CN218262730U - 一种带材真空等离子体镀膜装置的改进结构 - Google Patents

Abstract

一种带材真空等离子体镀膜装置的改进结构，包括真空镀膜室、设置在真空镀膜室内侧壁上的阴极靶发生装置、设置在真空镀膜室内的收卷装置和放卷装置，其特征在于，真空镀膜室的左右侧壁是半圆形侧壁，阴极靶发生装置分布在左右半圆形侧壁上，收卷装置和放卷装置的转动轴线分别与左右半圆形侧壁的圆心重合。本实用新型与已有技术相比，具有能充分利用靶材的，结构简单、制造成本低、使用方便的优点。

Description

一种带材真空等离子体镀膜装置的改进结构

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜技术，特别是带材真空等离子体镀膜装置的改进结构。

背景技术

如专利CN201720479833.X所公开的，现有的带材真空等离子体镀膜技术是在圆形结构或椭圆形结构的连续式镀膜室内设置放卷装置、收卷装置，过滤阴极靶发生装置位于连续式镀膜室侧壁上，此种带材真空等离子体镀膜装置，受圆形结构或椭圆形结构的连续式镀膜室的结构所决定，在圆形结构或椭圆形结构的连续式镀膜室内所设置的放卷装置、收卷装置的转动圆心不可能位于圆形结构或椭圆形结构的连续式镀膜室的圆心上的，为了保证过滤阴极靶发生装置所生产的电离子溅射镀膜材料均匀地散落到带材，上述专利技术采用了设置在连续式镀膜室侧壁上的滚轴支撑架和若干导带辊，滚轴支撑架位于放卷装置和收卷装置下方，导带辊为偏压电源输入导带辊，采用导带辊，使导带辊布设的带材与过滤阴极靶发生装置之间的距离相同，从而保证雾状靶材均匀地散落到带材上。这种技术，由于导带辊是非常靠近连续式镀膜室内的过滤阴极靶发生装置的，过滤阴极靶发生装置发送电离子溅射材料时，电离子溅射材料需要喷出一定距离后，电离子溅射材料才能充分散开，使大颗电离子溅射材料降落并从其他电离子溅射材料中分离出来，不会落入带材上，而上述技术由于带材离过滤阴极靶发生装置近，为了避免大颗粒电离子溅射材料降落入带材上，因此，采用了过滤阴极靶发生装置，虽然有效地将大颗粒电离子溅射材料过滤，保证了镀膜的质量，但是，由于过滤是在靶材开始电离子溅射时进行，因此，会将一部分小颗粒电离子溅射材料过滤掉，从而造成浪费；而且，采用导带辊，操作困难，使用起来很不方便，设备结构复杂，制造成本高。

发明内容

本实用新型的发明目的在于提供一种能充分利用靶材的，结构简单、制造成本低、使用方便的带材真空等离子体镀膜装置的改进结构。

本实用新型带材真空等离子体镀膜装置的改进结构是这样实现的，包括真空镀膜室、设置在真空镀膜室内侧壁上的阴极靶发生装置、设置在真空镀膜室内的收卷装置和放卷装置，其特别之处在于真空镀膜室的左右侧壁是半圆形侧壁，阴极靶发生装置分布在左右半圆形侧壁上，收卷装置和放卷装置的转动轴线分别与左右半圆形侧壁的圆心重合。

对金属带卷进行镀膜时，先将金属带卷绕在放卷装置的卷辊上，将放卷装置的卷辊上的金属带引到收卷装置的卷辊上，然后，关闭镀膜室，抽真空，通入工艺气体，启动阴极靶弧电源，启动动力，动力通过轴带动收卷装置的卷辊转动，在阴极靶电弧的作用下，阴极靶材以带电的电离子溅射材料喷出，此时，由于金属带板通过收卷装置和放卷装置接地，因此，其电位高于阴极靶，这样，喷出的电离子溅射材料吸附在收卷装置和放卷装置间展开的金属带板上，随着收卷装置的匀速收卷，持续喷出的电离子溅射材料均匀地镀在展开的金属带板上，从而完成带材真空等离子体连续镀膜过程。由于收卷装置和放卷装置的转动轴线分别与左右半圆形侧壁的圆心重合且阴极靶发生装置分布在左右半圆形侧壁上，这样，电离子溅射材料到带材的距离是相同的，而且，通过控制收卷装置和放卷装置到阴极靶发生装置的距离，使电离子溅射材料中的大颗粒部分从其他部分分离，这样，既能充分利用靶材，同时，带材能获得均匀的镀膜材料。由于不需要导带辊，因此，结构简单，制造成本低，由于不需要将带材绕过导带辊，因此，将放卷装置的卷辊上的金属带引到收卷装置的卷辊上的工作可以在镀膜室外进行，操作方便。

