CN211142163U - 可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，包括沿着基材运行路径依次设置的放卷室，镀膜室，收卷室；放卷室内设有多个放卷机构，镀膜室内设有镀膜源，镀膜源的喷射方向朝向基材，收卷室内设有至少一个收卷机构，沿着基材的运行路径上设有多个引导辊机构；放卷机构包括安装板，固定在安装板上的驱动电机，转动式安装在安装板上的放卷辊；卷状的基材卷绕在放卷辊上，放卷辊连接在驱动电机的输出端上；收卷机构包括承载板，固定在承载板上的动力电机，转动式安装在承载板上的收卷辊；卷状的基材卷绕在收卷辊上，收卷辊连接在动力电机的输出端上。本真空卷绕镀膜设备可多卷基材共用镀膜源同时进行镀膜，属于真空镀膜的技术领域。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜的技术领域，尤其涉及可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备。
背景技术
现行的卷绕镀膜设备都是只能对单卷基材进行镀膜，对于幅宽小的卷基材镀膜而言，此种方式效率低下且成本高居不下。目前，尚没有对多卷基材进行同时镀膜的设备。
实用新型内容
针对现有技术中存在的技术问题，本实用新型的目的是：提供一种可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，可多卷基材共用镀膜源同时进行镀膜。
为了达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，包括沿着基材运行路径依次设置的放卷室，镀膜室，收卷室；放卷室内设有一个以上的放卷机构，镀膜室内设有镀膜源，镀膜源的喷射方向朝向基材，收卷室内设有至少一个收卷机构，沿着基材的运行路径上设有多个引导辊机构；放卷机构包括安装板，固定在安装板上的驱动电机，转动式安装在安装板上的放卷辊；卷状的基材卷绕在放卷辊上，放卷辊连接在驱动电机的输出端上；收卷机构包括承载板，固定在承载板上的动力电机，转动式安装在承载板上的收卷辊；卷状的基材卷绕在收卷辊上，收卷辊连接在动力电机的输出端上；引导辊机构包括承载座，转动式安装在承载座上的导辊轴，套装在导辊轴上的引导套组件；引导套组件包括导辊套，导辊套内部的两端均内置有轴承，轴承套装在导辊轴上。
进一步的是：真空卷绕镀膜设备还包括一个固定板，多个放卷机构中，每个放卷机构的驱动电机对应驱动该放卷机构的放卷辊，所有放卷机构的放卷辊的一端连接在该放卷机构的安装板上，另一端共同连接在固定板上。
进一步的是：真空卷绕镀膜设备还包括一个连接板；收卷机构为多个时，多个收卷机构中，每个收卷机构的动力电机对应驱动该收卷机构的收卷辊，所有收卷机构的收卷辊的一端连接在该收卷机构的承载板上，另一端共同连接在连接板上；收卷机构为一个时，收卷辊的一端连接在承载板上，另一端连接在连接板上。
进一步的是：引导辊机构的承载座有两个，导辊轴的两端均通过轴承安装在承载座上，引导套组件至少有一个。
进一步的是：镀膜室内设置或者不设置镀膜辊，镀膜室内设置镀膜辊时，所有的基材共同绕过该镀膜辊，在绕入和绕出镀膜辊处设置有引导辊机构。
进一步的是：在镀膜室内不设置镀膜辊时，所有镀膜源位于基材的同一侧或者基材的两侧均设有镀膜源。
进一步的是：在收卷室和放卷室内均设有引导辊机构，镀膜室内设置或不设置引导辊机构。
进一步的是：镀膜源为磁控靶、蒸发源、电弧源或者PECVD源。
进一步的是：基材为有机薄膜、金属卷材、布类、海绵或超薄玻璃。
总的说来，本实用新型具有如下优点：
本真空卷绕镀膜设备可实现多卷基材共用镀膜源同时进行镀膜，大幅提升生产效率及产品性价比。多卷真空卷绕镀膜设备采用每卷独立电机、引导辊机构采用多个引导套组件、多卷基材速度单独控制来实现防擦伤，大幅提升产品质量。真空卷绕镀膜设备升级空间强大，可做多卷同时镀膜也可改造后实现单卷镀膜。引导套组件可以实现每卷基材的转速独立，满足每卷基材速度不一致的恒速镀膜。本真空卷绕镀膜设备适用于在有机薄膜、金属卷材、布类、海绵、超薄玻璃等柔性基材上镀制金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。
