CN110699658A - 可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机 - Google Patents

可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机 Download PDF

Info

Publication number
CN110699658A
CN110699658A CN201911131261.6A CN201911131261A CN110699658A CN 110699658 A CN110699658 A CN 110699658A CN 201911131261 A CN201911131261 A CN 201911131261A CN 110699658 A CN110699658 A CN 110699658A
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
chamber
plasma discharge
winding
roller
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201911131261.6A
Other languages
English (en)
Inventor
朱刚毅
朱刚劲
朱文廓
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangdong Tengsheng Technological Innovation Co Ltd
Original Assignee
Guangdong Tengsheng Technological Innovation Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangdong Tengsheng Technological Innovation Co Ltd filed Critical Guangdong Tengsheng Technological Innovation Co Ltd
Priority to CN201911131261.6A priority Critical patent/CN110699658A/zh
Publication of CN110699658A publication Critical patent/CN110699658A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325—Electric arc evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机，包括用于卷绕基材的卷绕系统和依次设置的收放卷室、隔膜阀、蒸发镀膜室、等离子放电镀膜室、隔膜阀、收放卷室；卷绕系统包括收放卷辊和镀膜辊；两个收放卷室内均设有收放卷辊，蒸发镀膜室内和等离子放电镀膜室内均设有镀膜辊，从第一个收放卷辊出来的基材依次经过隔膜阀、蒸发镀膜室内的镀膜辊、等离子放电镀膜室的镀膜辊、隔膜阀、第二个收放卷辊；蒸发镀膜室内配置有蒸发镀膜系统，蒸发镀膜系统的喷射方向朝向基材，等离子放电镀膜室内配置有等离子放电成膜系统。镀膜机可同时进行蒸发镀膜和等离子放电成膜，实现一次可镀多层膜，属于真空镀膜设备技术领域。

