2711817A (en) | Mechanical loader and unloader for production machines | |
JP2020161509A (ja) | ウェハ取り出し分離装置及び方法 | |
CN105986229B (zh) | 一种均匀性的多弧离子镀膜设备 | |
CN110394415A (zh) | 一种轴承环锻压坯料搬运机器人 | |
WO2023082385A1 (zh) | 一种智能联动盖成型机 | |
CN219114850U (zh) | 一种靶材压印装置 | |
CN105107903A (zh) | 一种电梯门封头的自动翻边生产线及生产方法 | |
CN104722672A (zh) | 一种板件冲压送料装置 | |
CN108950497B (zh) | 一种基于辉光放电原理将金属沉积在塑胶基材表面的镀膜系统 | |
JPH07256533A (ja) | 高精密部品の加工組立装置 | |
CN215628276U (zh) | 管道传输连续式真空镀膜生产线防尘装置 | |
CN216510798U (zh) | 一种方便定位的面膜上料装置 | |
CN105530759A (zh) | 一种用于fpc的pi补强板自动冲贴设备 | |
CN209708956U (zh) | 一种翻转变距机构 | |
CN105880744B (zh) | 一种自转公转产生摆线弧的方法及加工摆线弧的装置 | |
CN212923323U (zh) | 一种机械加工用旋转式机械手 | |
US6405430B1 (en) | Workpiece moving methods | |
CN108642455B (zh) | 真空镀膜样品台 | |
US5907902A (en) | Belt-feed trim and form method | |
CN212018287U (zh) | 一种基材板双面喷涂机构 | |
CN213172549U (zh) | 多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机 | |
CN100540236C (zh) | 具有分时抓放功能的多物件操作型机械手 | |
CN220413582U (zh) | 电池片电镀装置 | |
CN216917733U (zh) | 移料装置与加工设备 | |
CN219928332U (zh) | 一种多工位掩膜版暂存装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CP03 | Change of name, title or address |
Address after: No. 88, Yanghai Line, Shizong Town, Tongzhou District, Nantong City, Jiangsu Province, 226000 Patentee after: Jiangsu Haitai Optoelectronic Materials Technology Co.,Ltd. Country or region after: China Address before: No. 88, Yanghai Line, Shizong Town, Tongzhou District, Nantong City, Jiangsu Province, 226000 Patentee before: Jiangsu Haitai photoelectric material technology Co.,Ltd. Country or region before: China |