CN218833615U - 氯乙酸滚筒式结晶装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型提供一种氯乙酸滚筒式结晶装置,属于氯乙酸结晶加工设备技术领域,包括壳体总成,壳体总成包括上壳体以及设于上壳体下方且与上壳体密封连接的下壳体,上壳体的顶端设有粉尘出口,上壳体与下壳体之间形成的空腔内设有结晶滚筒,壳体总成外设有驱动结晶滚筒转动的动力结构,结晶滚筒内设有水冷结构;结晶滚筒的底面与下壳体内底面之间形成有蘸料腔,下壳体外设有与蘸料腔连通的加料管;下壳体的一侧设有出料通道,出料通道的下端口连通设有绞龙出料机构,出料通道的上端口处设有用于将结晶滚筒表面的结晶物料铲下的刮刀组件;本实用新型可以通过密封形式提高氯乙酸的洁净度,降低生产成本,改善工作环境和劳动强度。

Description

氯乙酸滚筒式结晶装置
技术领域
本实用新型涉及氯乙酸结晶加工设备技术领域,具体涉及一种氯乙酸滚筒式结晶装置。
背景技术
现有氯乙酸结片设备采用钢带式结片机组,钢带式结片机组主要有轮毂和驱动装置、钢带和纠偏装置、喷淋冷却水系统、刮刀、破碎机、布料器组成。工艺流程如下,两只轮毂转动时带动钢带缓慢旋转,75℃氯乙酸液体进入布料器,布料器内的氯乙酸溢流至钢带上,钢带底面喷淋8℃冷却水,氯乙酸液体在钢带上逐渐冷却结晶成常温固体薄片,氯乙酸薄片运行至下料侧的刮刀时,被刮刀刮落至粉碎机内破碎,氯乙酸碎片落入料仓后,按需求包装成吨包或小包。
现有氯乙酸结片工艺的缺点主要有以下几点,一是,氯乙酸洁净度低,钢带中部上方覆盖塑料罩壳,钢带两侧外露环境中,属于半开方式生产工艺,物料与环境中空气接触,潮气和灰尘易带入产品中;二是,冷却水水质差,影响换热效率,钢带厚度1mm,使用半年后钢带表面会腐蚀形成针型小孔,导致酸性物料进入钢带底部的冷却水中,进而腐蚀冷却水管路和制冷设备,腐蚀产生的金属盐,极易堵塞冷却水喷头和管路,导致换热效率下降,物料冷却不下来,堵塞下料管路;三是,设备维护成本高,占地面积大。钢带冷却设备宽1.7米,长度21米,占地面积35.7㎡,钢带厚度1mm,使用寿命仅有1.5年,钢带价格约为30万/条,维护费用高;四是,操作环境差,劳动强度大。由于结晶过程未实现全密封,操作现场氯乙酸气味较大,易形成职业病;钢带腐蚀后氯乙酸在钢带上粘接力增大,物料不宜刮落,当钢带上物料旋转至向地面时,易成片脱落至地面,需要人工收集;夏季物料吸湿严重频繁堵塞下料管道和料仓,疏通工作劳动强度大,风险因素高,而且易造成人员灼伤。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型提供一种氯乙酸滚筒式结晶装置,通过密封形式提高氯乙酸的洁净度,降低生产成本,改善工作环境和劳动强度。
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种氯乙酸滚筒式结晶装置,包括壳体总成,所述壳体总成包括上壳体以及设于上壳体下方且与上壳体密封连接的下壳体,所述上壳体的顶端设有粉尘出口,所述上壳体与下壳体之间形成的空腔内设有结晶滚筒,所述壳体总成外设有驱动结晶滚筒转动的动力结构,所述结晶滚筒内设有水冷结构;所述结晶滚筒的底面与下壳体内底面之间形成有蘸料腔,所述下壳体外设有与蘸料腔连通的加料管;所述下壳体的一侧设有出料通道,所述出料通道的下端口连通设有绞龙出料机构,所述出料通道的上端口处设有用于将结晶滚筒表面的结晶物料铲下的刮刀组件。