Description

可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机
技术领域
本发明涉及真空镀膜设备技术领域，具体涉及可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机。
背景技术
目前的多功能卷绕镀膜方法，是可以采用不同类型的镀膜方式，这些不同类型的镀膜设备可以镀不同的膜层，但这些不同类型的镀膜设备不能同时使用，需根据各自镀膜设备的镀膜方法将相应的部件拆下才能实现，只适用于实验室或小批量试产。
发明内容
针对现有技术中存在的技术问题，本发明的目的是：提供可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机，可同时进行蒸发镀膜和等离子放电成膜，实现一次可镀多层膜。
为了达到上述目的，本发明采用如下技术方案：
可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机，包括用于卷绕基材的卷绕系统和依次设置的收放卷室、隔膜阀、蒸发镀膜室、等离子放电镀膜室、隔膜阀、收放卷室；卷绕系统包括收放卷辊和镀膜辊；两个收放卷室内均设有收放卷辊，蒸发镀膜室内和等离子放电镀膜室内均设有镀膜辊，从第一个收放卷辊出来的基材依次经过隔膜阀、蒸发镀膜室内的镀膜辊、等离子放电镀膜室的镀膜辊、隔膜阀、第二个收放卷辊；蒸发镀膜室内配置有蒸发镀膜系统，蒸发镀膜系统的喷射方向朝向基材，等离子放电镀膜室内配置有等离子放电成膜系统，等离子放电成膜系统的喷射方向朝向基材。
进一步的是：卷绕系统还包括多组引导辊组，第一个收放卷辊和第一个镀膜辊之间设有引导辊组，两个镀膜辊之间设有引导辊组，第二个收放卷辊和第二个镀膜辊之间设有引导辊组。
进一步的是：蒸发镀膜室内设有隔板，蒸发镀膜系统位于隔板和蒸发镀膜室围成的密闭真空空间内；等离子放电镀膜室内设有隔板，等离子放电成膜系统位于隔板和等离子放电镀膜室围成的密闭真空空间内。
进一步的是：等离子放电镀膜室内设有多块隔板，等离子放电成膜系统有多套，等离子放电成膜系统位于由隔板和等离子放电镀膜室围成的密闭真空空间内，且每套等离子放电成膜系统位于单独的密闭真空空间内。
进一步的是：蒸发镀膜室内配置有至少一套等离子放电成膜系统，等离子放电成膜系统位于由隔板和蒸发镀膜室围成的密闭真空空间内，且等离子放电成膜系统和蒸发镀膜系统位于相互独立的密闭真空空间内，每套等离子放电成膜系统位于单独的密闭真空空间内。
进一步的是：蒸发镀膜室和等离子放电镀膜室之间设置有连通室。
进一步的是：蒸发镀膜系统为电子束蒸发镀膜系统、电阻蒸发镀膜系统或者直式电子枪蒸发镀膜系统。
进一步的是：等离子放电成膜系统为多弧离子镀膜系统或者磁控溅射镀膜系统。
总的说来，本发明具有如下优点：
镀膜机可以对基材进行多层镀膜，更有利于工艺需要的多层膜系。具有多套等离子放电成膜系统，且每套等离子放电成膜系统在独立的镀膜腔室内，每套等离子放电成膜系统可以独立镀一种膜层，这样就可以对基材进行镀制多层不同膜层。镀膜机可实现蒸发镀膜与等离子放电成膜一次完成，工艺膜层跨度大，满足不同类型工艺需求。镀膜机采用多室结构，蒸发镀膜室和等离子放电镀膜室保持真空状态，无破真空时的大气污染，从而大幅提高膜层质量和生产效率。镀膜机能适合不同基材、多层膜系、膜层厚度的制作。隔膜阀使得蒸发镀膜室和等离子放电镀膜室能长期保持真空状态，更换基材时不破真空。适用于在薄膜、金属卷材、布类、海绵、超薄玻璃等柔性材料上镀制金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等多层膜系。
附图说明
图1是本镀膜机第一种形式的结构示意图。
图2是本镀膜机第二种形式的结构示意图。
图3是本镀膜机第三种形式的结构示意图。
图4是本镀膜机第四种形式的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图和具体实施方式来对本发明做进一步详细的说明。
为了便于统一查看说明书附图里面的各个附图标记，现对说明书附图里出现的附图标记统一说明如下：
1为收放卷室，2为隔膜阀，3为蒸发镀膜室，4为收放卷辊，5为镀膜辊，6为蒸发镀膜系统，7为等离子放电成膜系统，8为隔板，9为连通室，10为引导辊组，11为等离子放电镀膜室。
