CN201553778U - 一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有1-3个A低真空室(20a)，1-3离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-5个高真空室(50)，1-5个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜，膜层厚度可独立进行控制，膜层均匀致密，附着力强适合工业化生产。

Description

一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置
技术领域
本实用新型涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。
背景技术
目前，国内在金属薄板带表面进行连续处理都采用热涂的形式，采用这种方法具有以下缺点：(1)涂层材料熔点温度低，不能涂熔点高的材料；(2)涂层厚，并且只能双面同时涂；(3)只能涂单一的材料；(4)涂层色泽、均匀性、附着力较差。生产的钢带只能用于低端市场。为弥补热涂工艺的不足，此前国内又开发了间歇式真空电子束蒸发、真空磁控溅射、真空多弧离子等镀膜设备，但这类设备存在以下缺点：(1)抽真空时间、装卸板带占用的时间比较长，每镀完一卷要打开真空室门装卸带卷，生产效率低，不适合工业连续生产；(2)每周期镀膜参数难以保证一致，产品质量一致性差；(3)磁控靶或多弧源在暴露大气后有一定程度的氧化和污染，影响膜层质量。
而国外钢带表面采用真空条件下的镀膜技术发展较早，已经比较成熟。比较常用的是真空条件下大功率电子束蒸发镀膜技术。进口此类设备价格非常昂贵，而随着我国国民经济的发展，对钢带真空镀膜产品的需求量增长很大，因此，急需开发此类设备。
实用新型内容
本实用新型的目的在于避免现有技术的不足，提供一种用于金属薄板带在真空条件下连续进行表面镀膜的装置，在金属薄板带表面采用真空条件下物理气相沉积进行改性处理的装置。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜、膜层厚度可独立进行控制、膜层均匀致密、附着力强、适合工业化生产。
为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-5个高真空室(50)，1-5个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)
所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的开卷机组(10)包括：上卷滚轮(10-1)，开卷滚轮(10-2)，在上卷滚轮(10-1)与开卷滚轮(10-2)的前方设有切头(10-3)、焊接(10-4)；在1#S辊(10-5)和2#S辊(10-7)之间设有入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)；在2#S辊(10-7)之后设有清洗系统(10-8)，热风干燥(10-9)。
所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)包括有固定辊系(10-6-1)；在导轨(10-6-5)上设有导向轮(10-6-4)，导向轮(10-6-4)与活动辊系(10-6-2)连接，驱动装置(10-6-3)设于活动辊系(10-6-2)上。
所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的A低真空室(20a、20b)包括有室体(20-1)，其内设有隔板(20-1-1)将室体(20-1)分隔成2-6个真空室；隔板(20-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(20-1)的入口处或出口处或室体(20-1)中部隔板的窗口(2)处设有密封输送辊装置(20-2)，动力驱动机构(20-3)设于密封输送辊装置(20-2)上；室体(20-1)的上部设有上盖(20-4)，其间设有上盖密封装置(20-6)，下部设有机架(20-5)；室体连接处设有密封装置(20-7)；室体(20-1)内与滑阀泵机组(90-1、90-2)、罗茨泵(90-3)相连通。室体中间位置通过2至4套密封辊装置把室体分隔成三至五部分，从进料C低真空室，20b为从出料端，开始每部分真空度有一个阶梯形的降低，经过A低真空室20a、C低真空室20b后真空度可达到5Pa以下。室体根据制造需要，可做成整体或分两件。