附图说明
图1是本真空卷绕镀膜设备主视方向的结构示意图，设置了镀膜辊且具有2个放卷机构。
图2是本真空卷绕镀膜设备主视方向的结构示意图，没有设置镀膜辊且基材一侧有镀膜源。
图3是本真空卷绕镀膜设备主视方向的结构示意图，没有设置镀膜辊且基材两侧均有镀膜源。
图4是本真空卷绕镀膜设备主视方向的结构示意图，设置了镀膜辊且具有4个放卷机构。
图5是本真空卷绕镀膜设备俯视方向的结构示意图，有2个放卷机构，每个引导辊机构只有1个引导套组件，有1个收卷机构。
图6是本真空卷绕镀膜设备俯视方向的结构示意图，有4个放卷机构，每个引导辊机构只有1个引导套组件，有1个收卷机构。
图7是本真空卷绕镀膜设备俯视方向的结构示意图，有2个放卷机构，每个引导辊机构有2个引导套组件，有2个收卷机构。
图8是本真空卷绕镀膜设备俯视方向的结构示意图，有4个放卷机构，每个引导辊机构有4个引导套组件，有4个收卷机构。
图9是2个放卷机构的结构示意图。
图10是3个放卷机构的结构示意图。
图11是4个放卷机构的结构示意图。
图12是多卷基材卷绕在1个收卷机构上的结构示意图。
图13是引导辊机构上只有1个引导套组件的结构示意图。
图14是引导辊机构上有2个引导套组件的结构示意图。
图15是引导辊机构上有3个引导套组件的结构示意图。
图16是引导辊机构上有4个引导套组件的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图和具体实施方式来对本实用新型做进一步详细的说明。
为了便于统一查看说明书附图里面的各个附图标记，现对说明书附图里出现的附图标记统一说明如下：
1为放卷室，2为镀膜室，3为收卷室，4为放卷机构，5为收卷机构，6为引导辊机构，7为镀膜源，8为基材，9为固定板，10为连接板，4-1为放卷辊，4-2为驱动电机，4-3为安装板，5-1为收卷辊，5-2为动力电机，5-3为承载板，6-1为承载座，6-2为导辊轴，6-3为导辊套，6-4为轴承。
结合图1所示，可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，包括沿着基材运行路径依次设置的放卷室，镀膜室，收卷室；本真空卷绕镀膜设备可以同时对多卷基材进行镀膜。放卷室内设有一个以上的放卷机构，本真空卷绕镀膜设备有多个放卷机构，每个放卷机构的结构是一样的。镀膜室内设有镀膜源，镀膜源的喷射方向朝向基材，镀膜源设置在基材的运行路径上。收卷室内设有至少一个收卷机构，有多个收卷机构时，每个收卷机构的结构是一样的。沿着基材的运行路径上设有多个引导辊机构，引导辊机构可以引导和改变基材的运行方向和辅助基材运行。放卷机构包括安装板，固定在安装板上的驱动电机，转动式安装在安装板上的放卷辊；卷状的基材卷绕在放卷辊上，放卷辊连接在驱动电机的输出端上。收卷机构包括承载板，固定在承载板上的动力电机，转动式安装在承载板上的收卷辊；卷状的基材卷绕在收卷辊上，收卷辊连接在动力电机的输出端上。放卷机构和收卷机构的结构是一样的，一个是放卷，一个是收卷。引导辊机构包括承载座，转动式安装在承载座上的导辊轴，套装在导辊轴上的引导套组件。引导套组件包括导辊套轴承，导辊套内部的两端均内置有轴承，即导辊套内部有两个轴承，两个轴承分别内置在导辊套内部的两端，轴承套装在导辊轴上，从而实现将导辊套转动式地套装在导辊轴上。
真空卷绕镀膜设备还包括一个固定板，多个放卷机构中，每个放卷机构的驱动电机对应驱动该放卷机构的放卷辊，所有放卷机构的放卷辊的一端连接在该放卷机构的安装板上，另一端共同连接在固定板上。如图9所示，图9的方案中具有2个放卷机构，可以卷出2卷基材，2个放卷机构中的2个驱动电机分别对应驱动2个放卷机构的2个放卷辊，2个放卷机构中的2个放卷辊的一端分别连接在2个放卷机构的安装板上，2个放卷辊的另一端都共同连接在固定板上。如图10所示，图10的方案中具有3个放卷机构，可以卷出3卷基材，3个放卷机构中的3个驱动电机分别对应驱动3个放卷机构的3个放卷辊，3个放卷机构中的3个放卷辊的一端分别连接在3个放卷机构的安装板上，3个放卷辊的另一端都共同连接在固定板上。如图11所示，图11的方案中具有4个放卷机构，可以卷出4卷基材，4个放卷机构中的4个驱动电机分别对应驱动4个放卷机构的4个放卷辊，4个放卷机构中的4个放卷辊的一端分别连接在4个放卷机构的安装板上，4个放卷辊的另一端都共同连接在固定板上。放卷机构数量可根据实际需要设置，可以是更多数量的放卷机构。