优选的,所述刮刀组件包括通过刮刀支架支撑的刮刀,所述刮刀支架包括刀板架,所述刮刀可拆卸固定于刀板架的一端,所述刀板架的另一端设有轴套,所述下壳体内沿结晶滚筒的轴向设有支撑轴,所述轴套固定套放于支撑轴上,所述刮刀的顶端抵在结晶滚筒的表面。
优选的,所述支撑轴的两端伸出下壳体外且通过轴承转动支撑,所述支撑轴的端部设有带动支撑轴旋转调节的旋转气缸。
优选的,所述上壳体的两端对应刮料侧设有用于将结晶滚筒两端的结晶物料铲下的侧刮刀结构,所述刀板架上设有分布于刮刀两侧的导料板。
优选的,所述侧刮刀结构包括竖刮刀以及带动竖刮刀移动实现调节竖刮刀与结晶滚筒端面之间间隙的丝杠组件。
优选的,所述动力结构包括设于结晶滚筒两端的转轴,所述转轴的两端伸出壳体总成外且通过固定于壳体总成上的轴承转动支撑,所述壳体总成外一端设有驱动转轴转动的第一电机。
优选的,所述水冷结构包括设于结晶滚筒内壁的螺旋状冷水管道,所述转轴为中空结构且两个转轴分别与冷水管道的两端连通,所述结晶滚筒一端的转轴的自由端通过转动配合设有冷却水进水管口,所述结晶滚筒另一端转轴的自由端通过转动配合有冷却水出水管口。
优选的,所述下壳体内底部支撑设有弧形蘸料盘,所述蘸料腔形成于结晶滚筒的底面与蘸料盘之间。
优选的,所述蘸料腔的一侧设有液位计。
优选的,所述绞龙出料机构包括与出料通道的下端口连通的输料通道,所述输料通道内设有输料绞龙,所述输料通道外一端设有驱动输料绞龙的第二电机,所述输料通道的一端底面设有出料管口。
优选的,所述上壳体的一侧设有观察窗,所述壳体总成内设有监控摄像头。
本实用新型的上述技术方案的有益效果如下:
1、本实用新型,整体采用密封式结构实现结晶加工处理,提高产品的洁净度,杜绝物料吸湿现象,提高产品质量,同时改善工作环境。
2、本实用新型中,采用长形的大单刀刮刀,并通过旋转气缸转动带动调节刮刀与结晶滚筒之间的间隙,通过旋转气缸的气动调节方式,实现刮刀与结晶滚筒表面压力可控,有效保证结晶滚筒的运行,降低设备的维修成本。
3、本实用新型中,通过结晶薄片的厚度具体可以通过调节蘸料盘内液位以及结晶滚筒的转速实现控制,产能通过结晶滚筒转速和冷却水量调节实现控制,壳体总成内加装视频监控,提高自动化生产管理,降低员工的劳动强度。
附图说明
图1为本实用新型氯乙酸滚筒式结晶装置的正式透视图;
图2为本实用新型氯乙酸滚筒式结晶装置的左视透视图;
图3为图2中区域A的局部放大图;
图4为本实用新型氯乙酸滚筒式结晶装置的右视透视图;
图5为本实用新型中结晶滚筒内冷水管道的部分结构示意图;
图6为本实用新型侧刮刀结构的侧视图。
1、壳体总成;11、上壳体;111、粉尘出口;112、观察窗;12、下壳体;121、出料通道;
2、结晶滚筒;21、转轴;22、第一电机;
3、水冷结构;31、冷水管道;32、冷却水进水管口;33、冷却水出水管口;
4、绞龙出料机构;41、输料通道;42、输料绞龙;43、第二电机;
5、刮刀组件;51、刮刀;52、刀板架;53、轴套;54、支撑轴;55、旋转气缸;56、导料板;
6、蘸料腔;60、蘸料盘;61、加料管;62、液位计;
7、侧刮刀结构;71、竖刮刀;72、移动架;73、螺纹套;74、丝杠;75、调节手轮。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例的附图1-6,对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本实用新型的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