所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的密封输送辊装置(20-2)包括相互平行的两个橡胶辊(20-2-3)支撑于两端的轴承座(20-2-5)上，传动齿轮(20-2-1)分别设于两个橡胶辊(20-2-3)的两端，在橡胶辊(20-2-3)轴的一端连接有动力驱动机构(20-3)；在橡胶辊(20-2-3)轴的两端设有弹簧(20-2-2)，密封板(20-2-4)设于橡胶辊(20-2-3)上；在金属薄板带(1)通过的窗口(2)的两侧设有通过密封垫(20-2-6)与室体连接的联结座(20-2-7)，其上设有弹簧片(20-2-8)，将塑料板(20-2-9)压紧在两个橡胶辊(20-2-3)上。
所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的离子处理室(30)包括有室体(30-1)，其内设有隔板(30-1-1)将室体(30-1)分隔成2-4个真空室；在室体(30-1)的两端及隔板(30-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(30-1)内设有高压离子处理系统(30-2)；在室体(30-1)内设有布气系统(30-3)；室体(30-1)的上部设有上盖(30-4)，其间设有上盖密封装置(30-7)，中部设有观察窗(30-5)，下部设有机架(30-6)；室体连接处设有密封装置(30-8)；室体(30-1)内与滑阀泵机组、罗茨泵(90-4)相连通。
所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的B低真空室(40)包括有室体(40-1)，其内设有隔板(40-1-1)将室体(40-1)分隔成2-4个真空室；在室体(40-1)的两端及隔板(40-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；室体(40-1)的上部设有上盖(40-2)，其间设有上盖密封装置(40-3)，中部设有观察窗(40-5)，下部设有机架(40-6)；室体连接处设有密封装置(40-4)；室体(40-1)内与滑阀泵机组、罗茨泵(90-5)相连通。室内真空度可达到5Pa以下。
所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的高真空室(50)包括有室体(50-1)，其内设有隔板(50-1-1)将室体(50-1)分隔成2-4个真空室；在室体(50-1)的两端及隔板(50-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；室体(50-1)的上部设有上盖(50-2)，其间设有上盖密封装置(50-4)，下部设有机架(50-3)；室体连接处设有密封装置(50-5)；室体(50-1)内与扩散泵、滑阀泵机组、罗茨泵(90-6)相连通。室内极限压力可达到1×10-3Pa以下。高真空室在每个镀膜室两侧各布置一个，当镀膜室有多个时，则高真空室数量相应增加，数量比镀膜室数量多1个。
所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的镀膜室(60)包括有室体(60-1)；其内设有隔板(60-1-1)将室体(60-1)分隔成2-4个真空室；在室体(60-1)的两端及隔板(60-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(60-1)内设有平面磁控靶或电子抢(60-3)；室体(60-1)的上部设有上盖(60-2)，其间设有上盖密封装置(60-6)，中部设有观察窗(60-4)，下部设有机架(60-5)；室体连接处设有密封装置(60-7)。镀膜室(60)数量视工艺需要可为1个或多个。
所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的收卷机组(80)包括有在真空镀膜室外金属薄板带(1)上设有贴保护膜机构(80-1)，3#S辊(80-2)与4#S辊(80-4)之间设有出口金属薄板带(1)张紧轮系统(80-3)；在4#S辊(80-4)之后设有剪切(80-5)，夹送辊(80-6)，卷取(80-7)，卸卷(80-8)。
所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的连续镀膜装置的控制系统(100)包括有计算机集中控制机柜(100-1)，过程控制接口模块机柜(100-2)，真空系统控制机柜(100-3)，传动系统控制机柜(100-4)，真空离子处理电源机柜连续镀膜电源机柜(100-5)，收卷操作辅助控制机柜(100-6)和开卷操作辅助控制机柜(100-7)。
