CN101649447B - 太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。一种太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，包括开卷机组(10)，其主要特点设置的真空镀膜室包括有A低真空室(20a、20b)，离子处理室(30)，B低真空室(40)，高真空室(50)，5个真空镀膜室(60)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；A低真空室(20a、20b)、离子处理室(30)、B低真空室(40)、高真空室(50)、真空镀膜室(60)与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜，膜层厚度可独立进行控制，膜层均匀致密，附着力强适合工业化生产。

Description

太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置
技术领域
本发明涉及太阳能集热器技术领域，具体涉及一种太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置。
背景技术
平板型太阳集热器是集热器中一种基本的类型，结构简单、运行稳定可靠、成本适宜，还具有承压能力强、吸热面积大等特点，是太阳能与建筑结合最佳选择的集热器类型之一。太阳能选择性吸收膜是其核心部件之一，其性能好坏以及成本直接决定了集热器的热效率以及制造成本。
对于太阳能选择性吸收膜的制备方法大体分为化学涂层法和真空镀膜法两种。如专利ZL91104451.5公开了一种通过直流阳极氧化和交流电解方法制备太阳能选择性吸收层的方法及设备，该设备较为简单，且可以实现连续的生产，但制备的吸收膜层材料较为单一，因此吸收效率较低，且制备过程污染严重。国际上较为先进的制备选择性吸收膜的方法多采用真空镀膜技术。真空镀膜技术生产工艺不存在污染问题，膜光学性能优良。但就目前所公开的真空镀膜方法存在以下的缺点：(1)镀制膜层材料单一，从而影响选择性吸收膜的吸收效率；(2)各功能膜层的制备不能在同一真空室体中连续进行，不但影响生产效率，更为主要的是环境对膜层存在污染，从而影响薄膜效率，如专利99126652.8公开了一种光-热转换效率较高，机械强度较大且制造工艺相对简单的太阳能选择性吸收涂层及制备方法，其创新点为设计有活化金属层由偏压溅镀完成，铝/氧/氮复合层由磁控溅镀完成。对应于现有技术的真空镀膜设备则为间歇式真空镀膜设备，但这类设备存在以下缺点：(1)每完成一个工序，都要打开真空室门，装卸带卷，生产效率低，不适合工业连续生产，如专利200810020179.1公开了一种太阳能选择性吸收涂层及其制备方法，制备工艺为将基体装入镀膜机中、负电压轰击清洗基体，随后通负偏压，使钛靶通电，沉积TiN层；随后通入氧气，沉积TiO层和TiO2。接着使SiO2靶通电，通入氩气和氧气，沉积减反射层。(2)镀膜参数难以保证一致，产品质量一致性差；(3)靶材由于冷却不良，每次装卸基片，暴露大气后有一定程度的氧化和污染，影响膜层质量。
发明内容
本发明的目的在于避免现有技术的不足，提供一种太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜、膜层厚度可独立进行控制、膜层均匀致密、附着力强、适合工业化生产。
为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：一种太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，包括开卷机组(10)，其主要特点设置的真空镀膜室包括有A低真空室(20a、20b)，离子处理室(30)，B低真空室(40)，高真空室(50)，5个真空镀膜室(60)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；A低真空室(20a、20b)、离子处理室(30)、B低真空室(40)、高真空室(50)、真空镀膜室(60)与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。
所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，所述的开卷机组(10)包括：上卷滚轮(10-1)，开卷滚轮(10-2)，在上卷滚轮(10-1)与开卷滚轮(10-2)的前方设有切头(10-3)、焊接(10-4)；在1#S辊(10-5)和2#S辊(10-7)之间设有入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)；在2#S辊(10-7)之后设有清洗系统(10-8)，热风干燥(10-9)。
