CN210314474U - 一种带隔膜阀的t型卷绕真空镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备。带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，包括镀膜室、放卷室、收卷室和基材,放卷室与镀膜室的相接处设有隔膜阀，收卷室与镀膜室的相接处设有隔膜阀，从放卷室出来的基材依次经过放卷室和镀膜室之间的隔膜阀、镀膜室、镀膜室和收卷室之间的隔膜阀、收卷室。本实用新型通过设置隔膜阀，将收、放卷室与镀膜室隔离，使得镀膜室能长期处于真空状态，提高生产效率，降低生产成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备。
背景技术
真空镀膜设备可用于汽车领域、光伏产业、消费电子等领域，具有广泛的运用前景，常用于镀制柔性基材PET/PEN/PI/PC等薄膜、金属铝材、超波玻璃等表面沉积金属膜、导电膜、合金膜、介质膜、屏蔽膜、光学膜等功能性或装饰膜层。
柔性基材的镀膜，基材和磁控靶位于同一个真空室中，基材与磁控靶材的更换都会破坏真空状态，而磁控靶材暴露在空气中容易发生氧化或粉尘表面污染，导致镀膜膜层变化，严重影响膜层质量。真空室的真空状态被破坏后，真空室内的设备表面会吸附空气中的水分，导致抽真空很慢，严重影响生产效率。
实用新型内容
针对现有技术中存在的技术问题，本实用新型的目的是：提供一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，采用隔膜阀将收、放卷室与镀膜室隔离，使得镀膜室能长期处于真空状态，提高生产效率。
为了达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，包括镀膜室、放卷室、收卷室和基材,放卷室与镀膜室的相接处设有隔膜阀，收卷室与镀膜室的相接处设有隔膜阀，从放卷室出来的基材依次经过放卷室和镀膜室之间的隔膜阀、镀膜室、镀膜室和收卷室之间的隔膜阀、收卷室。
进一步的，放卷室、收卷室和镀膜室呈T型分布，放卷室和收卷室并排设置在镀膜室的上方。
进一步的，真空镀膜设备还包括卷绕系统，卷绕系统包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、卷绕机构、收卷辊。
进一步的，放卷室的上方铰接有第一翻转门，收卷室的上方铰接有第二翻转门。
进一步的，第一翻转门和第二翻转门均连接有电动装置、气动装置或液压装置。
进一步的，真空镀膜设备还包括磁控靶，磁控靶安装在靶车上。
进一步的，靶车滑动安装在路轨上，路轨设置在镀膜室底部。
进一步的，靶车上安装有定位支撑装置。
进一步的，磁控靶为平面阴极靶或旋转阴极靶。
进一步的，镀膜室呈圆形、方形或异形。
总的说来，本实用新型具有如下优点：
本实用新型通过设置隔膜阀，将收、放卷室与镀膜室隔离，使得镀膜室能长期处于真空状态，提高生产效率，降低生产成本。
附图说明
图1是本实用新型的主视结构示意图。
图2是本实用新型的侧视图。
图3是本实用新型的俯视图。
其中，1为放卷室，2为收卷室，3为隔膜阀，4为镀膜室，5为卷绕系统，6为放卷辊，7为收卷辊，8为靶车，9为定位支撑装置，10为卷绕机构，11为路轨，12为基材，13为磁控靶，14为第一翻转门，15为第二翻转门。
具体实施方式
下面将结合附图和具体实施方式来对本实用新型做进一步详细的说明。
如图1所示，一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，包括镀膜室4、放卷室1、收卷室2和基材12,放卷室1与镀膜室4的相接处设有隔膜阀3，收卷室2与镀膜室4的相接处设有隔膜阀3，从放卷室1出来的基材12依次经过放卷室1和镀膜室4之间的隔膜阀3、镀膜室4、镀膜室4和收卷室2之间的隔膜阀3、收卷室2。放卷室1、收卷室2和镀膜室4呈T型分布，放卷室1和收卷室2一左一右的并排设置在镀膜室4的上方。真空镀膜设备还包括卷绕系统5，卷绕系统5包括沿着基材12运行路径依次设置的放卷辊6、卷绕机构10、收卷辊7。放卷室1的上方铰接有第一翻转门14，收卷室2的上方铰接有第二翻转门15。第一翻转门14和第二翻转门15均连接有电动装置、气动装置或液压装置，通过电动、气动或液压的方式实现翻转门向上翻转。
如图2和图3所示，真空镀膜设备还包括磁控靶13，磁控靶13安装在靶车8上。靶车8滑动安装在路轨11上，路轨11设置在镀膜室4底部，靶车8沿路轨11运动，将磁控靶13运送至镀膜室4中，靶车8固定不动，然后密封镀膜室4，再对镀膜室4进行抽真空等后续工艺。需要更换靶材时，移动靶车8，靶车8带动磁控靶13移出镀膜室4。靶车8上安装有定位支撑装置9，靶车8每次进出镀膜室4时，定位支撑装置9保证磁控靶13进入镀膜室4的内部后都能位于准确的设定位置上，保证镀膜效果，保证产品质量。磁控靶13为平面阴极靶或旋转阴极靶。镀膜室4呈圆形、方形或异形，异形为不规则的多边形。