本实用新型的有益效果是：(1)设备各部件正确组合的总体布置方案及配置；(2)空气-空气真空连续镀膜的动密封结构；(3)镀膜源可根据工艺需要进行多种组合。该生产线采用计算机全自动控制技术，具有丰富的人机界面，操作方便。该生产线采用空气-空气的真空连续镀膜方式，镀膜效率高，镀膜过程环保无污染、可镀制多种膜、多层膜、膜层质量好。
附图说明
图1为本实用新型的主视示意图；
图2为本实用新型的开卷机组(10)主视示意图；
图3为本实用新型的入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)主视示意图；
图4为本实用新型的A低真空室(20a、20b)主视示意图；
图5a为本实用新型的密封输送辊装置(20-2)主视示意图；
图5b为图5a的左视示意图；
图6为本实用新型的离子处理室(30)主视示意图；
图7为本实用新型的B低真空室(40)主视示意图；
图8为本实用新型的高真空室(50)主视示意图；
图9为本实用新型的镀膜室(60)主视示意图；
图10为本实用新型的收卷机组(80)主视示意图；
图11为本实用新型的控制系统(100)主视示意图；
图12为本实用新型的实施例3镀膜室示意图。
具体实施方式
以下结合实施例对本实用新型的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的范围。
实施例1：
见图1，一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组10，设置的真空镀膜室包括有1个A低真空室20a，1离子处理室30，1个B低真空室40，1个高真空室50，1个镀膜室60，1个A低真空室20b，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带1通过的窗口2，真空镀膜室与真空机组90相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组80，连续镀膜的控制系统100。
见图2，所述的开卷机组10包括有上卷滚轮10-1，开卷滚轮10-2，在上卷滚轮10-1与开卷滚轮10-2的前方设有切头10-3、焊接10-4；在1#S辊10-5和2#S辊10-7之间设有入口金属薄板带1张紧轮系统10-6；在2#S辊10-7之后设有清洗系统10-8，热风干燥10-9。
见图3，所述的入口金属薄板带1张紧轮系统10-6包括有固定辊系10-6-1；在导轨10-6-5上设有导向轮10-6-4，导向轮10-6-4与活动辊系10-6-2连接，驱动装置10-6-3设于活动辊系10-6-2上。
见图4，所述的A低真空室20a、20b包括有室体20-1，其内设有隔板20-1-1将室体20-1分隔成4个真空室；隔板20-1-1上设有金属薄板带1通过的窗口2；在室体20-1的入口处或出口处或室体20-1中部隔板的窗口2处设有密封输送辊装置20-2，动力驱动机构20-3设于密封输送辊装置20-2上；室体20-1的上部设有上盖20-4，其间设有上盖密封装置20-6，下部设有机架20-5；室体连接处设有密封装置20-7；室体20-1内与滑阀泵机组90-1、90-2、罗茨泵90-3相连通。室体中间位置通过3套密封辊装置把室体分隔成三至五部分，从进料C低真空室，20b为从出料端，开始每部分真空度有一个阶梯形的降低，经过A低真空室20a、C低真空室20b后真空度可达到5Pa以下。室体根据制造需要，可做成整体或分两件。
见图5，所述的密封输送辊装置20-2包括相互平行的两个橡胶辊20-2-3支撑于两端的轴承座20-2-5上，传动齿轮20-2-1分别设于两个橡胶辊20-2-3的两端，在橡胶辊20-2-3轴的一端连接有动力驱动机构20-3；在橡胶辊20-2-3轴的两端设有弹簧20-2-2，密封板20-2-4设于橡胶辊20-2-3上；在金属薄板带1通过的窗口2的两侧设有通过密封垫20-2-6与室体连接的联结座20-2-7，其上设有弹簧片20-2-8，将塑料板20-2-9压紧在两个橡胶辊20-2-3上。
见图6，所述的离子处理室30包括有室体30-1，其内设有隔板30-1-1将室体30-1分隔成2个真空室；在室体30-1的两端及隔板30-1-1上设有金属薄板带1通过的窗口2；在室体30-1内设有高压离子处理系统30-2；在室体30-1内设有布气系统30-3；室体30-1的上部设有上盖30-4，其间设有上盖密封装置30-7，中部设有观察窗30-5，下部设有机架30-6；室体连接处设有密封装置30-8；室体30-1内与滑阀泵机组、罗茨泵90-4相连通。