所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，所述的A低真空室(20a、20b)包括有室体(20-1)，其内设有隔板(20-1-1)将室体(20-1)分隔成2-6个真空室；隔板(20-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(20-1)的入口处或出口处或室体(20-1)部隔板的窗口(2)处设有密封输送辊装置(20-2)，动力驱动机构(20-3)设于密封输送辊装置(20-2)上；室体(20-1)的上部设有上盖(20-4)，其间设有上盖密封装置(20-6)，下部设有机架(20-5)；室体连接处设有密封装置(20-7)；室体(20-1)内与滑阀泵机组(90-1、90-2)、罗茨泵(90-3)相连通；A低真空室(20a、20b)的真空度为300Pa-2000Pa。
所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，所述的密封输送辊装置(20-2)包括相互平行的两个橡胶辊(20-2-3)支撑于两端的轴承座(20-2-5)上，传动齿轮(20-2-1)分别设于两个橡胶辊(20-2-3)的两端，在橡胶辊(20-2-3)轴的一端连接有动力驱动机构(20-3)；在橡胶辊(20-2-3)轴的两端设有弹簧(20-2-2)，密封板(20-2-4)设于橡胶辊(20-2-3)上；在金属薄板带(1)通过的窗口(2)的两侧设有通过密封垫(20-2-6)与室体连接的联结座(20-2-7)，其上设有弹簧片(20-2-8)，将塑料板(20-2-9)压紧在两个橡胶辊(20-2-3)上。
所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，所述的离子处理室(30)包括有室体(30-1)，其内设有隔板(30-1-1)将室体(30-1)分隔成2-4个真空室；在室体(30-1)的两端及隔板(30-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(30-1)内设有高压离子处理系统(30-2)；在室体(30-1)内设有布气系统(30-3)；室体(30-1)的上部设有上盖(30-4)，其间设有上盖密封装置(30-7)，中部设有观察窗(30-5)，下部设有机架(30-6)；室体连接处设有密封装置(30-8)；室体(30-1)内与滑阀泵机组、罗茨泵(90-4)相连通；离子处理室(30)的真空度为1Pa-5Pa。
所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，所述的B低真空室(40)包括有室体(40-1)，其内设有隔板(40-1-1)将室体(40-1)分隔成2-4个真空室；在室体(40-1)的两端及隔板(40-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；室体(40-1)的上部设有上盖(40-2)，其间设有上盖密封装置(40-3)，中部设有观察窗(40-5)，下部设有机架(40-6)；室体连接处设有密封装置(40-4)；室体(40-1)内与滑阀泵机组、罗茨泵(90-5)相连通；B低真空室(40)的真空度为1Pa-350Pa。
所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，所述的高真空室(50)包括有室体(50-1)，其内设有隔板(50-1-1)将室体(50-1)分隔成2-4个真空室；在室体(50-1)的两端及隔板(50-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；室体(50-1)的上部设有上盖(50-2)，其间设有上盖密封装置(50-4)，下部设有机架(50-3)；室体连接处设有密封装置(50-5)；室体(50-1)内与扩散泵、滑阀泵机组、罗茨泵(90-6)相连通；高真空室(50)的真空度为7×10-3Pa-5Pa。
所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，所述的镀膜室(60)包括有室体(60-1)；其内设有隔板(60-1-1)将室体(60-1)分隔成2-4个真空室；在室体(60-1)的两端及隔板(60-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(60-1)内设有平面磁控靶或电子抢(60-3)；室体(60-1)的上部设有上盖(60-2)，其间设有上盖密封装置(60-6)，中部设有观察窗(60-4)，下部设有机架(60-5)；室体连接处设有密封装置(60-7)；镀膜室(60)的真空度为0.1Pa-1Pa。