优选地，为了保证阴极靶发生装置所生产的电离子溅射材料均匀落入带材上，分布在左右半圆形侧壁上的阴极靶发生装置有数排，每排由数套阴极靶发生装置构成，数排阴极靶发生装置由上往下沿半圆形侧壁水平分布，上下相邻两排的阴极靶发生装置上下错开设置。

本实用新型与已有技术相比，具有能充分利用靶材的，结构简单、制造成本低、使用方便的优点。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为图1A向视图。

具体实施方式

现结合附图和实施例对本实用新型做进一步详细描述：

如图1、2所示，本实用新型带材真空等离子体镀膜装置的改进结构是这样实现的，包括带有密封门104的真空镀膜室1、设置在真空镀膜室1内侧壁上的阴极靶发生装置2、设置在真空镀膜室1内的收卷装置3和放卷装置4、设置在真空镀膜室1内的加热装置5、与真空镀膜室1相连的抽真空装置6、设置在真空镀膜室1内的进出气体装置7，其特别之处在于真空镀膜室1的左右侧壁101是半圆形侧壁，真空镀膜室1的天花102和底板103是水平的板，阴极靶发生装2置分布在左右半圆形侧壁101上，收卷装置3和放卷装置4的转动轴线分别与左右半圆形侧壁101的圆心重合。

优选地，如图2所示，分布在左右半圆形侧壁101上的阴极靶发生装置2有数排，每排由数套阴极靶发生装置2构成，数排阴极靶发生装置2由上往下沿半圆形侧壁101水平分布，上下相邻两排的阴极靶发生装置上下错开设置。

优选地，收卷装置3的带有离合结构的卷辊和放卷装置4的带有离合结构的卷辊均转动设置在小车8上，小车8沿轨道进出真空镀膜室1，以便在真空镀膜室1外进行金属带卷A放置就位在收卷装置3和放卷装置4，然后，将放置就位金属带卷A后的收卷装置3和放卷装置4整体推入真空镀膜室1进行定位。

对金属带卷B进行镀膜时，先将金属带卷B绕在放卷装置4的卷辊上，将放卷装置4的卷辊上的金属带卷B的金属带板引到收卷装置3的卷辊上，然后，将小车8推入真空镀膜室1内定位，使收卷装置3的卷辊上的离合结构以及放卷装置4的卷辊上的离合结构与真空镀膜室1背面的动力传动机构上的相应的离合结构连接，关闭真空镀膜室1，抽真空，通入工艺气体，启动阴极靶弧电源，启动动力传动机构的动力，动力通过轴带动收卷装置3的卷辊转动，在阴极靶电弧的作用下，阴极靶材以颗粒状电离子溅射材料喷出，此时，由于阴极靶发生装置2离金属带卷B较远，因此，重量较重的电离子溅射材料中的大颗粒会加速下降并从其他的电离子溅射材料分开出来，金属带卷B的金属带板通过收卷装置3和放卷装置4及小车8接地，因此，其电位高于阴极靶，这样，喷出的电离子溅射材料吸附在收卷装置3和放卷装置4间展开的金属带板上，由于随着收卷装置3的匀速收卷，持续喷出的电离子溅射材料均匀地镀在展开的金属带板上，从而完成带材真空等离子体连续镀膜过程。

Claims (3)

1.一种带材真空等离子体镀膜装置的改进结构，包括真空镀膜室、设置在真空镀膜室内侧壁上的阴极靶发生装置、设置在真空镀膜室内的收卷装置和放卷装置，其特征在于，真空镀膜室的左右侧壁是半圆形侧壁，阴极靶发生装置分布在左右半圆形侧壁上，收卷装置和放卷装置的转动轴线分别与左右半圆形侧壁的圆心重合。

2.根据权利要求1所述的带材真空等离子体镀膜装置的改进结构，其特征在于，分布在左右半圆形侧壁上的阴极靶发生装置有数排，每排由数套阴极靶发生装置构成，数排阴极靶发生装置由上往下沿半圆形侧壁水平分布，上下相邻两排的阴极靶发生装置上下错开设置。

3.根据权利要求1或2所述的带材真空等离子体镀膜装置的改进结构，其特征在于，收卷装置的带有离合结构的卷辊和放卷装置的带有离合结构的卷辊均转动设置在小车上。

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