见图7，所述的B低真空室40包括有室体40-1，其内设有隔板40-1-1将室体40-1分隔成2个真空室；在室体40-1的两端及隔板40-1-1上设有金属薄板带1通过的窗口2；室体40-1的上部设有上盖40-2，其间设有上盖密封装置40-3，中部设有观察窗40-5，下部设有机架40-6；室体连接处设有密封装置40-4；室体40-1内与滑阀泵机组、罗茨泵90-5相连通。室内真空度可达到5Pa以下。
见图8，所述的高真空室50包括有室体50-1，其内设有隔板50-1-1将室体50-1分隔成2个真空室；在室体50-1的两端及隔板50-1-1上设有金属薄板带1通过的窗口2；室体50-1的上部设有上盖50-2，其间设有上盖密封装置50-4，下部设有机架50-3；室体连接处设有密封装置50-5；室体50-1内与扩散泵、滑阀泵机组、罗茨泵90-6相连通。室内极限压力可达到1×10-3Pa以下。高真空室在镀膜室两侧各设置一个。
见图9，所述的镀膜室60包括有室体60-1；其内设有隔板60-1-1将室体60-1分隔成2个真空室；在室体60-1的两端及隔板60-1-1上设有金属薄板带1通过的窗口2；在室体60-1内设有平面磁控靶或电子抢60-3；室体60-1的上部设有上盖60-2，其间设有上盖密封装置60-6，中部设有观察窗60-4，下部设有机架60-5；室体连接处设有密封装置60-7。
见图10，所述的收卷机组80包括有在真空镀膜室外金属薄板带1上设有贴保护膜机构80-1，3#S辊80-2与4#S辊80-4之间设有出口金属薄板带1张紧轮系统80-3；在4#S辊80-4之后设有剪切80-5，夹送辊80-6，卷取80-7，卸卷80-8。
见图11，所述的连续镀膜装置的控制系统100包括有计算机集中控制机柜100-1，过程控制接口模块机柜100-2，真空系统控制机柜100-3，传动系统控制机柜100-4，真空离子处理电源机柜连续镀膜电源机柜100-5，收卷操作辅助控制机柜100-6和开卷操作辅助控制机柜100-7。
计算机集中控制机柜100-1通过触摸屏等人机接口，以图形、表格和棒图等形式实时显示从生产线各控制器接受的数据，并将操作员的指令传送给控制器，完成生产线中传动系统、真空抽气系统、镀膜工艺系统和辅助控制系统的参数控制和管理、过程控制、设备故障诊断、人机交互等功能。
过程控制接口模块机柜100-2主要负责生产线各工艺控制环节模拟量的采集、输出和实时控制；
真空系统控制机柜100-3，根据计算机控制机柜的指令实现对生产线真空抽气系统的控制，为镀膜生产线获得持续的高真空工作环境；
传动系统控制机柜100-4，根据计算机控制机柜的指令实现生产线多传动系统开卷段、收卷段和工艺段的调速控制和张力控制和纠偏控制。
收卷操作辅助控制机柜100-6和开卷操作辅助控制机柜100-7主要实现系统上料卷、卸料卷、预设张力、转动点动的辅助功能。提高连续镀膜生产线的工作效率。
实施例2：一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的镀膜室60包括有室体60-1，设有3个，所述的高真空室50，设有4个，高真空室在每个镀膜室两侧各设置一个。其余与实施例1相同。
实施例3：见图12，一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的镀膜室60包括有室体60-1，设有四个，所述的高真空室50，设有五个，高真空室在每个镀膜室两侧各设置一个。其余与实施例1相同。
实施例4：一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的镀膜室60包括有室体60-1，设有5个，所述的高真空室50，设有6个，高真空室在每个镀膜室两侧各设置一个。其余与实施例1相同。
实施例5：一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的镀膜室60包括有室体60-1，设有6个，所述的高真空室50，设有8个，高真空室在每个镀膜室两侧各设置一个。其余与实施例1相同。
实施例6：一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的镀膜室60包括有室体60-1，设有8个，所述的高真空室50，设有8个，高真空室在每个镀膜室两侧各设置一个。其余与实施例1相同。
实施例7：见图12，一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的镀膜室60包括有室体60-1，设有8个，所述的高真空室50，设有9个，高真空室在每个镀膜室两侧各设置一个。其余与实施例1相同。