真空卷绕镀膜设备还包括一个连接板；收卷机构为多个时，多个收卷机构中，每个收卷机构的动力电机对应驱动该收卷机构的收卷辊，所有收卷机构的收卷辊的一端连接在该收卷机构的承载板上，另一端共同连接在连接板上。收卷机构的数量为2个、3个或者4个时，可以结合放卷机构方案中对应的图9、图10或者图11来理解。结合图12所示，收卷机构为一个时，收卷辊的一端连接在承载板上，另一端连接在连接板上。
引导辊机构的承载座有两个，导辊轴的两端均通过轴承安装在承载座上，引导套组件至少有一个。如图13所示的方案中，引导辊机构有1个引导套组件。如图14所示的方案中，引导辊机构有2个引导套组件。如图15所示的方案中，引导辊机构有3个引导套组件。如图16所示的方案中，引导辊机构有4个引导套组件。引导套组件的设置，可以实现每卷基材的转速独立，实现每卷基材的速度不一致。根据实际情况，引导套组件的数量可以是更多。如图5所示，有2个放卷机构，每个引导辊机构的引导套组件只有1个，有1个收卷机构(即采用同一个收卷辊对所有的基材进行收卷)。如图6所示，有4个放卷机构(只画出了2个驱动电机)，每个引导辊机构的引导套组件只有1个，有1个收卷机构(即采用同一个收卷辊对所有的基材进行收卷)。如图7所示，有2个放卷机构，每个引导辊机构的引导套组件有2个，对应的有2个收卷机构。如图8所示，有4个放卷机构，每个引导辊机构的引导套组件有4个，对应的有4个收卷机构。
镀膜室内设置或者不设置镀膜辊，镀膜室内设置镀膜辊时，所有的基材共同绕过该镀膜辊，即所有放卷机构卷出的基材都绕过同一个镀膜辊，在绕入和绕出镀膜辊处设置有引导辊机构。如图1所示，镀膜室内设置有镀膜辊，放卷室内有2个放卷机构(主视方向图中只画出1个)，收卷室内有2个收卷机构(主视方向图中只画出1个)。如图2所示，镀膜室内设置没有镀膜辊，所有的镀膜源都只在基材的同一侧进行镀膜。如图3所示，镀膜室内设置没有镀膜辊，基材的两侧都设有镀膜源。如图4所示，镀膜室内设置有镀膜辊，放卷室内有4个放卷机构(主视方向图中只画出2个)，收卷室内有4个收卷机构(主视方向图中只画出2个)。
在镀膜室内不设置镀膜辊时，所有镀膜源位于基材的同一侧或者基材的两侧均设有镀膜源。根据基材耐温程度的不同，可以在镀膜室内设置或者不设置镀膜辊，不耐高温的基材，则设置镀膜辊，耐高温的基材可以不设置镀膜辊，带镀膜辊的镀膜方式采用多卷基材共用镀膜辊，即所有卷基材同时绕过镀膜辊进行镀膜。
在收卷室和放卷室内均设有引导辊机构，镀膜室内设置或不设置引导辊机构。
镀膜源为磁控靶、蒸发源、电弧源或者PECVD源。
基材为有机薄膜、金属卷材、布类、海绵或超薄玻璃。
每卷基材的速度控制，可通过闭环控制或开环控制来实现，闭环控制和开环控制属于现有技术，闭环控制采用分段进行张力检测，将每段检测信号反馈给对应电机，实现每卷速度单独控制。闭环控制还可以采用电机力矩检测、速度检测等反馈信号来控制电机，实现每卷速度单独控制。
本真空卷绕镀膜设备的镀膜过程，所有的基材从放卷机构出来之后，先经过引导辊机构再进入镀膜室，在镀膜室内镀膜源对基材进行镀膜，然后从镀膜室出来再经过引导辊机构，进入收卷室，收卷机构对基材进行卷绕。本真空卷绕镀膜设备可实现多卷基材共用镀膜源同时进行镀膜，大幅提升生产效率及产品性价比。多卷真空卷绕镀膜设备采用每卷独立电机、引导辊机构采用多个引导套组件、多卷基材速度单独控制来实现防擦伤，大幅提升产品质量。真空卷绕镀膜设备升级空间强大，可做多卷同时镀膜也可改造后实现单卷镀膜。引导套组件可以实现每卷基材的转速独立，满足每卷基材速度不一致的恒速镀膜。
上述实施例为本实用新型较佳的实施方式，但本实用新型的实施方式并不受上述实施例的限制，其他的任何未背离本实用新型的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (9)