所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，所述的收卷机组(80)包括有在真空镀膜室外金属薄板带(1)上设有贴保护膜机构(80-1)，3#S辊(80-2)与4#S辊(80-4)之间设有出口金属薄板带(1)张紧轮系统(80-3)；在4#S辊(80-4)之后设有剪切(80-5)，夹送辊(80-6)，卷取(80-7)，卸卷(80-8)。
所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，所述的连续镀膜装置的控制系统(100)包括有计算机集中控制机柜(100-1)，过程控制接口模块机柜(100-2)，真空系统控制机柜(100-3)，传动系统控制机柜(100-4)，真空离子处理电源机柜连续镀膜电源机柜(100-5)，收卷操作辅助控制机柜(100-6)和开卷操作辅助控制机柜(100-7)。
本发明的有益效果是：(1)设备各部件正确组合的总体布置方案及配置；(2)空气-空气真空连续镀膜的动密封结构；(3)镀膜源可根据工艺需要进行多种组合。该生产线采用计算机全自动控制技术，具有丰富的人机界面，操作方便。该生产线采用空气-空气的真空连续镀膜方式，镀膜效率高，镀膜过程环保无污染、可镀制多种膜、多层膜、膜层质量好。
附图说明
图1为本发明的主视示意图；
图2为本发明的开卷机组(10)主视示意图；
图3为本发明的A低真空室(20a、20b)主视示意图；
图4a为本发明的密封输送辊装置(20-2)主视示意图；
图4b为图5a的左视示意图；
图5为本发明的离子处理室(30)主视示意图；
图6为本发明的B低真空室(40)主视示意图；
图7为本发明的高真空室(50)主视示意图；
图8为本发明的镀膜室(60)主视示意图；
图9为本发明的收卷机组(80)主视示意图；
图10为本发明的控制系统(100)主视示意图。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本发明，并非用于限定本发明的范围。
实施例1：
见图1，一种太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，包括开卷机组10，设置的真空镀膜室包括有A低真空室20a、20b，离子处理室30，B低真空室40，高真空室50，5个真空镀膜室60，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带1通过的窗口2；A低真空室20a、20b、离子处理室30、B低真空室40、高真空室50、真空镀膜室60与真空机组90相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组80，连续镀膜的控制系统100。
见图2，所述的开卷机组10包括有上卷滚轮10-1，开卷滚轮10-2，在上卷滚轮10-1与开卷滚轮10-2的前方设有切头10-3、焊接10-4；在1#S辊10-5和2#S辊10-7之间设有入口金属薄板带1张紧轮系统10-6；在2#S辊10-7之后设有清洗系统10-8，热风干燥10-9。
见图3，所述的A低真空室20a、20b包括有室体20-1，其内设有隔板20-1-1将室体20-1分隔成4个真空室；隔板20-1-1上设有金属薄板带1通过的窗口2；在室体20-1的入口处或出口处或室体20-1中部隔板的窗口2处设有密封输送辊装置20-2，动力驱动机构20-3设于密封输送辊装置20-2上；室体20-1的上部设有上盖20-4，其间设有上盖密封装置20-6，下部设有机架20-5；室体连接处设有密封装置20-7；室体20-1内与滑阀泵机组90-1、90-2、罗茨泵90-3相连通。A低真空室(20a、20b)的真空度为300Pa-200Pa。室体中间位置通过3套密封辊装置把室体分隔成三至五部分，从进料C低真空室，20b为从出料端，开始每部分真空度有一个阶梯形的降低，经过A低真空室20a、C低真空室20b后真空度可达到5Pa以下。室体根据制造需要，可做成整体或分两件。
见图4，所述的密封输送辊装置20-2包括相互平行的两个橡胶辊20-2-3支撑于两端的轴承座20-2-5上，传动齿轮20-2-1分别设于两个橡胶辊20-2-3的两端，在橡胶辊20-2-3轴的一端连接有动力驱动机构20-3；在橡胶辊20-2-3轴的两端设有弹簧20-2-2，密封板20-2-4设于橡胶辊20-2-3上；在金属薄板带1通过的窗口2的两侧设有通过密封垫20-2-6与室体连接的联结座20-2-7，其上设有弹簧片20-2-8，将塑料板20-2-9压紧在两个橡胶辊20-2-3上。
见图5，所述的离子处理室30包括有室体30-1，其内设有隔板30-1-1将室体30-1分隔成2个真空室；在室体30-1的两端及隔板30-1-1上设有金属薄板带1通过的窗口2；在室体30-1内设有高压离子处理系统30-2；在室体30-1内设有布气系统30-3；室体30-1的上部设有上盖30-4，其间设有上盖密封装置30-7，中部设有观察窗30-5，下部设有机架30-6；室体连接处设有密封装置30-8；室体30-1内与滑阀泵机组、罗茨泵90-4相连通；离子处理室(30)的真空度为1Pa-5Pa。