使用时，所述的开卷机组的上卷小车，位于开卷机的卷筒下面，将金属薄板带从入口鞍座上到开卷机卷筒上，开卷机设置有自动对中装置，当带卷安装位置同设定位置有偏差时，可自动进行修正；通过开卷机的转动，使板带通过向前夹送的夹送辊，然后通过夹送辊向前将板带送至入口剪，由入口剪去此板带的带头，板带通过焊机进入1#S辊；此时，另一个上卷小车按前面所述步骤将板带送至入口剪处，当前一卷板带的带尾到达入口剪时，通过入口剪剪切此卷的带尾及后一卷的带头，然后一起到达焊机处进行焊接，焊接后的带材继续匀速向前通过1号S辊，带材在1号S辊的驱动下进入入口活套，入口活套用于先储存金属薄板带，以保证机组入口段在金属薄板带停止并进行焊接工作时，入口活套释放板带以使工艺段金属薄板带仍能连续稳定的运行；在入口活套后面布置有2号S辊，板带经过2号S辊后，在2号S辊的输送作用下，板带通过后面的清洗装置进行清洗；板带经过清洗后，经过挤干纠偏装置，对板带起去除水分及纠偏矫正的作用；在挤干纠偏装置后布置有热风干燥装置，通过向板带表面喷吹高速热风，来吹干脱脂留在板带表面的水分。板带经过挤干纠偏装置后进入A低真空室20a，然后依次通过离子处理室30、B低真空室40、高真空室50、镀膜室60、C低真空室20b，到达收卷机组；在收卷机组，板带镀膜的一面通过贴膜装置在其表面贴上保护的塑料薄膜或纸，板带继续向前，通过3号S辊，通过3号S辊的引送进入出口活套，出口用于在卸膜板带停止时储存金属薄板带，以保证在板带停止并进行焊接工作时，工艺段板带仍能连续稳定的运行，在换卷完成后，释放板带，以备下次卸卷储存板带；板带经过出口活套后进入4号S辊，在其引送下通过压剪机及夹送辊，到达收卷机进行收卷，当带卷卷径达到一定大小后，通过压剪把板带剪断，换卷后进行新卷的收卷。
在完成穿带后，各低真空室同时进行抽真空，在高真空室真空度达到5Pa以下时，采用高真空机组对高真空室进行抽真空。在离子处理室真空达到一定真空度后，通过布气系统向室内充入N2，利用离子处理器对板带进行表面处理；同时，在镀膜室达到一定的真空度时，采用镀膜系统(电子束蒸发或磁控溅射系统)对板带表面进行镀膜处理；板带的传动速度及镀膜功率大小根据工艺要求进行调节。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其特征在于设置的真空镀膜室包括有1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-5个高真空室(50)，1-5个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。
2.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的开卷机组(10)包括：上卷滚轮(10-1)，开卷滚轮(10-2)，在上卷滚轮(10-1)与开卷滚轮(10-2)的前方设有切头(10-3)、焊接(10-4)；在1#S辊(10-5)和2#S辊(10-7)之间设有入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)；在2#S辊(10-7)之后设有清洗系统(10-8)，热风干燥(10-9)。
3.如权利要求2所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)包括有固定辊系(10-6-1)；在导轨(10-6-5)上设有导向轮(10-6-4)，导向轮(10-6-4)与活动辊系(10-6-2)连接，驱动装置(10-6-3)设于活动辊系(10-6-2)上。
4.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的A低真空室(20a、20b)包括有室体(20-1)，其内设有隔板(20-1-1)将室体(20-1)分隔成2-6个真空室；隔板(20-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(20-1)的入口处或出口处或室体(20-1)中部隔板的窗口(2)处设有密封输送辊装置(20-2)，动力驱动机构(20-3)设于密封输送辊装置(20-2)上；室体(20-1)的上部设有上盖(20-4)，其间设有上盖密封装置(20-6)，下部设有机架(20-5)；室体连接处设有密封装置(20-7)；室体(20-1)内与滑阀泵机组(90-1、90-2)、罗茨泵(90-3)相连通。