结合图1、图2、图3、图4所示，可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机，包括用于卷绕基材的卷绕系统和依次设置的收放卷室、隔膜阀、蒸发镀膜室、等离子放电镀膜室、隔膜阀、收放卷室。卷绕系统是用来卷绕基材的，基材在卷绕系统的引导和限制下运行。收放卷室和隔膜阀均有两个，第一个收放卷室、第一个隔膜阀、蒸发镀膜室、等离子放电镀膜室、第二个隔膜阀、第二个收放卷室依次设置，且基材依次经过它们。卷绕系统包括收放卷辊和镀膜辊；收放卷辊和镀膜辊均有两个，两个收放卷室内均设有收放卷辊，即两个收放卷辊分别设置在两个收放卷室内，蒸发镀膜室内和等离子放电镀膜室内均设有镀膜辊。从第一个收放卷辊出来的基材依次(即先后)经过隔膜阀(第一个隔膜阀)、蒸发镀膜室内的镀膜辊(第一个镀膜辊)、等离子放电镀膜室的镀膜辊(第二个镀膜辊)、隔膜阀(第二个隔膜阀)、第二个收放卷辊。蒸发镀膜室内配置有蒸发镀膜系统，蒸发镀膜系统的喷射方向朝向基材，等离子放电镀膜室内配置有等离子放电成膜系统，等离子放电成膜系统的喷射方向朝向基材。
卷绕系统还包括多组引导辊组，第一个收放卷辊和第一个镀膜辊之间设有引导辊组(第一组引导辊组)，两个镀膜辊之间设有引导辊组(第二组引导辊组)，第二个收放卷辊和第二个镀膜辊之间设有引导辊组(第三组引导辊组)。基材依次绕过第一个收放卷辊、第一组引导辊组、第一个镀膜辊、第二组引导辊组、第二个镀膜辊、第三组引导辊组、第二个收放卷辊。结合图1所示，基材在这个卷绕系统上从左到右然后再从右到左依次往复多次运行。
结合图1、图2所示，蒸发镀膜室内的设置有多种情况，第一种情况是：蒸发镀膜室内设有隔板，蒸发镀膜系统位于隔板和蒸发镀膜室围成的密闭真空空间内。第二种情况是：蒸发镀膜室没有设置隔板，整个蒸发镀膜室是真空状态。第三种情况是：蒸发镀膜室内配置有蒸发镀膜系统、至少一套等离子放电成膜系统、且配置有多块隔板，等离子放电成膜系统位于由隔板和蒸发镀膜室围成的密闭真空空间内，蒸发镀膜系统位于由隔板和蒸发镀膜室围成的密闭真空空间内，且等离子放电成膜系统和蒸发镀膜系统位于相互独立的密闭真空空间内，每套等离子放电成膜系统位于单独的密闭真空空间内，即隔板将蒸发镀膜系统和每一套等离子放电成膜系统单独隔离在独立的镀膜腔室。
结合图2、图3、图4所示，等离子放电镀膜室内的设置有多种情况，第一种情况是：等离子放电镀膜室内设有隔板，等离子放电成膜系统有多套，所有的等离子放电成膜系统位于隔板和等离子放电镀膜室围成的密闭真空空间内。第二种情况是：等离子放电镀膜室内设有多块隔板，等离子放电成膜系统有多套，等离子放电成膜系统位于由隔板和等离子放电镀膜室围成的密闭真空空间内，且每套等离子放电成膜系统位于单独的密闭真空空间内，即用隔板将每一套等离子放电成膜系统单独隔离在独立的镀膜腔室内。
蒸发镀膜室和等离子放电镀膜室的每一种情况的组合可以进行多元化镀膜，可以对基材进行多层镀膜，更有利于工艺需要的多层膜系。具有多套等离子放电成膜系统，且每套等离子放电成膜系统在独立的镀膜腔室内，每套等离子放电成膜系统可以独立镀一种膜层，这样就可以对基材进行镀制多层不同膜层。镀膜机可实现蒸发镀膜与等离子放电成膜一次完成，工艺膜层跨度大，满足不同类型工艺需求。镀膜机采用多室结构，蒸发镀膜室和等离子放电镀膜室保持真空状态，无破真空时的大气污染，从而大幅提高膜层质量和生产效率。镀膜机能适合不同基材、多层膜系、膜层厚度的制作。
蒸发镀膜室和等离子放电镀膜室之间设置有连通室，可在连通室内设置隔膜阀。
蒸发镀膜系统为电子束蒸发镀膜系统、电阻蒸发镀膜系统或者直式电子枪蒸发镀膜系统。
等离子放电成膜系统为多弧离子镀膜系统或者磁控溅射镀膜系统。
一个隔膜阀将收放卷室与蒸发镀膜室隔离开来，另一个隔膜阀将收放卷室与等离子放电镀膜室隔离开来，使得蒸发镀膜室和等离子放电镀膜室能长期保持真空状态，更换基材时不破真空，即不会破坏蒸发镀膜室和等离子放电镀膜室的真空状态。例如，当需要更换基材时，需要打开收放卷室，如果隔膜阀是打开的状态，收放卷室和蒸发镀膜室或者等离子放电镀膜室是连通的，那么空气就会进到蒸发镀膜室或者等离子放电镀膜室中，从而破坏了蒸发镀膜室或者等离子放电镀膜室的真空状态，因此，在打开打开收放卷室前，先将隔膜阀关闭，就不会破坏蒸发镀膜室或者等离子放电镀膜室的真空状态。