见图6，所述的B低真空室40包括有室体40-1，其内设有隔板40-1-1将室体40-1分隔成2个真空室；在室体40-1的两端及隔板40-1-1上设有金属薄板带1通过的窗口2；室体40-1的上部设有上盖40-2，其间设有上盖密封装置40-3，中部设有观察窗40-5，下部设有机架40-6；室体连接处设有密封装置40-4；室体40-1内与滑阀泵机组、罗茨泵90-5相连通；B低真空室(40)的真空度为1Pa-350Pa。室内真空度可达到5Pa以下。
见图7，所述的高真空室50包括有室体50-1，其内设有隔板50-1-1将室体50-1分隔成2个真空室；在室体50-1的两端及隔板50-1-1上设有金属薄板带1通过的窗口2；室体50-1的上部设有上盖50-2，其间设有上盖密封装置50-4，下部设有机架50-3；室体连接处设有密封装置50-5；室体50-1内与扩散泵、滑阀泵机组、罗茨泵90-6相连通；高真空室(50)的真空度为7×10-3Pa-5Pa。室内极限压力可达到1×10-3Pa以下。高真空室在镀膜室两侧各设置一个。
见图8，所述的镀膜室60包括有室体60-1；其内设有隔板60-1-1将室体60-1分隔成2个真空室；在室体60-1的两端及隔板60-1-1上设有金属薄板带1通过的窗口2；在室体60-1内设有平面磁控靶或电子抢60-3；室体60-1的上部设有上盖60-2，其间设有上盖密封装置60-6，中部设有观察窗60-4，下部设有机架60-5；室体连接处设有密封装置60-7；镀膜室(60)的真空度为0.1Pa-1Pa。
见图9，所述的收卷机组80包括有在真空镀膜室外金属薄板带1上设有贴保护膜机构80-1，3#S辊80-2与4#S辊80-4之间设有出口金属薄板带1张紧轮系统80-3；在4#S辊80-4之后设有剪切80-5，夹送辊80-6，卷取80-7，卸卷80-8。
见图10，所述的连续镀膜装置的控制系统100包括有计算机集中控制机柜100-1，过程控制接口模块机柜100-2，真空系统控制机柜100-3，传动系统控制机柜100-4，真空离子处理电源机柜连续镀膜电源机柜100-5，收卷操作辅助控制机柜100-6和开卷操作辅助控制机柜100-7。
计算机集中控制机柜100-1通过触摸屏等人机接口，以图形、表格和棒图等形式实时显示从生产线各控制器接受的数据，并将操作员的指令传送给控制器，完成生产线中传动系统、真空抽气系统、镀膜工艺系统和辅助控制系统的参数控制和管理、过程控制、设备故障诊断、人机交互等功能。
过程控制接口模块机柜100-2主要负责生产线各工艺控制环节模拟量的采集、输出和实时控制；
真空系统控制机柜100-3，根据计算机控制机柜的指令实现对生产线真空抽气系统的控制，为镀膜生产线获得持续的高真空工作环境；
传动系统控制机柜100-4，根据计算机控制机柜的指令实现生产线多传动系统开卷段、收卷段和工艺段的调速控制和张力控制和纠偏控制。
收卷操作辅助控制机柜100-6和开卷操作辅助控制机柜100-7主要实现系统上料卷、卸料卷、预设张力、转动点动的辅助功能。提高连续镀膜生产线的工作效率。
使用时，所述的开卷机组的上卷小车，位于开卷机的卷筒下面，将金属薄板带从入口鞍座上到开卷机卷筒上，开卷机设置有自动对中装置，当带卷安装位置同设定位置有偏差时，可自动进行修正；通过开卷机的转动，使板带通过向前夹送的夹送辊，然后通过夹送辊向前将板带送至入口剪，由入口剪去此板带的带头，板带通过焊机进入1#S辊；此时，另一个上卷小车按前面所述步骤将板带送至入口剪处，当前一卷板带的带尾到达入口剪时，通过入口剪剪切此卷的带尾及后一卷的带头，然后一起到达焊机处进行焊接，焊接后的带材继续匀速向前通过1号S辊，带材在1号S辊的驱动下进入入口活套，入口活套用于先储存金属薄板带，以保证机组入口段在金属薄板带停止并进行焊接工作时，入口活套释放板带以使工艺段金属薄板带仍能连续稳定的运行；在入口活套后面布置有2号S辊，板带经过2号S辊后，在2号S辊的输送作用下，板带通过后面的清洗装置进行清洗；板带经过清洗后，经过挤干纠偏装置，对板带起去除水分及纠偏矫正的作用；在挤干纠偏装置后布置有热风干燥装置，通过向板带表面喷吹高速热风，来吹干脱脂留在板带表面的水分。板带经过挤干纠偏装置后进入A低真空室20a，然后依次通过离子处理室30、B低真空室40、高真空室50、镀膜室60、C低真空室20b，到达收卷机组；在收卷机组，板带镀膜的一面通过贴膜装置在其表面贴上保护的塑料薄膜或纸，板带继续向前，通过3号S辊，通过3号S辊的引送进入出口活套，出口用于在卸膜板带停止时储存金属薄板带，以保证在板带停止并进行焊接工作时，工艺段板带仍能连续稳定的运行，在换卷完成后，释放板带，以备下次卸卷储存板带；板带经过出口活套后进入4号S辊，在其引送下通过压剪机及夹送辊，到达收卷机进行收卷，当带卷卷径达到一定大小后，通过压剪把板带剪断，换卷后进行新卷的收卷。