如图1-5所示:一种氯乙酸滚筒式结晶装置,包括壳体总成1,所述壳体总成1包括上壳体11以及设于上壳体11下方且与上壳体11密封连接的下壳体12,所述上壳体11的顶端设有粉尘出口111,所述上壳体11与下壳体12之间形成的空腔内设有结晶滚筒2,所述壳体总成1外设有驱动结晶滚筒2转动的动力结构,所述结晶滚筒2内设有水冷结构3;所述结晶滚筒2的底面与下壳体12内底面之间形成有蘸料腔6,所述下壳体12外设有与蘸料腔6连通的加料管61;所述下壳体12的一侧设有出料通道121,所述出料通道121的下端口连通设有绞龙出料机构4,所述出料通道121的上端口处设有用于将结晶滚筒2表面的结晶物料铲下的刮刀组件5。
其中,结晶滚筒2选用直径2m,长度3.6m的规格,设备整体长6.6m,宽2.6m,占地面积为17.16平方米,结晶滚筒2与物料接触部分采用钛材,耐氯乙酸腐蚀性强。
整体加工方式采用密封式,壳体总成1内产生的粉尘经粉尘出口111由风机抽出,集中回收处理,有效改善工作环境。
其中,所述动力结构包括设于结晶滚筒2两端的转轴21,所述转轴21的两端伸出壳体总成1外且通过固定于壳体总成1上的轴承转动支撑,所述壳体总成1外一端设有驱动转轴21转动的第一电机22。
如图1所示,通过第一电机22传动驱动结晶滚筒2转动,结晶滚筒2的底部浸没在蘸料腔6内,随着结晶滚筒2的转动,物料持续在结晶滚筒2表面结晶,物料结晶释放的热量被结晶滚筒2内的水冷结构3带走,结晶滚筒2表面的结晶薄片由刮刀51刮落,壳体总成1内产生的粉尘由粉尘出口111处被风机抽走进行回收处理。
其中,所述水冷结构3包括设于结晶滚筒2内壁的螺旋状冷水管道31,所述转轴21为中空结构且两个转轴21分别与冷水管道31的两端连通,所述结晶滚筒2一端的转轴21的自由端通过转动配合设有冷却水进水管口32,所述结晶滚筒2另一端转轴21的自由端通过转动配合有冷却水出水管口33。
冷却水由冷却水进水管口32进入并经过螺旋状冷水管道31后经冷却水出水管口33排出,实现带走物料结晶释放的热量。
其中,所述下壳体12内底部支撑设有弧形蘸料盘60,所述蘸料腔6形成于结晶滚筒2的底面与蘸料盘60之间。
其中,所述蘸料腔6的一侧设有液位计62。
物料加入到蘸料盘60,通过液位计62观测物料液面深度,避免发生溢流情况。
其中,所述绞龙出料机构4包括与出料通道121的下端口连通的输料通道41,所述输料通道41内设有输料绞龙42,所述输料通道41外一端设有驱动输料绞龙42的第二电机43,所述输料通道41的一端底面设有出料管口。
通过绞龙出料机构4将铲落的结晶薄片输送出,进行打包处理。
其中,所述上壳体11的一侧设有观察窗112,所述壳体总成1内设有监控摄像头。
在壳体总成1内壁进料侧以及铲料侧安装监控摄像头,实现远程监控,
在本实用新型的另一个实施例中,如图2、3、6所示,
其中,所述刮刀组件5包括通过刮刀支架支撑的刮刀51,所述刮刀支架包括刀板架52,所述刮刀51可拆卸固定于刀板架52的一端,所述刀板架52的另一端设有轴套53,所述下壳体12内沿结晶滚筒2的轴向设有支撑轴54,所述轴套53固定套放于支撑轴54上,所述刮刀51的顶端抵在结晶滚筒2的表面。