在使用本实用新型时，将基材12放入到放卷室1中，基材12依次经过放卷室1中的放卷辊6、放卷室1和镀膜室4之间的隔膜阀3、镀膜室4中的卷绕机构10、镀膜室4和收卷室2之间的隔膜阀3、收卷室2中的收卷辊7，在卷绕的过程中，镀膜室4中的镀膜装置会对基材12进行镀膜。当需要更换基材12时，打开第一翻转门14，打开了第一翻转门14，就会破坏放卷室1中的真空状态，如果放卷室1和镀膜室4之间的隔膜阀3是打开的状态，那么空气就会进到镀膜室4中，从而破坏了镀膜室4的真空状态，因此，在打开第一翻转门14前，先将放卷室1和镀膜室4之间的隔膜阀3关闭，就不会破坏镀膜室4的真空状态。同样的，在打开第二翻转门15前，先将镀膜室4和收卷室2之间的隔膜阀3关闭，就不会破坏镀膜室4的真空状态。当需要更换靶材时，打开镀膜室4，打开镀膜室4前，先将隔膜阀3关闭，这样就不会破坏放卷室1和收卷室2的真空状态，放卷室1、镀膜室4、收卷室2是隔离的，这样就可以做到互相不会破坏真空状态。磁控靶13的使用周期比较长，通常是基材12更换了多次以后才需要更换磁控靶13，磁控靶13能长期处于真空状态，提高生产效率。
另一种使用方式是，当需要更换基材12时，先将基材12在放卷室1中断开，此时基材12的一端留在放卷室1中，基材12的另一端仍然经过放卷室1和镀膜室4之间的隔膜阀3、镀膜室4中的卷绕机构10、镀膜室4和收卷室2之间的隔膜阀3、收卷室2中的收卷辊7；更换基材12时，只需在放卷室1中将新的基材12粘结在原来的基材12上，就可以进行正常的镀膜工序了，也不会破坏镀膜室4的真空状态，使得镀膜室4能长期处于真空状态，提高了生产效率。
上述实施例为本实用新型较佳的实施方式，但本实用新型的实施方式并不受上述实施例的限制，其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，包括镀膜室、放卷室、收卷室和基材,其特征在于：放卷室与镀膜室的相接处设有隔膜阀，收卷室与镀膜室的相接处设有隔膜阀，从放卷室出来的基材依次经过放卷室和镀膜室之间的隔膜阀、镀膜室、镀膜室和收卷室之间的隔膜阀、收卷室。
2.根据权利要求1所述的一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，其特征在于：放卷室、收卷室和镀膜室呈T型分布，放卷室和收卷室并排设置在镀膜室的上方。
3.根据权利要求1所述的一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，其特征在于：真空镀膜设备还包括卷绕系统，卷绕系统包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、卷绕机构、收卷辊。
4.根据权利要求1所述的一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，其特征在于：放卷室的上方铰接有第一翻转门，收卷室的上方铰接有第二翻转门。
5.根据权利要求4所述的一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，其特征在于：第一翻转门和第二翻转门均连接有电动装置、气动装置或液压装置。
6.根据权利要求1所述的一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，其特征在于：真空镀膜设备还包括磁控靶，磁控靶安装在靶车上。
7.根据权利要求6所述的一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，其特征在于：靶车滑动安装在路轨上，路轨设置在镀膜室底部。
8.根据权利要求6所述的一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，其特征在于：靶车上安装有定位支撑装置。
9.根据权利要求6所述的一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，其特征在于：磁控靶为平面阴极靶或旋转阴极靶。
10.根据权利要求1所述的一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备，其特征在于：镀膜室呈圆形、方形或异形。
Priority Applications (1)
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| CN201921365979.7U CN210314474U (zh) | 2019-08-21 | 2019-08-21 | 一种带隔膜阀的t型卷绕真空镀膜设备 |
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Family
ID=70130826
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110331376A (zh) * | 2019-08-21 | 2019-10-15 | 广东腾胜科技创新有限公司 | 一种带隔膜阀的t型卷绕真空镀膜设备 |
| CN114525491A (zh) * | 2022-02-28 | 2022-05-24 | 广东腾胜科技创新有限公司 | 一种新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备及镀膜方法 |
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2019
- 2019-08-21 CN CN201921365979.7U patent/CN210314474U/zh active Active
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