在完成穿带后，各低真空室同时进行抽真空，在高真空室真空度达到5Pa以下时，采用高真空机组对高真空室进行抽真空。在离子处理室真空达到一定真空度后，通过布气系统向室内充入N2，利用离子处理器对板带进行表面处理；同时，在镀膜室达到一定的真空度时，采用镀膜系统(电子束蒸发或磁控溅射系统)对板带表面进行镀膜处理；板带的传动速度及镀膜功率大小根据工艺要求进行调节。
应用例：一种高性能多层复合太阳选择性吸收涂层的镀膜，包括有在基体上顺序设有远红外反射层、复合热吸收层和抗氧化和减反射层，远红外反射层为溅射沉积在基体上的Al层；复合热吸收层为溅射沉积在远红外反射层上的TiNOx层，抗氧化和减反射层为溅射沉积在复合热吸收层上的SiO2层。所述的基体为磷脱氧铜带或无氧铜带或铝带。所述远红外反射层的厚度为100～120nm。所述复合热系数层的厚度为100～120nm。所述抗氧化和减反射层的厚度为60～70nm。
其步骤为：①将进行预处理后的基体装入卧室磁控溅射镀膜机中，并将卧室磁控溅射镀膜机的真空室的真空度抽至2.0×10-2～8.0×10-3；所述的预处理为高压离子清洁，充入氮气，压力2～5Pa，电压轰击3200～3500V，电流2～4A。②向真空室内通入纯度为99.95％的氩气，使真空度为6.5×10-2～9.0×10-2Pa，在氩气气氛中接通直流负电压轰击清洗基体5min，去除基体表面杂质，活化基体表面；③向真空室内通入纯度为99.95％的氩气，起铝靶，在基体上沉积Al层，其中Ar流量为260sccm，气压为6.5×10-2Pa，直流电压为580V，电流为100A，沉积时间为300s，Al层的厚度为100～200nm；④向真空室内通入纯度为99.95％的氩气，起钛靶，在基体上沉积Ti层，其中Ar流量为170sccm，气压为7.5×10-2Pa，直流电压为640V，电流为35A，沉积时间为300s；然后向真空室内通入纯度均为99.95％的氩气和乙炔，起钛靶，在基体上沉积TiC层，其中Ar流量为170sccm，C2H2流量为120sccm，气压为5.7×10-2Pa，直流电压为660V，电流为29A，时间为300s，Ti+TiC层的厚度为50～100nm；⑤向真空室内通入纯度均为99.95％的氩气、氧气和氮气，起钛靶，在基体上沉积TiNOx层，其中Ar流量为60sccm，N2流量为90sccm，O2流量为100sccm，气压为0.11Pa，直流电压为440～490V，电流为37A，时间为30min，TiNOx层的厚度为100～200nm；⑥向真空室内通入纯度均为99.95％的氩气和氧气，起硅靶，在基体上沉积SiO2层，其中Ar流量为60sccm，O2流量为120sccm，气压为0.2Pa，直流电压为400～450V，电流为39A，时间为10min，SiO2层的厚度为60～100nm。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，包括开卷机组(10)，其特征在于设置的真空镀膜室包括有A低真空室(20a、20b)，离子处理室(30)，B低真空室(40)，高真空室(50)，5个真空镀膜室(60)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；A低真空室(20a、20b)、离子处理室(30)、B低真空室(40)、高真空室(50)、各真空镀膜室与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)；所述的A低真空室(20a、20b)包括有室体(20-1)，其内设有隔板(20-1-1)将室体(20-1)分隔成2-6个真空室；隔板(20-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(20-1)的入口处或出口处或室体(20-1)中部隔板的窗口(2)处设有密封输送辊装置(20-2)，动力驱动机构(20-3)设于密封输送辊装置(20-2)上；室体(20-1)的上部设有上盖(20-4)，其间设有上盖密封装置(20-6)，下部设有机架(20-5)；室体连接处设有密封装置(20-7)；室体(20-1)内与滑阀泵机组(90-1、90-2)、罗茨泵(90-3)相连通；A低真空室(20a、20b)的真空度为300Pa-2000Pa；所述的密封输送辊装置(20-2)包括相互平行的两个橡胶辊(20-2-3)支撑于两端的轴承座(20-2-5)上，传动齿轮(20-2-1)分别设于两个橡胶辊(20-2-3)的两端，在橡胶辊(20-2-3)轴的一端连接有动力驱动机构(20-3)；在橡胶辊(20-2-3)轴的两端设有弹簧(20-2-2)，密封板(20-2-4)设于橡胶辊(20-2-3)上；在金属薄板带(1)通过的窗口(2)的两侧设有通过密封垫(20-2-6)与室体连接的联结座(20-2-7)，其上设有弹簧片(20-2-8)，将塑料板(20-2-9)压紧在两个橡胶辊(20-2-3)上。