其中,所述支撑轴54的两端伸出下壳体12外且通过轴承转动支撑,所述支撑轴54的端部设有带动支撑轴54旋转调节的旋转气缸55。
采用长形的大单刀刮刀51,并通过旋转气缸55转动带动调节刮刀51与结晶滚筒2之间的间隙。间隙过大,刮刀51不易刮落结晶滚筒2表面的结晶,间隙过小,或刮刀51压迫结晶滚筒2的压力太大时,支撑结晶滚筒2的转轴容易损坏,通过旋转气缸55的气动调节方式,实现刮刀51与结晶滚筒2表面压力可控,有效保证结晶滚筒2的运行。
其中,所述上壳体11的两端对应刮料侧设有用于将结晶滚筒2两端的结晶物料铲下的侧刮刀结构7,所述刀板架52上设有分布于刮刀51两侧的导料板56。
其中,所述侧刮刀结构7包括竖刮刀71以及带动竖刮刀71移动实现调节竖刮刀71与2端面之间间隙的丝杠组件。
丝杠组件包括固定支撑竖刮刀71的移动架72,上壳体11壳壁设有处于移动架72上下侧的限位板,丝杠74一端与移动架72转动连接,另一端伸出上壳体11外且设有调节手轮75,丝杠74贯穿固定于上壳体11上的螺纹套73。
具体调节时,通过转动丝杠74,带动移动架72以及竖刮刀71在结晶滚筒2的轴向方向移动,进而实现调节竖刮刀71与结晶滚筒2端面之间的间隙。
结晶滚筒2转动的过程中,两端侧面的结晶物料经竖刮刀71呈片状刮下,通过导料板56的作用使得铲落的结晶薄片直接导落入绞龙出料机构4并输送出去,竖刮刀71刮落结晶物料的过程中,可以避免摩擦产生的噪音和机组的震动,提高设备运行的稳定性。
本实用新型的工作方法:具体设备运行时,75℃的物料经由加料管61加入到蘸料盘60内,即处于蘸料腔6内,结晶滚筒2底部浸没在蘸料腔6内,随着结晶滚筒2的转动,物料持续在结晶滚筒2表面结晶,物料结晶释放的热量被结晶滚筒2内的水冷结构3带走,结晶滚筒2表面的结晶薄片由刮刀51刮落,结晶滚筒2两端侧面的结晶物料经竖刮刀71呈片状刮下,通过导料板56的作用使得铲落的结晶薄片直接导落入绞龙出料机构4并输送出去,壳体总成1内产生的粉尘由粉尘出口111处被风机抽走进行回收处理。
结晶薄片的厚度具体可以通过调节蘸料盘60内液位以及结晶滚筒2的转速实现控制。结晶滚筒2浸入液面越深,结晶滚筒2转速越慢,结晶薄片就越厚。液位设置至100mm,结片厚度增长到1.0~1.5mm厚。
产能的控制,通过结晶滚筒2转速和冷却水量调节,可以调节结片机产能,结晶滚筒2转速越快,冷却水流量越大,产能就越高。但是,结晶滚筒2转速越快就会导致刮刀磨损越快,同时结晶薄片越薄,刮刀不宜刮落,结晶滚筒2上就容易形成多层料,导致外层物料不能完全冷却,在进料侧脱落堆积,时间长了易阻碍结晶滚筒2转动,而下料侧物料容易粘附在绞龙内部,导致绞龙异常振动,后摸索经验,控制结晶滚筒2转速在6Hz,产能1.5m³/h时,刮刀磨损较轻,产能稳定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定,对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
以上所述是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型所述原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.氯乙酸滚筒式结晶装置,其特征在于:包括壳体总成(1),所述壳体总成(1)包括上壳体(11)以及设于上壳体(11)下方且与上壳体(11)密封连接的下壳体(12),所述上壳体(11)的顶端设有粉尘出口(111),所述上壳体(11)与下壳体(12)之间形成的空腔内设有结晶滚筒(2),所述壳体总成(1)外设有驱动结晶滚筒(2)转动的动力结构,所述结晶滚筒(2)内设有水冷结构(3);