5.如权利要求4所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的密封输送辊装置(20-2)包括相互平行的两个橡胶辊(20-2-3)支撑于两端的轴承座(20-2-5)上，传动齿轮(20-2-1)分别设于两个橡胶辊(20-2-3)的两端，在橡胶辊(20-2-3)轴的一端连接有动力驱动机构(20-3)；在橡胶辊(20-2-3)轴的两端设有弹簧(20-2-2)，密封板(20-2-4)设于橡胶辊(20-2-3)上；在金属薄板带(1)通过的窗口(2)的两侧设有通过密封垫(20-2-6)与室体连接的联结座(20-2-7)，其上设有弹簧片(20-2-8)，将塑料板(20-2-9)压紧在两个橡胶辊(20-2-3)上。
6.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的离子处理室(30)包括有室体(30-1)，其内设有隔板(30-1-1)将室体(30-1)分隔成2-4个真空室；在室体(30-1)的两端及隔板(30-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(30-1)内设有高压离子处理系统(30-2)；在室体(30-1)内设有布气系统(30-3)；室体(30-1)的上部设有上盖(30-4)，其间设有上盖密封装置(30-7)，中部设有观察窗(30-5)，下部设有机架(30-6)；室体连接处设有密封装置(30-8)；室体(30-1)内与滑阀泵机组、罗茨泵(90-4)相连通。
7.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的B低真空室(40)包括有室体(40-1)，其内设有隔板(40-1-1)将室体(40-1)分隔成2-4个真空室；在室体(40-1)的两端及隔板(40-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；室体(40-1)的上部设有上盖(40-2)，其间设有上盖密封装置(40-3)，中部设有观察窗(40-5)，下部设有机架(40-6)；室体连接处设有密封装置(40-4)；室体(40-1)内与滑阀泵机组、罗茨泵(90-5)相连通。
8.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的高真空室(50)包括有室体(50-1)，其内设有隔板(50-1-1)将室体(50-1)分隔成2-4个真空室；在室体(50-1)的两端及隔板(50-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；室体(50-1)的上部设有上盖(50-2)，其间设有上盖密封装置(50-4)，下部设有机架(50-3)；室体连接处设有密封装置(50-5)；室体(50-1)内与扩散泵、滑阀泵机组、罗茨泵(90-6)相连通。
9.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的镀膜室(60)包括有室体(60-1)；其内设有隔板(60-1-1)将室体(60-1)分隔成2-4个真空室；在室体(60-1)的两端及隔板(60-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(60-1)内设有平面磁控靶或电子抢(60-3)；室体(60-1)的上部设有上盖(60-2)，其间设有上盖密封装置(60-6)，中部设有观察窗(60-4)，下部设有机架(60-5)；室体连接处设有密封装置(60-7)。
10.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的收卷机组(80)包括有在真空镀膜室外金属薄板带(1)上设有贴保护膜机构(80-1)，3#S辊(80-2)与4#S辊(80-4)之间设有出口金属薄板带(1)张紧轮系统(80-3)；在4#S辊(80-4)之后设有剪切(80-5)，夹送辊(80-6)，卷取(80-7)，卸卷(80-8)。
11.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的连续镀膜装置的控制系统(100)包括有计算机集中控制机柜(100-1)，过程控制接口模块机柜(100-2)，真空系统控制机柜(100-3)，传动系统控制机柜(100-4)，真空离子处理电源机柜连续镀膜电源机柜(100-5)，收卷操作辅助控制机柜(100-6)和开卷操作辅助控制机柜(100-7)。
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