2.如权利要求1所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，其特征在于：所述的开卷机组(10)包括：上卷滚轮(10-1)，开卷滚轮(10-2)，在上卷滚轮(10-1)与开卷滚轮(10-2)的前方设有切头(10-3)、焊接(10-4)；在1#S辊(10-5)和2#S辊(10-7)之间设有入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)；在2#S辊(10-7)之后设有清洗系统(10-8)，热风干燥(10-9)。
3.权利要求1所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，其特征在于：所述的离子处理室(30)包括有室体(30-1)，其内设有隔板(30-1-1)将室体(30-1)分隔成2-4个真空室；在室体(30-1)的两端及隔板(30-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(30-1)内设有高压离子处理系统(30-2)；在室体(30-1)内设有布气系统(30-3)；室体(30-1)的上部设有上盖(30-4)，其间设有上盖密封装置(30-7)，中部设有观察窗(30-5)，下部设有机架(30-6)；室体连接处设有密封装置(30-8)；室体(30-1)内与滑阀泵机组、罗茨泵(90-4)相连通；离子处理室(30)的真空度为1Pa-5Pa。
4.权利要求1所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，其特征在于：所述的B低真空室(40)包括有室体(40-1)，其内设有隔板(40-1-1)将室体(40-1)分隔成2-4个真空室；在室体(40-1)的两端及隔板(40-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；室体(40-1)的上部设有上盖(40-2)，其间设有上盖密封装置(40-3)，中部设有观察窗(40-5)，下部设有机架(40-6)；室体连接处设有密封装置(40-4)；室体(40-1)内与滑阀泵机组、罗茨泵(90-5)相连通；B低真空室(40)的真空度为1Pa-350Pa。
5.权利要求1所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，其特征在于：所述的高真空室(50)包括有室体(50-1)，其内设有隔板(50-1-1)将室体(50-1)分隔成2-4个真空室；在室体(50-1)的两端及隔板(50-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；室体(50-1)的上部设有上盖(50-2)，其间设有上盖密封装置(50-4)，下部设有机架(50-3)；室体连接处设有密封装置(50-5)；室体(50-1)内与扩散泵、滑阀泵机组、罗茨泵(90-6)相连通；高真空室(50)的真空度为7×10-3Pa-5Pa。
6.如权利要求1所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，其特征在于：所述的镀膜室(60)包括有室体(60-1)；其内设有隔板(60-1-1)将室体(60-1)分隔成2-4个真空室；在室体(60-1)的两端及隔板(60-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(60-1)内设有平面磁控靶或电子枪(60-3)；室体(60-1)的上部设有上盖(60-2)，其间设有上盖密封装置(60-6)，中部设有观察窗(60-4)，下部设有机架(60-5)；室体连接处设有密封装置(60-7)；镀膜室(60)的真空度为0.1Pa-1Pa。
7.如权利要求1所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，其特征在于：所述的收卷机组(80)包括有在真空镀膜室外金属薄板带(1)上设有贴保护膜机构(80-1)，3#S辊(80-2)与4#S辊(80-4)之间设有出口金属薄板带(1)张紧轮系统(80-3)；在4#S辊(80-4)之后设有剪切(80-5)，夹送辊(80-6)，卷取(80-7)，卸卷(80-8)。
8.如权利要求1所述的太阳能选择性吸收膜的连续卷绕镀膜装置，其特征在于：所述的连续镀膜装置的控制系统(100)包括有计算机集中控制机柜(100-1)，过程控制接口模块机柜(100-2)，真空系统控制机柜(100-3)，传动系统控制机柜(100-4)，真空离子处理电源机柜连续镀膜电源机柜(100-5)，收卷操作辅助控制机柜(100-6)和开卷操作辅助控制机柜(100-7)。
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