1.可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：包括沿着基材运行路径依次设置的放卷室，镀膜室，收卷室；放卷室内设有一个以上的放卷机构，镀膜室内设有镀膜源，镀膜源的喷射方向朝向基材，收卷室内设有至少一个收卷机构，沿着基材的运行路径上设有多个引导辊机构；放卷机构包括安装板，固定在安装板上的驱动电机，转动式安装在安装板上的放卷辊；卷状的基材卷绕在放卷辊上，放卷辊连接在驱动电机的输出端上；收卷机构包括承载板，固定在承载板上的动力电机，转动式安装在承载板上的收卷辊；卷状的基材卷绕在收卷辊上，收卷辊连接在动力电机的输出端上；引导辊机构包括承载座，转动式安装在承载座上的导辊轴，套装在导辊轴上的引导套组件；引导套组件包括导辊套，导辊套内部的两端均内置有轴承，轴承套装在导辊轴上。
2.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：真空卷绕镀膜设备还包括一个固定板，多个放卷机构中，每个放卷机构的驱动电机对应驱动该放卷机构的放卷辊，所有放卷机构的放卷辊的一端连接在该放卷机构的安装板上，另一端共同连接在固定板上。
3.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：真空卷绕镀膜设备还包括一个连接板；收卷机构为多个时，多个收卷机构中，每个收卷机构的动力电机对应驱动该收卷机构的收卷辊，所有收卷机构的收卷辊的一端连接在该收卷机构的承载板上，另一端共同连接在连接板上；收卷机构为一个时，收卷辊的一端连接在承载板上，另一端连接在连接板上。
4.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：引导辊机构的承载座有两个，导辊轴的两端均通过轴承安装在承载座上，引导套组件至少有一个。
5.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：镀膜室内设置或者不设置镀膜辊，镀膜室内设置镀膜辊时，所有的基材共同绕过该镀膜辊，在绕入和绕出镀膜辊处设置有引导辊机构。
6.按照权利要求5所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：在镀膜室内不设置镀膜辊时，所有镀膜源位于基材的同一侧或者基材的两侧均设有镀膜源。
7.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：在收卷室和放卷室内均设有引导辊机构，镀膜室内设置或不设置引导辊机构。
8.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：镀膜源为磁控靶、蒸发源、电弧源或者PECVD源。
9.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：基材为有机薄膜、金属卷材、布类、海绵或超薄玻璃。
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| CN201922460076.3U CN211142163U (zh) | 2019-12-31 | 2019-12-31 | 可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110983285A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-10 | 广东腾胜科技创新有限公司 | 可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备 |
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2019
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| CN110983285A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-10 | 广东腾胜科技创新有限公司 | 可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备 |
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