所述结晶滚筒(2)的底面与下壳体(12)内底面之间形成有蘸料腔(6),所述下壳体(12)外设有与蘸料腔(6)连通的加料管(61);
所述下壳体(12)的一侧设有出料通道(121),所述出料通道(121)的下端口连通设有绞龙出料机构(4),所述出料通道(121)的上端口处设有用于将结晶滚筒(2)表面的结晶物料铲下的刮刀组件(5)。
2.如权利要求1所述的氯乙酸滚筒式结晶装置,其特征在于:所述刮刀组件(5)包括通过刮刀支架支撑的刮刀(51),所述刮刀支架包括刀板架(52),所述刮刀(51)可拆卸固定于刀板架(52)的一端,所述刀板架(52)的另一端设有轴套(53),所述下壳体(12)内沿结晶滚筒(2)的轴向设有支撑轴(54),所述轴套(53)固定套放于支撑轴(54)上,所述刮刀(51)的顶端抵在结晶滚筒(2)的表面。
3.如权利要求2所述的氯乙酸滚筒式结晶装置,其特征在于:所述支撑轴(54)的两端伸出下壳体(12)外且通过轴承转动支撑,所述支撑轴(54)的端部设有带动支撑轴(54)旋转调节的旋转气缸(55)。
4.如权利要求2所述的氯乙酸滚筒式结晶装置,其特征在于:所述上壳体(11)的两端对应刮料侧设有用于将结晶滚筒(2)两端的结晶物料铲下的侧刮刀结构(7),所述刀板架(52)上设有分布于刮刀(51)两侧的导料板(56)。
5.如权利要求4所述的氯乙酸滚筒式结晶装置,其特征在于:所述侧刮刀结构(7)包括竖刮刀(71)以及带动竖刮刀(71)移动实现调节竖刮刀(71)与结晶滚筒(2)端面之间间隙的丝杠组件。
6.如权利要求1所述的氯乙酸滚筒式结晶装置,其特征在于:所述动力结构包括设于结晶滚筒(2)两端的转轴(21),所述转轴(21)的两端伸出壳体总成(1)外且通过固定于壳体总成(1)上的轴承转动支撑,所述壳体总成(1)外一端设有驱动转轴(21)转动的第一电机(22)。
7.如权利要求6所述的氯乙酸滚筒式结晶装置,其特征在于:所述水冷结构(3)包括设于结晶滚筒(2)内壁的螺旋状冷水管道(31),所述转轴(21)为中空结构且两个转轴(21)分别与冷水管道(31)的两端连通,所述结晶滚筒(2)一端的转轴(21)的自由端通过转动配合设有冷却水进水管口(32),所述结晶滚筒(2)另一端转轴(21)的自由端通过转动配合有冷却水出水管口(33)。
8.如权利要求1所述的氯乙酸滚筒式结晶装置,其特征在于:所述下壳体(12)内底部支撑设有弧形蘸料盘(60),所述蘸料腔(6)形成于结晶滚筒(2)的底面与蘸料盘(60)之间;
所述蘸料腔(6)的一侧设有液位计(62)。
9.如权利要求1所述的氯乙酸滚筒式结晶装置,其特征在于:所述绞龙出料机构(4)包括与出料通道(121)的下端口连通的输料通道(41),所述输料通道(41)内设有输料绞龙(42),所述输料通道(41)外一端设有驱动输料绞龙(42)的第二电机(43),所述输料通道(41)的一端底面设有出料管口。
10.如权利要求1所述的氯乙酸滚筒式结晶装置,其特征在于:所述上壳体(11)的一侧设有观察窗(112),所述壳体总成(1)内设有监控摄像头。
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