基材通过卷绕系统的往复功能，可以实现基材的正向卷绕，即第一个收放卷辊(放卷)→第一个镀膜辊(蒸发镀膜)→第二个镀膜辊(等离子放电成膜)→第二个收放卷辊(收卷)，也可以实现基材的反向卷绕，即第二个收放卷辊(放卷)→第二个镀膜辊(等离子放电成膜)→第一个镀膜辊(蒸发镀膜)→第一个收放卷辊(收卷)。可按照工艺需求进行镀膜。
上述实施例为本发明较佳的实施方式，但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制，其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机，其特征在于：包括用于卷绕基材的卷绕系统和依次设置的收放卷室、隔膜阀、蒸发镀膜室、等离子放电镀膜室、隔膜阀、收放卷室；卷绕系统包括收放卷辊和镀膜辊；两个收放卷室内均设有收放卷辊，蒸发镀膜室内和等离子放电镀膜室内均设有镀膜辊，从第一个收放卷辊出来的基材依次经过隔膜阀、蒸发镀膜室内的镀膜辊、等离子放电镀膜室的镀膜辊、隔膜阀、第二个收放卷辊；蒸发镀膜室内配置有蒸发镀膜系统，蒸发镀膜系统的喷射方向朝向基材，等离子放电镀膜室内配置有等离子放电成膜系统，等离子放电成膜系统的喷射方向朝向基材。
2.按照权利要求1所述的可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机，其特征在于：卷绕系统还包括多组引导辊组，第一个收放卷辊和第一个镀膜辊之间设有引导辊组，两个镀膜辊之间设有引导辊组，第二个收放卷辊和第二个镀膜辊之间设有引导辊组。
3.按照权利要求1所述的可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机，其特征在于：蒸发镀膜室内设有隔板，蒸发镀膜系统位于隔板和蒸发镀膜室围成的密闭真空空间内；等离子放电镀膜室内设有隔板，等离子放电成膜系统位于隔板和等离子放电镀膜室围成的密闭真空空间内。
4.按照权利要求1所述的可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机，其特征在于：等离子放电镀膜室内设有多块隔板，等离子放电成膜系统有多套，等离子放电成膜系统位于由隔板和等离子放电镀膜室围成的密闭真空空间内，且每套等离子放电成膜系统位于单独的密闭真空空间内。
5.按照权利要求3所述的可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机，其特征在于：蒸发镀膜室内配置有至少一套等离子放电成膜系统，等离子放电成膜系统位于由隔板和蒸发镀膜室围成的密闭真空空间内，且等离子放电成膜系统和蒸发镀膜系统位于相互独立的密闭真空空间内，每套等离子放电成膜系统位于单独的密闭真空空间内。
6.按照权利要求1所述的可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机，其特征在于：蒸发镀膜室和等离子放电镀膜室之间设置有连通室。
7.按照权利要求1所述的可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机，其特征在于：蒸发镀膜系统为电子束蒸发镀膜系统、电阻蒸发镀膜系统或者直式电子枪蒸发镀膜系统。
8.按照权利要求1所述的可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机，其特征在于：等离子放电成膜系统为多弧离子镀膜系统或者磁控溅射镀膜系统。
CN201911131261.6A 2019-11-19 2019-11-19 可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机 Pending CN110699658A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911131261.6A CN110699658A (zh) 2019-11-19 2019-11-19 可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911131261.6A CN110699658A (zh) 2019-11-19 2019-11-19 可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110699658A true CN110699658A (zh) 2020-01-17

Family

ID=69207168

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911131261.6A Pending CN110699658A (zh) 2019-11-19 2019-11-19 可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110699658A (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111197156A (zh) * 2020-02-21 2020-05-26 王殿儒 一种多弧型带材真空连续镀膜系统
CN112030101A (zh) * 2020-09-05 2020-12-04 昆山鑫美源电子科技有限公司 一种多层复合结构的铝基导电薄膜的制备方法
CN113416941A (zh) * 2021-06-29 2021-09-21 辽宁分子流科技有限公司 一种用于卷对卷设备的卷辊更换装置
CN114086148A (zh) * 2021-11-23 2022-02-25 重庆金美新材料科技有限公司 一种连续多卷高效镀膜机及其镀膜工艺

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012149284A (ja) * 2011-01-17 2012-08-09 Sumitomo Metal Mining Co Ltd ロール・トゥ・ロール方式真空両面成膜装置および両面金属ベース層付樹脂フィルム製造装置
CN105349961A (zh) * 2015-11-30 2016-02-24 广东腾胜真空技术工程有限公司 多辊多室卷绕镀膜装置
CN107236933A (zh) * 2017-08-03 2017-10-10 肇庆市科润真空设备有限公司 一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备及方法
CN109554680A (zh) * 2019-02-12 2019-04-02 浙江德佑新材料科技有限公司 一种卷绕式真空镀膜机
CN110331376A (zh) * 2019-08-21 2019-10-15 广东腾胜科技创新有限公司 一种带隔膜阀的t型卷绕真空镀膜设备
CN210886216U (zh) * 2019-11-19 2020-06-30 广东腾胜科技创新有限公司 可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012149284A (ja) * 2011-01-17 2012-08-09 Sumitomo Metal Mining Co Ltd ロール・トゥ・ロール方式真空両面成膜装置および両面金属ベース層付樹脂フィルム製造装置
CN105349961A (zh) * 2015-11-30 2016-02-24 广东腾胜真空技术工程有限公司 多辊多室卷绕镀膜装置
CN107236933A (zh) * 2017-08-03 2017-10-10 肇庆市科润真空设备有限公司 一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备及方法
CN109554680A (zh) * 2019-02-12 2019-04-02 浙江德佑新材料科技有限公司 一种卷绕式真空镀膜机
CN110331376A (zh) * 2019-08-21 2019-10-15 广东腾胜科技创新有限公司 一种带隔膜阀的t型卷绕真空镀膜设备
CN210886216U (zh) * 2019-11-19 2020-06-30 广东腾胜科技创新有限公司 可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
陆培文等编著: "《阀门选用手册》", 31 May 2001, 机械工业出版社, pages: 377 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111197156A (zh) * 2020-02-21 2020-05-26 王殿儒 一种多弧型带材真空连续镀膜系统
CN111197156B (zh) * 2020-02-21 2022-07-08 王殿儒 一种多弧型带材真空连续镀膜系统
CN112030101A (zh) * 2020-09-05 2020-12-04 昆山鑫美源电子科技有限公司 一种多层复合结构的铝基导电薄膜的制备方法
CN113416941A (zh) * 2021-06-29 2021-09-21 辽宁分子流科技有限公司 一种用于卷对卷设备的卷辊更换装置
CN114086148A (zh) * 2021-11-23 2022-02-25 重庆金美新材料科技有限公司 一种连续多卷高效镀膜机及其镀膜工艺

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110699658A (zh) 可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机
CN210886216U (zh) 可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机
CN109554680B (zh) 一种卷绕式真空镀膜机
CN107245701A (zh) 一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机及镀膜方法
CN106011798A (zh) 基于pecvd的石墨烯薄膜镀膜设备及方法
US11352697B2 (en) Apparatus for processing long base material by roll-to-roll method and film forming apparatus using the same
CN104775102B (zh) 卷对卷磁控溅射阴极与柱状多弧源相结合的真空镀膜系统
CN217418806U (zh) 一种柔性薄膜材料卷对卷镀制厚铜膜装置
CN103290385A (zh) 卷对卷立式磁控镀膜装置
CN216891172U (zh) 一种电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设备
JP4430165B2 (ja) 真空薄膜形成装置および真空薄膜形成方法
CN108374150B (zh) 一种真空镀膜设备
CN203411601U (zh) 分区多靶磁控溅射设备
WO2019105534A1 (en) Deposition apparatus, method of coating a flexible substrate and flexible substrate having a coating
CN216891198U (zh) 一种新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备
EP3872237B1 (en) Apparatus and method for manufacturing resin film provided with metal membrane
KR20070106462A (ko) 플라즈마 지원에 의해 피착된 얇은 시드층에 의한 금속화
CN216891196U (zh) 一种多镀膜辊的双面镀膜卷对卷设备
CN110684944A (zh) 一种双面铝金属化聚丙烯薄膜及其制备方法和电容器芯子
CN203653696U (zh) 软基材双面镀膜装置
JP2021513004A (ja) 堆積装置、フレキシブル基板をコーティングする方法、及びコーティングを有するフレキシブル基板
CN103741121B (zh) 软基材双面镀膜装置
CN114875368A (zh) 双蒸发源与等离子体镀膜源结合的新型真空镀膜设备
EP3872907B1 (en) Film and manufacturing process thereof
WO2021009386A1 (en) Metallized film, apparatus for manufacturing a metallized film, method for manufacturing a metallized film and film capacitor comprising the metallized film

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination